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公开(公告)号：CN112786429B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202110190351.3
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。等离子体处理系统具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。
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公开(公告)号：CN102097292A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010531377.1
申请日：2010-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B08B6/00 , H01L21/67028 , H01L21/67742 , H01L21/6833
Abstract: 本发明提供去除附着在运送臂上的污染物的运送臂的清洁方法、基片处理装置及其清洁方法。通过提供运送臂的清洁方法来解决上述问题，该清洁方法是一种用于进行基片的运送并具有静电吸盘的运送臂的清洁方法，其特征在于，在所述运送臂上附着有带电的异物的情况下，具有在所述运送臂上没有载置所述基片的状态下向所述静电吸盘的每个电极施加极性与带电的异物的电荷极性相同的电压的电压施加工序，并且去除附着在所述运送臂上的异物。
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公开(公告)号：CN1608318A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN02826172.0
申请日：2002-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S414/135 , Y10S414/139
Abstract: 构成处理系统的一部分的主搬送装置具有间隔成真空环境的主搬送室(44)的壳体(40)。在壳体(40)上形成用于在搬送室(44)和外部之间移送被处理体(W)的多个移送口(52A、52B)。在搬送室(44)内水平设置的导轨(48)上，滑动自由地安装移动体(58)。具有沿着导轨(48)移动移动体(58)的线性马达机构(54、62)。保持被处理体(W)的保持体(64)通过支持部件(66)相对移动体(58)升降自由地连接。在与壳体(40)的移送口(52A、52B)对应的位置，设置相对移动体(58)升降支持部件(66)的升降机构(74)。
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公开(公告)号：CN112786428B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202110190340.5
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种拾取器、搬送装置以及等离子体处理系统。所述拾取器保持基板和聚焦环，所述拾取器具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接。
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公开(公告)号：CN118762978A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410774769.2
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1669136A
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：CN03816556.2
申请日：2003-09-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/68 , B65G49/07 , H01L21/205 , H01L21/285
CPC classification number: H01L21/67167 , H01L21/67184 , H01L21/67745
Abstract: 本发明涉及具有包含对被处理体进行易产生污染的特定处理室的多个处理室，和具有2个拾取器的输送机构的处理装置中的被处理体的输送方法，本发明的方法具有在所述多个处理室之间穿行地顺序输送被处理体的多个输送工序，在把所述被处理体搬入所述特定处理室前为止的输送工序，用所述2个拾取器一方拾取器进行，在把所述被处理体搬入所述特定处理室的输送工序及其以后的该被处理体的输送工序用所述2个拾取器的另一拾取器进行。
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公开(公告)号：CN112786427B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202110190223.9
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
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公开(公告)号：CN117577503A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311592867.6
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
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公开(公告)号：CN112786427A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202110190223.9
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。
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公开(公告)号：CN107622935A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201710572034.1
申请日：2017-07-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石泽繁
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。该聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用，更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环，该聚焦环更换方法的特征在于，包括以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台，通过这样的聚焦环更换方法解决上述问题。
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