公开(公告)号：CN103928508A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201410179067.6

申请日：2014-04-29

Applicant: 东南大学

Inventor： 孙伟锋 ,  杨卓 ,  喻慧 ,  祝靖 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/739 ,  H01L29/06

CPC classification number: H01L29/7393 ,  H01L29/0615

Abstract: 本发明涉及一种低噪声低损耗绝缘栅双极型晶体管，包括P型集电区、N型缓冲层、N型漂移区、槽栅结构、第一P型体区、第二P型体区、N型发射极体区、高掺杂N型埋层、发射极金属。其特征在于所述的高掺杂N型埋层位于第二P型体区内部表面下方，由此通过增加器件的表面电阻大大改善空穴的电流路径，使得器件在开关过程中位移电流大大降低，过冲大为减小，噪声大幅减弱。同时，由于保留了传统结构中的第二P型体区，也保留了传统结构良好的正向导通压降与关断损耗的折中关系。此结构工艺简单，易于实现。

公开(公告)号：CN115358049A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202210877149.2

申请日：2022-07-25

Applicant: 悉地(苏州)勘察设计顾问有限公司 ,  东南大学

Inventor： 孟繁茹 ,  杨小丽 ,  陆敏博 ,  沈昊 ,  刘畅 ,  马宇辉 ,  杨卓

IPC: G06F30/20 ,  G06F111/10 ,  G06F113/08

Abstract: 本发明公开了一种基于初雨径流控制的LID系统数值模拟优化方法，包括步骤1：构建包括SWMM模型子汇水分区、管段、管网节点等在内的SWMM模型基础框架；步骤2：基于所构建SWMM模型模拟计算LID设施水量水质削减率，并绘制LID设施水量水质削减率效能曲线；步骤3：基于效能曲线，结合雨水控制目标和实地情况，选择LID设施并确定LID设施建设面积，以优化LID设施组合设计。本发明能够有效提升LID设施在海绵城市工程中的针对性及适用性，同时降低建设成本。

公开(公告)号：CN106024910B

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201610363983.4

申请日：2016-05-26

Applicant: 东南大学

Inventor： 孙伟锋 ,  童鑫 ,  杨卓 ,  宋慧滨 ,  祝靖 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/861 ,  H01L29/78 ,  H01L21/336 ,  H01L21/329

Abstract: 一种鳍式快恢复超结功率半导体晶体管及其制备方法，包括N型衬底，在N型衬底上设有N型外延层，在N型外延层的内设有柱状第二P型体区，在N型外延层的顶部设有第一P型体区且区位于两柱状第二P型体区之间，其表面设有N型重掺杂源区和P型重掺杂半导体接触区，在N型重掺杂源区、P型重掺杂半导体接触区和第二P型体区上连接有源极金属，在第一P型体区的两侧分别设有多晶硅栅，柱状第二P型体区止于多晶硅栅的下表面，且柱状第二P型体区低于第一P型体区，在多晶硅栅与第一P型体区、N型外延层及第二P型体区之间设有栅氧化层，在多晶硅栅与源极金属之间设有绝缘层，并且，栅氧化层使第一P型体区与第二P型体区相互分离。

公开(公告)号：CN107180865A

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201710530001.0

申请日：2017-06-30

Applicant: 东南大学

Inventor： 孙伟锋 ,  李胜 ,  徐志远 ,  杨卓 ,  张小双 ,  刘斯扬 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/739 ,  H01L21/331

Abstract: 一种低噪声低损耗绝缘栅双极型晶体管，包括：底部设有集电极金属电极的P型衬底，在P型衬底上方设有N型缓冲层，N型缓冲层上设有N型外延层，在N型外延层内设有一维阵列分布的P型体区，并在其中设有重掺杂N型发射区，在P型体区与N型外延层之间设有N型载流子存储层，所述晶体管还包括按一维阵列分布的侧壁覆盖有隔离氧化层的沟槽，各个沟槽横向贯穿各P型体区、重掺杂N型发射区及N型外延层，在沟槽内设有和金属层相连的二极管，在各沟槽下方分别设有重掺杂P阱；在位于相邻沟槽之间的N型外延层的上方分别设有栅氧化层，在栅氧化层上方覆盖有多晶硅栅极；将各个重掺杂N型发射区、P型体区和第二金属连接层连接，作为器件的发射极。

公开(公告)号：CN106024892A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610363982.X

申请日：2016-05-26

Applicant: 东南大学

Inventor： 祝靖 ,  周锦程 ,  杨卓 ,  宋慧滨 ,  孙伟锋 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/06 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L29/78 ,  H01L29/0688 ,  H01L29/66409

Abstract: 一种高雪崩耐量的空穴电流分流型功率晶体管及其制备方法，包括：兼做漏区的N型掺杂硅衬底上设有N型掺杂硅外延层，N型掺杂硅外延层表面设有沟槽，在沟槽内设有场氧层，在场氧层内设有屏蔽栅和栅极，栅极位于屏蔽栅的两侧且位于场氧层的顶部，在栅极与屏蔽栅之间设有绝缘介质层，同时，在栅极与外延层之间设有栅氧层，外延层的表面设有P型体区，P型体区的表面设有P型源区和N型源区，器件表面覆盖绝缘介质层，源极金属通过绝缘介质层上的通孔与重掺杂N型源区和重掺杂P型源区接触，屏蔽栅还与源极金属接触，在场氧层内设有位于栅极下方的P型多晶硅导电沟道，P型多晶硅导电沟道的一端连于N型掺杂硅外延层，另一端连于屏蔽栅。

公开(公告)号：CN105914233A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201610365220.3

申请日：2016-05-26

Applicant: 东南大学

Inventor： 祝靖 ,  卞方娟 ,  杨卓 ,  黄智 ,  孙伟锋 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/423 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L29/78 ,  H01L29/4232 ,  H01L29/66477

Abstract: 一种高鲁棒性快恢复超结功率半导体晶体管及其制备方法。晶体管含N型漏极，N型漏极上设有N型外延层，再设第一、二条形P型体区、第一P型体区，在第一P型体区内设有至少2个沟槽栅、重掺杂N型源极及第二P型体区，在沟槽栅的上端设有第一场氧化层，重掺杂N型源极位于第一P型体区的上部且限制在沟槽栅之间，第二P型体区位于重掺杂N型源极的下方且通过第一接触金属与源极金属层连接。方法是在衬底生长N型外延层，蚀出深沟槽，制作第一、第二条形P型体区，再制作沟槽栅、第一P型体区、重掺杂N型源极，然后淀积铝形成源极金属层和第一接触金属，最后制作N型漏极。本发明能有效改善体二极管的反向恢复特性并能提高器件的可靠性。

公开(公告)号：CN103779404B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201410035881.0

申请日：2014-01-24

Applicant: 东南大学

Inventor： 孙伟锋 ,  杨卓 ,  陈健 ,  郭超 ,  祝靖 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/739 ,  H01L29/06

Abstract: P沟道注入效率增强型绝缘栅双极型晶体管，属于功率半导体器件技术领域，本发明是在传统SOI-LIGBT器件结构基础上，在多晶硅栅下方分别引入第一N型体区和P型体区。在正向导通时，高的N型体区掺杂浓度或厚度，抬高了电子的势垒，增强了发射极附近载流子的浓度，从而获得更好的载流子分布，降低了器件的正向导通压降并获得了更好的正向导通压降和关断损耗的折中关系，同时提高了器件的饱和电流能力。在正向阻断时，多晶硅栅相当于一个场板，导致器件耐压由第一N型体区与P型外延层耗尽决定，因此P型体区浓度可以大幅提高，且不会影响器件的耐压。

公开(公告)号：CN103928507A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201410151709.1

申请日：2014-04-15

Applicant: 东南大学

Inventor： 孙伟锋 ,  杜益成 ,  杨卓 ,  祝靖 ,  徐申 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/739 ,  H01L29/06 ,  H01L29/423

CPC classification number: H01L29/7393 ,  H01L29/0619 ,  H01L29/423

Abstract: 本发明提供能够改善逆导型绝缘栅双极型晶体管电流回跳现象，并且提高关断速率，改善耐压的半导体器件。该半导体具备：P型衬底上设有埋氧层，其上设有漂移区，漂移区包含对角设置的第一N型漂移区与第一P型漂移区，以及对角设置的第二N型漂移区与第二P型漂移区；在第一N型漂移区和第二P型漂移区内设有P型体区，在P型体区内设有N型发射极区和P型集电极区，以及用于连接两者的阴极金属，且在P型体区的上表面上设有阴极栅氧化层及阴极多晶硅层；在第一P型漂移区与第二N型漂移区内设有N型体区，在N型体区内设有N型集电极区和P型发射极区，以及用于连接两者的阳极金属，且在N型体区的上表面上设有阳极栅氧化层及阳极多晶硅层。

公开(公告)号：CN102646711A

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201210101013.9

申请日：2012-04-06

Applicant: 东南大学

Inventor： 钱钦松 ,  祝靖 ,  张龙 ,  杨卓 ,  孙伟锋 ,  陆生礼 ,  时龙兴

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/06

Abstract: 一种具有P型埋层的超结纵向双扩散金属氧化物半导体管，包括：兼做漏区的N型掺杂硅衬底、N型掺杂硅外延层、超结结构，所述的N型掺杂硅外延层设在N型掺杂硅衬底上，超结结构设在N型硅掺杂半导体区上，所述的超结结构由相互间隔的P型柱和N型柱组成，在P型柱上有第一P型掺杂半导体区，且第一P型掺杂半导体区位于N型掺杂外延层内，在第一P型掺杂半导体区中设有第二P型重掺杂半导体接触区和N型重掺杂半导体源区，其特征在于，在N型柱表面有轻掺杂的P型埋层，且P型埋层在N型柱内。

公开(公告)号：CN116751972A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202310570849.1

申请日：2023-05-19

Applicant: 东南大学

Inventor： 黄瑛 ,  葛飞 ,  熊振峰 ,  杨卓

IPC: C22B3/16 ,  C22B11/00 ,  C22B7/00

Abstract: 本发明公开了高效环保回收金的浸金剂及制备方法和用途，该浸金剂成分为可溶于水含酰亚胺基卤素有机物，将可溶于水的含酰亚胺基卤素有机物加入到水溶液中，搅拌溶解。该浸金剂主要应用于含金物料中金的浸出及回收，在较低时间和常温条件下取得高浸金率，且对含金物料中其他主要金属的浸出率低，可以实现金与杂质金属的分离，取得对金的选择性浸出。本发明的浸金剂低毒、二次污染小、浸出条件温和，可应用于含金工业废料、金矿石等多种含金物料中金的选择性回收，可实现大范围推广。