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公开(公告)号：CN110682185B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201910856844.9
申请日：2019-09-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于脉冲压缩光栅制作的高精度曝光透镜加工方法，该方法包括搭建自准直干涉检测装置、曝光透镜非球面的铣磨加工、研抛、精密抛光和平滑处理，并在研抛、精密抛光和平滑处理过程采用所述的自准直干涉检测装置对待加工曝光透镜的透过波前进行干涉仪测量，保障每一步都达到各自的要求。该方法避免补偿镜引入的自身误差以及装调误差，采用高效高精度数控加工工艺，解决了曝光透镜数控加工全频段误差问题，最终提高了曝光波长下的全频段波面质量，为高精度脉冲压缩光栅的制作奠定了基础。
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公开(公告)号：CN109205504A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201811035890.4
申请日：2018-09-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种大口径光栅基板运输上下机床装置，装置包括液压升降车、移动式承载架、气动升降台、固定用锁定挡块、升降车台面上导轨、液压缸、小滚轮、固定销、气液增压缸、定位杆、升降车平台、大理石平台上轨道组件。液压升降车用于装载大口径光栅基板水平运输与垂直移动，移动承载架用于携载大口径光栅基板从升降车平台沿导轨移动到机床平台上，气动升降台用于调整大口径光栅基板在机床平台垂直方向的位置使基板落于加工平台上。本发明结构紧凑，装置体积适应光栅基板尺寸，体积利用率高，适合在有限空间内灵活移动，同时整个过程单人即可操作，大大节省人力。
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公开(公告)号：CN104772661A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510149320.8
申请日：2015-04-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B13/02
Abstract: 本发明公开了一种全频段高精度非球面加工方法，该方法主要包括以下步骤：1)用干涉仪检测铣磨成形后的待加工非球面面形；2)根据待加工面形误差数据，选择合适的柔性抛光小工具，结合该小工具的去除函数，确定数控机床的加工参数。3)将待加工非球面元件放置在机床加工平台上，输入加工参数，并采用变步距螺旋加工路径执行抛光工艺。4)一个周期抛光结束后，对非球面元件进行面形检测，根据面形误差数据的反馈情况，重复步骤2、3、4直至非球面的低频面形精度达标。5)对低频面形精度达标的面形数据进行PSD分析，根据PSD曲线确定的中高频误差频率分布特征，选择较大口径的柔性抛光小工具，再对非球面元件进行光顺工艺加工，重复数次直至中高频误差得到有效控制。本发明实现了仅使用CCOS数控小磨头机床便完成了非球面光学元件的全频段高精度加工。
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公开(公告)号：CN114800140A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210433643.X
申请日：2022-04-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种配备机器人使用的双转子研磨抛光工具，包括机器人本体，双转子研磨抛光工具头。所述的双转子研磨抛光工具头包括工具头连接固定法兰盘、伺服电机、同步带轮、伸缩气缸、直线导轨、角接触球轴承、燕尾槽滑台、公转轴、自转轴、公转法兰连接座、公转滑动支架、自转轴连接座、自转轴承座、研磨抛光盘连接夹头和研磨抛光盘。本发明可完成光学元件的研磨、抛光和高精度修形，因为使用的机器人具有相对结构简单、操控性能稳定、低廉、灵活，适合多工位加工，不用频繁的移动加工元件，提高了光学元件表面的面形和加工周期。
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公开(公告)号：CN109205504B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201811035890.4
申请日：2018-09-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种大口径光栅基板运输上下机床装置，装置包括液压升降车、移动式承载架、气动升降台、固定用锁定挡块、升降车台面上导轨、液压缸、小滚轮、固定销、气液增压缸、定位杆、升降车平台、大理石平台上轨道组件。液压升降车用于装载大口径光栅基板水平运输与垂直移动，移动承载架用于携载大口径光栅基板从升降车平台沿导轨移动到机床平台上，气动升降台用于调整大口径光栅基板在机床平台垂直方向的位置使基板落于加工平台上。本发明结构紧凑，装置体积适应光栅基板尺寸，体积利用率高，适合在有限空间内灵活移动，同时整个过程单人即可操作，大大节省人力。
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公开(公告)号：CN106312697A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610912526.6
申请日：2016-10-20
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种高精度矩形光楔的加工方法，通过对待加工楔板进行透射面形以及楔角的干涉测量分析，计算出等效面形误差；采用数控加工工艺流程完成楔板的透射面形精度以及楔角的精度满足指标要求。本发明解决了矩形光楔加工过程中，由于其长宽比较大导致透过面形与楔角难以控制的问题；且与传统单块加工方法相比，无需专用工装，从而提高了加工效率和降低了加工成本，有效的提高了光楔加工效率，并实现了对光楔透射面形精度以及楔角精度的高精度加工。
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公开(公告)号：CN111189386B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202010031881.9
申请日：2020-01-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种修正离轴抛物面反射镜干涉测量面形投影畸变的方法。本发明根据已知离轴抛物面母镜、离轴子镜与干涉仪三者之间的位置关系，通过坐标投影变换计算并结合相应的标定方法，可以简便快速的实现对离轴抛物面反射镜干涉测量投影畸变的修正，为高精度离轴抛物面的加工奠定了基础。
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公开(公告)号：CN110686869B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201910842648.6
申请日：2019-09-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种等厚离轴抛物面反射镜特征参量的高精度测量方法，本发明采用的检测系统包括激光干涉仪，离轴抛物面反射镜，标准平面反射镜，基准十字分划板，小平面基准反射镜，经纬仪以及带光栅尺的导轨。采用光学非接触式的高精度测量方法，能同时实现等厚离轴抛物面反射镜离轴量、离轴角、等厚角以及焦距的关键特征参量高精度测量，为离轴反射曝光系统的高精度加工及装调奠定了基础。
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公开(公告)号：CN109141287B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201811197087.0
申请日：2018-10-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于空间光调制器的点光源阵列发生器包括激光器、扩束镜、准直镜、起偏器、空间光调制器、计算机和成像透镜；及点光源阵列获得方法，包括计算点光源阵列发生器所需离轴抛物面镜结构和光学参数，设计对应灰度图；将设计灰度图通过计算机加载到空间光调制器上，激光器发出的光经扩束准直系统及起偏器后，形成平行光入射到二维空间光调制器上，经空间光调制器调制后，在透镜焦平面处获得二维点光源阵列。本发明易实现，灵活性高，获得的点源阵列参数精度高，通用性强，符合倾斜波面非零位干涉系统点光源阵列发生器需求。
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