公开(公告)号：CN103155133A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048707.4

申请日：2011-08-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67739

Abstract: 本发明提供一种能够平面地配置且展开多个处理腔室，并且能够实现工作效率（每单位时间处理基板的枚数）提高的基板处理系统。在基板处理系统设置有将基板从装载模块（22）搬送至用于进行处理的第一处理腔室（23）的第一搬送单元（28）和设置于第一搬送单元（28）的下方或上方，将基板从装载模块（22）搬送至用于进行处理的第二处理腔室（24）的第二搬送单元（31）。第一处理腔室（23）和第二处理腔室（24）在上下方向不重叠，配置于平面上错开的位置。此外，第一搬送单元（28）的至少一部分和第二搬送单元（31）的至少一部分在上下方向重叠。

公开(公告)号：CN101351878B

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200780001097.6

申请日：2007-08-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/681

Abstract: 本发明提供一种基板交接装置、基板处理装置、基板交接方法。不使用搬运臂、而仅用基板交接装置来校正基板的水平方向位置偏移。该基板交接装置具有：多个支承销(132A～132C)，它们绕载置台(112)的支承轴(114)分离开地配置，在基板下表面支承基板例如晶圆(W)；基台(134)，其安装有支承销；上下驱动部件(Z方向驱动部件138Z)，其借助基台上下驱动支承销，从而使晶圆W进行升降；水平方向驱动部件(X方向驱动部件138X、Y方向驱动部件138Y)，它们借助基台水平驱动支承销，以调整晶圆的水平方向(X、Y方向)位置的。

公开(公告)号：CN100397608C

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200480000334.3

申请日：2004-02-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745

Abstract: 半导体处理系统中的移送装置(17)包括能够分别在相互平行的有第一和第二垂直平面上移动的第一和第二支持部的第一和第二动作机构(9A、9B)。按照通过第一和第二动作机构以水平状态移动的方式由第一和第二支持部支持第一和第二移动台(18A、18B)。在第一和第二移动台上，分别配置着接收被处理基板(W)的能够伸缩的第一和第二搬运机构(19A、19B)。控制部(20)使第一和第二移动台互不干涉地控制第一和第二动作机构的动作。

公开(公告)号：CN101006574A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200680000424.1

申请日：2006-06-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 町山弥 ,  石泽繁 ,  小泉浩 ,  广木勤 ,  近藤圭祐

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67742

Abstract: 处理系统(100)包括：搬送室(150)、与搬送室相连的多个室(140、160)、附设在搬送室内的搬送装置(180)、控制搬送装置的控制部(200)。搬送装置包括能够滑动动作的基台(182)、能够旋转动作的搬送臂(185A、185B)。控制部具备存储部(290)和动作控制器(280)。存储部存储表示滑动动作以及旋转动作的复合动作的多个动作类型的类型模式信息(292)、以及与动作类型分别对应的时间动作轨道的轨道模式信息(294)。动作控制器从类型模式信息以及轨道模式信息中检索必要的信息，并根据这些信息来控制搬送装置的动作。

公开(公告)号：CN112582246A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN202010978160.9

申请日：2020-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供处理基片的装置和清洁工作台的方法。在基片处理装置的工作台载置要处理的基片，从液体供给部供给用于进行基片的温度调节的液体，该液体流过形成于工作台内的流路。控制部进行如下控制：在将上述流路内的流体从上述液体用从气体供给部供给的气体进行置换之后，用加热部将上述工作台加热到高于液体的使用温度的温度以除去附着物。本发明能够避免在伴随工作台的加热对温度调节用的液体造成影响的同时，对该工作台进行清洁。

公开(公告)号：CN105225984A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201510329345.6

申请日：2015-06-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/67

Abstract: 本申请是涉及一种包含可控制温度的加工台的系统、半导体制造装置及加工台的温度控制方法的发明。精密地控制载置台的温度。一实施方式的包含可控制温度的加工台的系统包括：圆盘状的平板，其具有载置基板的正面侧与背面侧；热交换器，其以如下方式而构成，即，对在平板的背面侧二维地排列的多个区域、即在平板的背面侧分割多个区的各个而成的所述多个区域个别地供给热交换介质，且个别地回收已供给到所述多个区域的热交换介质；及阀单元，针对每一区控制利用热交换器对多个区域的热交换介质的供给或阻断。

公开(公告)号：CN1922725A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200580006009.2

申请日：2005-02-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/68 ,  B25J9/06 ,  B25J13/08 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67167 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/681

Abstract: 本发明提供一种半导体处理装置，具备具有配置在横方向的不同位置上的多个搬送端口(33)的搬送室(3)。对被处理部件(W)实施半导体处理用的处理室(4A)通过多个搬送端口的一个与搬送室(3)连接。在搬送室(3)内配置搬送臂设备(5)用于通过多个搬送端口(33)搬送被处理基板(W)。配置驱动机构(55)用于使搬送臂设备(5)伸缩，同时绕铅直轴旋转。配置倾斜调整机构(6A～6C)用于调整搬送臂设备(5)的倾斜度。

公开(公告)号：CN1300834C

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN03804584.2

申请日：2003-01-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤 ,  佐伯弘明

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/6875 ,  Y10S414/139

Abstract: 在半导体处理系统中，支持机构(12A)用于与搬送臂(32)协作来移送被处理基板(W)。支持机构包括分别能升降且相对搬送臂能够接收基板的第一和第二保持部(38A～38C、40A～40C)。第一和第二保持部配置为能够在空间中相互不干扰地在垂直方向相对移动，保持具有实质相同水平坐标位置的基板。支持机构还包括分别升降第一和第二保持部的第一和第二驱动部(46、48)，以及控制第一和第二驱动部的控制部(68)，所述控制部控制第一和第二驱动部，使得利用所述第一和第二保持部来择一地保持基板。

公开(公告)号：CN1726365A

公开(公告)日：2006-01-25

申请号：CN200380106579.X

申请日：2003-12-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  日本发条株式会社

Inventor： 木村彻 ,  成岛大 ,  广木勤

IPC: F16J13/18

CPC classification number: F16J13/18 ,  F16J13/20 ,  Y10T16/53235 ,  Y10T16/53834

Abstract: 本发明提供一种盖体装置，用于开闭形成在本体(8)上的开口部(12)，包括具有作用面和其相反侧的背面的盖体(14)。盖体(14)通过摇臂(24)可开闭地安装在本体(8)上。摇臂(24)具有在开口部(12)的周围，将摇臂(24)可旋转地支持在本体(8)上的第1轴(26)、和将盖体(14)借助背面可摇动地支持在摇臂(24)上的第2轴(34)。第2轴(34)配置在盖体(14)的重心(C1)和第1轴(26)之间。在第1轴及第2轴(26、34)之间的限制位置，在摇臂(24)和盖体(14)的背面之间配置限制部件(50)。限制部件(50)控制限制位置上的摇臂(24)和盖体(14)背面间的距离，以使盖体(14)的作用面与开口部(12)平行。

公开(公告)号：CN1701431A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200480000878.X

申请日：2004-07-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 广木勤

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/00 ,  F16J3/04

CPC classification number: H01L21/67742 ,  F16J3/048

Abstract: 从内侧支撑波纹管(1)的构造具有在波纹管内部配设的、而且沿着波纹管轴向延伸的导轨(8)，沿着所述轴向，在导轨上可移动地配设移动部件(10)，移动部件和波纹管通过中间支撑部(5)连接。