公开(公告)号：CN105093834A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510136947.X

申请日：2015-03-26

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金美英 ,  朴惟廷 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  文俊怜 ,  宋炫知 ,  李忠宪 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩膜组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]*—A—B—*在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。

公开(公告)号：CN105575775A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510426921.9

申请日：2015-07-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金成旻 ,  金瑆焕 ,  金永珉 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  尹龙云 ,  李忠宪 ,  郑瑟基 ,  赵妍熹 ,  洪承希 ,  黄善民 ,  黄元宗 ,  李松世 ,  金命九 ,  刘奈莉

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/308 ,  G03F1/46 ,  G03F1/76 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。

公开(公告)号：CN104749880A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201410642246.9

申请日：2014-11-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金惠廷 ,  金相均 ,  金瑆焕 ,  金润俊 ,  文俊怜 ,  宋炫知

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩膜组合物和使用硬掩膜组合物形成图案的方法。所述硬掩膜组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]在以上化学式1中，A和B与本说明书中所定义的相同。