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公开(公告)号:CN119678249A
公开(公告)日:2025-03-21
申请号:CN202380058508.4
申请日:2023-11-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 近藤圭祐
IPC: H01L21/68
Abstract: 使搬送至少两个基板时的生产率提高。提供一种基板搬送系统,具备:搬送单元,其具有将至少两个基板以在水平方向上排列的方式一并保持的保持构件,搬送单元从搬送源向搬送目的地搬送被保持的该各基板;多个载置台,多个载置台设置于搬送目的地,在该搬送目的地,被保持于保持构件的各基板分别被载置于多个载置台;支承构件,其设置于各载置台,能够与各载置台相对地在上下方向上移动,支承构件在从保持构件向各载置台载置各基板的中途暂时支承各基板来使各该基板从保持构件分离;以及多个移动单元,多个移动单元使各支承构件分别在水平方向上独立地移动,其中,通过第一基板移动和第二基板移动来进行各基板相对于各载置台的位置调整,在第一基板移动中,通过搬送单元来使被保持于保持构件的状态的各基板在各载置台上移动,在第二基板移动中,通过移动单元来使被支承于各支承构件的状态的各基板在各载置台上移动。
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公开(公告)号:CN118511265A
公开(公告)日:2024-08-16
申请号:CN202380016272.8
申请日:2023-01-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 一种输送臂,其在大气气氛下真空吸附基板并进行输送,该输送臂具有保持基板的拾取部和设于所述拾取部的表面的多个保持盘,所述保持盘具有形成有真空吸附用的贯通孔且设于所述拾取部的表面的基部和在所述基部的表面呈环状设置且与基板的背面接触的环状部,在所述环状部的局部,在与该环状部的环状方向交叉的方向上形成有凸部。在大气气氛下输送基板的基板输送装置具有所述输送臂。
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公开(公告)号:CN108695202B
公开(公告)日:2022-04-05
申请号:CN201810269345.5
申请日:2018-03-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种小型的处理系统,其包括对晶片等的多个被处理体一并进行规定的处理的多反应器式的真空处理室,能够以高生产率对被处理体进行处理。本发明的处理系统(1)中,多反应器式的真空处理室(101~104)沿着规定的方向设置,输送设备3)分别沿着上述规定的方向设置,具有分别沿着上述规定的方向输送晶片(W)的第一共用输送装置和第二共用输送装置(30、31),第一共用输送装置(30)从与上述规定的方向正交的方向的一方与真空处理室(101~104)分别连接,第二共用输送装置(31)从与上述规定的方向正交的方向的另一方与真空处理室(101~104)分别连接。
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公开(公告)号:CN101542708B
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200880000192.9
申请日:2008-05-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 近藤圭祐
IPC: H01L21/677 , G05B19/404
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/681
Abstract: 本发明提供位置偏移检测装置以及使用了该装置的处理系统。该位置偏移检测装置设置在将多个臂部可互相回转地串联连接起来、并在最顶端的臂部保持被处理体从而输送被处理体的输送机构上,用于检测被处理体的位置偏移,其特征在于,包括边缘检测部件和位置偏移检测部;上述边缘检测部件设置在多个臂部中的除了最顶端的臂部以外的臂部上,用于至少检测被保持在最顶端的臂部上的被处理体的边缘;上述位置偏移检测部根据该边缘检测部件的检测值求出被处理体的位置偏移。
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公开(公告)号:CN101542708A
公开(公告)日:2009-09-23
申请号:CN200880000192.9
申请日:2008-05-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 近藤圭祐
IPC: H01L21/677 , G05B19/404
CPC classification number: H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/681
Abstract: 本发明提供位置偏移检测装置以及使用了该装置的处理系统。该位置偏移检测装置设置在将多个臂部可互相回转地串联连接起来、并在最顶端的臂部保持被处理体从而输送被处理体的输送机构上,用于检测被处理体的位置偏移,其特征在于,包括边缘检测部件和位置偏移检测部;上述边缘检测部件设置在多个臂部中的除了最顶端的臂部以外的臂部上,用于至少检测被保持在最顶端的臂部上的被处理体的边缘;上述位置偏移检测部根据该边缘检测部件的检测值求出被处理体的位置偏移。
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公开(公告)号:CN100336634C
公开(公告)日:2007-09-12
申请号:CN200380104441.6
申请日:2003-11-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B25J9/22
CPC classification number: H01L21/67167 , H01L21/67184 , H01L21/67259 , H01L21/68
Abstract: 公开了在由多个装置(真空处理装置、负载锁定室、定位仪)组成的集束系统中,决定定义输送机构的拾取器件的向各装置的进出点的输送位置坐标的方法。(1)各输送机构的各拾取器件对各装置的输送位置坐标,以粗精度被临时决定。(2)确定第一输送机构的各拾取器件对位置对准装置的输送位置坐标。(3)确定第一及第二输送机构的各拾取器件的对位置对准装置以外的输送位置坐标的一部分的输送位置坐标。(4)位置对准用被输送物,经由通过1个被临时决定的未确定的输送位置坐标的输送路径,被输送到位置对准装置。求出被保持在位置对准装置上的位置对准用被输送物的位置偏差量被求出。根据该位置偏差量,修正所述输送位置坐标的1个,该被修正的输送位置坐标被确定为输送位置坐标。(5)在被临时决定的输送位置坐标全部被确定之前,反复进行(4)。
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公开(公告)号:CN1794422A
公开(公告)日:2006-06-28
申请号:CN200510132325.6
申请日:2005-12-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 近藤圭祐
Abstract: 本发明提供一种真空处理装置用开闭机构,包括:连杆机构,由用于闭塞第一及第二开口部的第一及第二阀体向着相反方向而配置在前端部的阀体支撑部件、和通过旋转轴可自由旋转地安装在该阀体支撑部件的后端部的基端侧部件构成;引导机构,限制所述阀体支撑部件的上下移动范围、并在所述第一及第二阀体水平移动的方向上可旋转地支撑所述阀体支撑部件;在上下方向上且在最上部在水平方向上使所述旋转轴移动的第一及第二引导部件;和使所述第一引导部件及所述第二引导部件以及所述基端侧部件上下移动的第一及第二上下移动机构。
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公开(公告)号:CN1717302A
公开(公告)日:2006-01-04
申请号:CN200380104441.6
申请日:2003-11-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B25J9/22
CPC classification number: H01L21/67167 , H01L21/67184 , H01L21/67259 , H01L21/68
Abstract: 公开了在由多个装置(真空处理装置、负载锁定室、定位仪)组成的集束系统中,决定定义输送机构的拾取器件的向各装置的进出点的输送位置坐标的方法。(1)各输送机构的各拾取器件对各装置的输送位置坐标,以粗精度被临时决定。(2)确定第一输送机构的各拾取器件对位置对准装置的输送位置坐标。(3)确定第一及第二输送机构的各拾取器件的对位置对准装置以外的输送位置坐标的一部分的输送位置坐标。(4)位置对准用被输送物,经由通过1个被临时决定的未确定的输送位置坐标的输送路径,被输送到位置对准装置。求出被保持在位置对准装置上的位置对准用被输送物的位置偏差量被求出。根据该位置偏差量,修正所述输送位置坐标的1个,该被修正的输送位置坐标被确定为输送位置坐标。(5)在被临时决定的输送位置坐标全部被确定之前,反复进行(4)。
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公开(公告)号:CN110034047B
公开(公告)日:2023-05-05
申请号:CN201910003753.0
申请日:2019-01-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/677
Abstract: 本发明的晶片抓持机构(1)是能够在固定夹持部(20b)与可动夹持部(21b)之间抓持基片的装置,其中固定夹持部(20b)与晶片的缘部卡合,可动夹持部(21b)能够在致动器(22)的动作下相对于固定夹持部(20b)进退移动,该晶片抓持机构(1)包括:与可动夹持部(21b)联动地动作的踢挡件(23);和各自具有不同的检测区域并且能够检测在该检测区域是否存在踢挡件(23)的第一传感器(24a)和第二传感器(24b),踢挡件(23)具有在可动夹持部(21b)的进退方向相连的第一部分~第四部分,第一部分~第四部分各自具有由第一传感器(24a)和第二传感器(24b)检测的检测结果彼此不同的形状。
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公开(公告)号:CN106716617A
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201580050468.4
申请日:2015-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 近藤圭祐
IPC: H01L21/677 , H01L21/3065
Abstract: 提供一种基板搬送方法,使用具有第一拾取器和第二拾取器的搬送机构在热处理室与不同于该热处理室的其他室之间依次搬送基板,所述基板搬送方法包括:第一步骤,将未处理的基板保持在所述第一拾取器上,搬送至所述热处理室;第二步骤,将在所述热处理室中热处理过的处理后基板保持在所述第二拾取器上并将所述第一拾取器所保持的未处理的基板搬入所述热处理室;第三步骤,将保持在所述第二拾取器上的处理后基板搬送至所述其他室;和第四步骤,将所述其他室内的未处理的基板保持在所述第一拾取器中,在将所述第二拾取器所保持的处理后基板搬入到所述其他室之后,使所述第一拾取器和所述第二拾取器均成为未保持基板的状态。
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