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公开(公告)号：CN108181327A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201611159161.0
申请日：2016-12-07
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/04
Abstract: 本发明公开了一种用于利用多能谱X射线成像系统对待测物品进行物质识别的方法，包括：获得所述待测物品在N个能区中的透明度值组成的透明度相关向量，其中N大于2；利用非线性降维算法将所述透明度相关向量和所述系统中存储的多种物品在多种厚度的情况下在所述N个能区中的N个透明度均值组成的透明度相关向量映射到二维平面上，以分别得到所述待测物品的透明度相关向量在所述二维平面上的映射点和所述多种物品的透明度相关向量在所述二维平面上的映射点集合；确定所述映射点集合中与所述映射点最近的点；以及将所述待测物品识别为所述多种物品中与所述最近的点相对应的物品。
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公开(公告)号：CN108169255A
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201611120598.3
申请日：2016-12-07
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/04
Abstract: 本发明公开了一种用于利用多能谱X射线成像系统对待测物品进行物质识别的方法，包括：获得所述待测物品在N个能区中的透明度值组成的透明度相关向量，其中N大于2；计算所述透明度相关向量与所述系统中存储的多种物品在多种厚度的情况下在所述N个能区中的N个透明度均值组成的透明度相关向量之间的距离；以及将所述待测物品识别为与最小距离相对应的物品。本发明基于多能谱X射线成像系统，通过对多能谱物质识别问题的分析，提出了一种物质识别的方法。相对传统双能X射线系统，多能谱成像理论上可以显著提高系统的物质识别能力，特别是在安检应用领域，物质识别能力的提升对于毒品爆炸物等违禁品的查验具有重要意义。
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公开(公告)号：CN107991328A
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：CN201711440361.8
申请日：2017-12-27
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本申请涉及用于测量脱空信息的方法、装置及系统，属于勘测检测技术领域。该用于测量脱空信息的方法包括：获取被检物的反散射信号；将所述被检物的反散射信号与标定的反散射信号对比，获取信号变化信息；根据所述信号变化信息获得所述被检物的脱空信息。根据本申请的用于测量脱空信息的方法、装置及系统、电子设备和计算机可读介质通过探测被检物的反散射信号，能够实现被检物的脱空信息的检测。
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公开(公告)号：CN106249269A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610797083.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01T1/00
CPC classification number: G01T1/24 , G01T1/241 , H01L31/02005 , H01L31/0224 , H01L31/02966 , H01L31/115 , H01L31/119 , H05K1/0233 , H05K1/028 , H05K1/115 , H05K1/181 , H05K2201/10151 , H05K2201/10287 , H05K2201/10522
Abstract: 本发明提出了一种半导体探测器。所述半导体探测器包括：探测器晶体，包括晶体主体、阳极和阴极；场增强电极，用于向探测器晶体施加电压；绝缘材料，设置于所述场增强电极和所述探测器晶体表面之间。所述半导体探测器还包括场增强电极电路板，所述增强电极电路板具有与探测器晶体表面接触的底部连接层和与所述底部连接层相对的顶层，其中所述顶层连接半导体探测器的高压输入，所述底部连接层与所述探测器晶体的探测器表面之间存在绝缘材料。
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公开(公告)号：CN218866121U
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202223454612.7
申请日：2022-12-23
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司
Abstract: 本申请公开了一种航空货物扫描检查设备。航空货物扫描检查设备包括顶舱模块和底舱模块。顶舱模块包括第一舱体和设置在第一舱体内的第一射线源。底舱模块可拆卸地连接于顶舱模块的下方以与顶舱模块围合形成周向封闭的扫描通道。且底舱模块包括设置于扫描通道一侧的第二舱体以及设置在第二舱体内的第二射线源。顶舱模块和底舱模块围合形成扫描通道的壁体内部设置有探测器。本申请的航空货物扫描检查设备通过设置第一射线源以及第二射线源以实现对物品水平和垂直两个方向上的扫描，进而降低漏检率。而且本申请中的顶舱模块和底舱模块内部集成设置有射线源和探测器，因此在检测现场只要将顶舱模块和底舱模块组装即可，节省安装调试时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN216595556U
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202123413441.9
申请日：2021-12-31
Applicant: 同方威视科技(北京)有限公司 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种安检设备及安检系统，包括：支架，限定沿第一方向延伸的检查通道；第一X射线加速器，设置在支架的顶部偏移检查通道的中心线的位置，配置成向下朝向检查通道辐射第一X射线，用以对通过检查通道的待检物品进行检查；第二X射线加速器，配置成沿第三方向向检查通道辐射第二X射线用以对通过检查通道的待检物品进行检查；以及探测器装置，包括：多个探测器模块，设置在支架上与第一X射线加速器和第二X射线加速器面对的位置，用于接收至少一部分第一X射线和/或第二X射线，以形成待检物品的透射图像；其中，第一X射线、第二X射线及探测器装置中的探测器模块构造成位于同一平面内。
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公开(公告)号：CN209148568U
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201821785397.X
申请日：2018-11-01
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技江苏有限公司
IPC: G01N23/203
Abstract: 本实用新型公开了一种背散射成像系统和扫描检查系统。背散射成像系统包括：背散射线源，背散射线源被设置为执行扫描时具有无扫描光束发出的第一扫描状态和发出扫描光束的第二扫描状态；背散探测器，背散探测器在背散射成像系统的背散射线源处于第一扫描状态下探测第一背散射信号，在背散射线源处于第二扫描状态下探测第二背散射信号；控制装置，与背散探测器信号连接，被设置为用根据第一背散射信号形成的修正信号修正第二背散射信号以得到修正背散射信号，并根据修正背散射信号形成图形信息；和成像装置，与控制装置信号连接，根据图形信息生成第二扫描状态下的背散射图像。本实用新型获得的背散射图像更加清晰。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207601853U
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201721572276.2
申请日：2017-11-22
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种辐射图像校正系统，涉及辐射成像领域。该系统包括：激光扫描仪，辐射装置，成像装置，以及辐射图像校正装置。本公开利用激光扫描仪作为图像校正的传感设备，监测精度比较高，能够提高辐射图像校正的实时性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206074817U
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201621032761.6
申请日：2016-08-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01T1/00
Abstract: 公开了一种半导体探测器。根据实施例，该半导体探测器可以包括：半导体探测材料，包括彼此相对的第一侧面和第二侧面，其中，第一侧面和第二侧面之一是接收入射射线的射线入射面；设置于第一侧面上的多个像素阴极；设置于第二侧面上的多个像素阳极，其中，像素阳极与像素阴极彼此一一对应；以及设置于射线入射面上各像素阴极或像素阳极外周的阻挡电极。根据本公开的实施例，可以有效避免像素之间的电荷共享，提高探测器的成像分辨率。
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公开(公告)号：CN204536229U
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201420870981.0
申请日：2014-12-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种滤波装置及一种物质探测装置，所述滤波装置包括双能射线源，所述双能射线源用于发射高能射线和低能射线；滤波片，位于所述双能射线源的射线出射处，由高Z材料制成，用于对出射的高能射线和低能射线进行滤波。本实用新型能够通过对不同能量的x射线采用同样的高原子序数的滤波片，显著减少检测能谱中的低能成分，实现更大可分性系数的物质探测方式，从而获得更优越的系统分类检测性能。
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