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公开(公告)号：CN106649916B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201610817186.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种条形束斑离子束抛光的面形重构及扫描路径规划方法，使条形束斑离子束适用于复杂曲面抛光，提高了离子束抛光效率和节省加工成本。根据本发明公开的表面材料去除量空间分布表示方法，可将任意连续光滑曲面分解为一系列一维分布的正弦波曲面，这样可极大减小了后续驻留时间算法中问题求解的计算复杂度，也可显著简化离子束抛光的扫描路径。
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公开(公告)号：CN106312697A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610912526.6
申请日：2016-10-20
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种高精度矩形光楔的加工方法，通过对待加工楔板进行透射面形以及楔角的干涉测量分析，计算出等效面形误差；采用数控加工工艺流程完成楔板的透射面形精度以及楔角的精度满足指标要求。本发明解决了矩形光楔加工过程中，由于其长宽比较大导致透过面形与楔角难以控制的问题；且与传统单块加工方法相比，无需专用工装，从而提高了加工效率和降低了加工成本，有效的提高了光楔加工效率，并实现了对光楔透射面形精度以及楔角精度的高精度加工。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106312797B
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201610836440.X
申请日：2016-09-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件，包括：行星双转子气压传动装置、关节式辅助施压机构和抛光盘，其特点在于所述的抛光盘的背面刻有同心圆沟槽，所述的关节式辅助施压机构由固定基座、活动关节和测力计组成。在光学元件边缘区域抛光过程中，通过该抛光组件对光学元件边缘区域压强分布进行调节，从而改变边缘区域材料去除量分布、达到抑制边缘效应的效果；另外，借助关节式辅助施压机构可有效减小振动幅度，从而提高抛光过程的可确定性。
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公开(公告)号：CN106649916A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201610817186.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种条形束斑离子束抛光的面形重构及扫描路径规划方法，使条形束斑离子束适用于复杂曲面抛光，提高了离子束抛光效率和节省加工成本。根据本发明公开的表面材料去除量空间分布表示方法，可将任意连续光滑曲面分解为一系列一维分布的正弦波曲面，这样可极大减小了后续驻留时间算法中问题求解的计算复杂度，也可显著简化离子束抛光的扫描路径。
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公开(公告)号：CN106312797A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610836440.X
申请日：2016-09-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件，包括：行星双转子气压传动装置、关节式辅助施压机构和抛光盘，其特点在于所述的抛光盘的背面刻有同心圆沟槽，所述的关节式辅助施压机构由固定基座、活动关节和测力计组成。在光学元件边缘区域抛光过程中，通过该抛光组件对光学元件边缘区域压强分布进行调节，从而改变边缘区域材料去除量分布、达到抑制边缘效应的效果；另外，借助关节式辅助施压机构可有效减小振动幅度，从而提高抛光过程的可确定性。
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公开(公告)号：CN106312697B
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201610912526.6
申请日：2016-10-20
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种高精度矩形光楔的加工方法，通过对待加工楔板进行透射面形以及楔角的干涉测量分析，计算出等效面形误差；采用数控加工工艺流程完成楔板的透射面形精度以及楔角的精度满足指标要求。本发明解决了矩形光楔加工过程中，由于其长宽比较大导致透过面形与楔角难以控制的问题；且与传统单块加工方法相比，无需专用工装，从而提高了加工效率和降低了加工成本，有效的提高了光楔加工效率，并实现了对光楔透射面形精度以及楔角精度的高精度加工。
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