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公开(公告)号：CN1671519A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN03817941.5
申请日：2003-09-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B25J9/22
CPC classification number: H01L21/67745 , B25J9/1666 , G05B19/00 , G05B2219/36468 , H01L21/67276
Abstract: 本发明提供一种大幅削减并缩短教学操作时间的教学方法，该方法将具有搬运机构的处理系统中所述搬运机构的移动目标位置存储于控制装置，所述搬运机构以拾取器保持并搬运被处理体，其工序如下：在移动至临时目标位置的移动路径的途中，在所述搬运机构与其它部件有干涉危险的干涉注意位置，为了确认与其它部件不发生干涉，将所述搬运机构临时停止的临时停止工序；通过移动指令的输入，将临时停止的所述搬运机构再次开始移动的移动再开工序；重复进行所述临时停止工序和移动再开工序的重复工序；在所述拾取器到达所述临时移动目标位置时，调整移动所述拾取器的位置，或者不进行调整移动，并将该位置作为移动目标位置存储于所述存储装置的存储工序。
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公开(公告)号：CN100505202C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200680000424.1
申请日：2006-06-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67745 , H01L21/67276 , H01L21/67742
Abstract: 处理系统(100)包括：搬送室(150)、与搬送室相连的多个室(140、160)、附设在搬送室内的搬送装置(180)、控制搬送装置的控制部(200)。搬送装置包括能够滑动动作的基台(182)、能够旋转动作的搬送臂(185A、185B)。控制部具备存储部(290)和动作控制器(280)。存储部存储表示滑动动作以及旋转动作的复合动作的多个动作类型的类型模式信息(292)、以及与动作类型分别对应的时间动作轨道的轨道模式信息(294)。动作控制器从类型模式信息以及轨道模式信息中检索必要的信息，并根据这些信息来控制搬送装置的动作。
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公开(公告)号：CN100342519C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200480001008.4
申请日：2004-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 被处理基板(W)的搬送装置(20)包含可旋转的旋转基台(24)，在旋转基台上安装可伸屈的第1和第2臂机构(26，28)，第1和第2臂机构各自具有从旋转基台侧顺序地相互可旋转连接的基端臂(26A，28A)、中间臂(26B，28B)和鸟嘴部(26C，28C)，鸟嘴部按照支持被处理基板的方式设置，第1和第2臂机构的基端臂上连接连杆机构(30)，从而驱动第1和第2臂机构，为了旋转驱动旋转基台，配设第1驱动源(32)，为了旋转连杆机构以便使第1和第2臂机构伸屈，配设第2驱动源(34)。
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公开(公告)号：CN1310302C
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN03816556.2
申请日：2003-09-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/68 , B65G49/07 , H01L21/205 , H01L21/285
CPC classification number: H01L21/67167 , H01L21/67184 , H01L21/67745
Abstract: 本发明涉及具有包含对被处理体进行易产生污染的特定处理室的多个处理室，和具有2个拾取器的输送机构的处理装置中的被处理体的输送方法，本发明的方法具有在所述多个处理室之间穿行地顺序输送被处理体的多个输送工序，在把所述被处理体搬入所述特定处理室前为止的输送工序，用所述2个拾取器一方拾取器进行，在把所述被处理体搬入所述特定处理室的输送工序及其以后的该被处理体的输送工序用所述2个拾取器的另一拾取器进行。
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公开(公告)号：CN1701432A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480001008.4
申请日：2004-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 被处理基板(W)的搬送装置(20)包含可旋转的旋转基台(24)，在旋转基台上安装可伸屈的第1和第2臂机构(26，28)，第1和第2臂机构各自具有从旋转基台侧顺序地相互可旋转连接的基端臂(26A，28A)、中间臂(26B，28B)和鸟嘴部(26C，28C)，鸟嘴部按照支持被处理基板的方式设置，第1和第2臂机构的基端臂上连接连杆机构(30)，从而驱动第1和第2臂机构，为了旋转驱动旋转基台，配设第1驱动源(32)，为了旋转连杆机构以便使第1和第2臂机构伸屈，配设第2驱动源(34)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112786429A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202110190351.3
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。等离子体处理系统具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。
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公开(公告)号：CN112786428A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202110190340.5
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种拾取器、搬送装置以及等离子体处理系统。所述拾取器保持基板和聚焦环，所述拾取器具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接。
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公开(公告)号：CN107622935B
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201710572034.1
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。该聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用，更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环，该聚焦环更换方法的特征在于，包括以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台，通过这样的聚焦环更换方法解决上述问题。
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公开(公告)号：CN101006574A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200680000424.1
申请日：2006-06-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67745 , H01L21/67276 , H01L21/67742
Abstract: 处理系统(100)包括：搬送室(150)、与搬送室相连的多个室(140、160)、附设在搬送室内的搬送装置(180)、控制搬送装置的控制部(200)。搬送装置包括能够滑动动作的基台(182)、能够旋转动作的搬送臂(185A、185B)。控制部具备存储部(290)和动作控制器(280)。存储部存储表示滑动动作以及旋转动作的复合动作的多个动作类型的类型模式信息(292)、以及与动作类型分别对应的时间动作轨道的轨道模式信息(294)。动作控制器从类型模式信息以及轨道模式信息中检索必要的信息，并根据这些信息来控制搬送装置的动作。
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公开(公告)号：CN1322570C
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN02826172.0
申请日：2002-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S414/135 , Y10S414/139
Abstract: 构成处理系统的一部分的主搬送装置具有间隔成真空环境的主搬送室(44)的壳体(40)。在壳体(40)上形成用于在搬送室(44)和外部之间移送被处理体(W)的多个移送口(52A、52B)。在搬送室(44)内水平设置的导轨(48)上，滑动自由地安装移动体(58)。具有沿着导轨(48)移动移动体(58)的线性马达机构(54、62)。保持被处理体(W)的保持体(64)通过支持部件(66)相对移动体(5 8)升降自由地连接。在与壳体(40)的移送口(52A、52B)对应的位置，设置相对移动体(58)升降支持部件(66)的升降机构(74)。
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