一种元件激光损伤测量方法及装置

    公开(公告)号:CN106289727B

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201610599309.6

    申请日:2016-07-27

    Abstract: 本发明提供一种元件激光损伤测量方法及装置。测量时,对每一个预设测试点采用基本相同的能量和能量密度的激光脉冲进行逐次多发次辐照,并实时监测测试点的光学图像以判断该测试点是否产生功能性损伤,同时在线获取每一次辐照时的激光能量密度值;然后根据测试点的功能性损伤判定结果及在线激光能量密度值计算生成元件的功能性损伤测量曲线。这种元件激光损伤测量方法的测量结果准确度高、收敛速度快,多次测量所得测量曲线之间的偏差较小,还能有效降低不同测量人员之间及测量次序等人为因素对最终测量结果的影响。

    一种变角度透过率测量装置、测量系统及测量方法

    公开(公告)号:CN114414502A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210016317.9

    申请日:2022-01-07

    Abstract: 本发明涉及光谱透过率测量技术领域,具体公开了一种变角度透过率测量装置、测量系统及测量方法,测量装置包括光阑、光陷阱以及转动组件,其中:转动组件包括电机,以及与电机输出端传动连接的旋转台;旋转台位于光陷阱的中心轴线上;光陷阱上开设有入光孔和出光孔,入光孔和出光孔所在的连接线与光陷阱的中心轴线相交;光阑安装于光陷阱的前侧,光阑上设有入射孔,且入射孔位于入光孔和出光孔所在的连接线上。本发明实现在所需角度区间下对测试样品的光透过率进行测量,节约了手动测量所花费的大量时间,提高了测试准确度与精度,非常适用于实验测量。

    一种挡板修正方法、镀膜方法和装置

    公开(公告)号:CN111286699B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202010222435.6

    申请日:2020-03-25

    Abstract: 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置,用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正,所述方法包括:获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹,以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚,以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角;根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形;根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形,计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚,所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的;根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚,对所述待修正挡板进行修正,得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正,可以提高挡板修正的精确和效率。

    薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN113267454A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110581657.1

    申请日:2021-05-26

    Abstract: 本申请提供涉及一种薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质,涉及薄膜品质控制领域。上述薄膜品质检测方法包括:根据薄膜样品的物理数学模型和所述薄膜样品经椭偏检测获得的椭偏检测曲线,以薄膜材料的本征折射率色散表达式为特征参数,反演生成所述薄膜样品的椭偏模拟曲线;计算所述椭偏检测曲线与所述椭偏模拟曲线的拟合度;在所述拟合度接近或大于预设拟合度阈值时,确定所述薄膜样品的品质达到预设标准。能够解决现有技术中对薄膜品质检测精度低,检测工序复杂以及评判标准缺乏量化指标等问题。

    一种元件激光损伤测量方法及装置

    公开(公告)号:CN106289727A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610599309.6

    申请日:2016-07-27

    CPC classification number: G01M11/00

    Abstract: 本发明提供一种元件激光损伤测量方法及装置。测量时,对每一个预设测试点采用基本相同的能量和能量密度的激光脉冲进行逐次多发次辐照,并实时监测测试点的光学图像以判断该测试点是否产生功能性损伤,同时在线获取每一次辐照时的激光能量密度值;然后根据测试点的功能性损伤判定结果及在线激光能量密度值计算生成元件的功能性损伤测量曲线。这种元件激光损伤测量方法的测量结果准确度高、收敛速度快,多次测量所得测量曲线之间的偏差较小,还能有效降低不同测量人员之间及测量次序等人为因素对最终测量结果的影响。

    一种大面积粒子流增减材均匀性控制方法

    公开(公告)号:CN119411081A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202411564174.0

    申请日:2024-11-05

    Abstract: 本发明公开了一种大面积粒子流增减材均匀性控制方法,包括以下步骤:按照粒子流在真空环境下的流场行进方向,调整粒子流产生源、粒子流机械调控装置、粒子流气体流场调控装置和基板夹持装置在真空腔室内的相对位置;将基板装载到基板夹持装置上;抽运空气,形成真空环境;启动基板装夹装置进行自转或行星运动;通过气体导管向粒子流气体流场调控装置充入气体;启动粒子流机械调控装置;启动粒子流产生源,对基板表面进行增减材处理;完成对基板表面的增减材处理后,用采样法检验增减材的均匀性效果,得到增减材效果达标的基板。基于粒子流与气体流场之间的相互作用原理,提高了大口径光学元件增减材效果的微观属性均匀性、元件性能和合格率。

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