-
公开(公告)号：CN1674726A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200410057618.8
申请日：2004-08-20
Applicant: 株式会社日立显示器
CPC classification number: H01L51/56 , H01L2251/568
Abstract: 提供一种有机电致发光显示装置的制造方法，该有机电致发光显示装置，在第一电极层和第二电极层之间具有有机发光层，在其任一个象素未点亮时，从第一电极层侧观察该象素的有机发光层，如果含有异物则把第二电极层分离成与异物接触的区域和与该区域和异物都不接触的区域。由此，可以减小点不亮的显示区域，制造显示性能优良的有机EL显示装置。
-
公开(公告)号：CN1649081A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200410097883.9
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/20 , H01L21/477 , B23K26/00
Abstract: 提供一种激光退火方法及激光退火装置。借助插入到光束整形器和基板之间的转像器的以光轴为中心的转动，将利用调制器进行时间调制、利用光束整形器整形为细长形状的光束的激光的纵向方向围绕光轴转动，在对基板上的多个方向进行退火时，使整形为细长形状的激光在基板上转动，承载基板的基座只在XY两个方向上移动。由此，就可以将进行过时间调制，并且整形为细长形状的连续振荡的激光，在不使基板转动的情况下进行高速扫描对半导体薄膜进行退火。
-
公开(公告)号：CN100347814C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200410097883.9
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/324 , H01L21/20 , H01L21/477 , B23K26/00
Abstract: 提供一种激光退火方法及激光退火装置。借助插入到光束整形器和基板之间的转像器的以光轴为中心的转动，将利用调制器进行时间调制、利用光束整形器整形为细长形状的光束的激光的纵向方向围绕光轴转动，在对基板上的多个方向进行退火时，使整形为细长形状的激光在基板上转动，承载基板的基座只在XY两个方向上移动。由此，就可以将进行过时间调制，并且整形为细长形状的连续振荡的激光，在不使基板转动的情况下进行高速扫描对半导体薄膜进行退火。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100343951C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200410098335.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/324 , H01L21/336 , G02F1/136 , G09G3/36 , G09G3/38 , B23K26/00
CPC classification number: B23K26/073 , B23K26/702 , H01L27/14625
Abstract: 提供一种平面显示装置的制造装置。设有一直测定激光的空间强度分布及光轴的偏移的机构，入射到激光整形光学元件上的入射激光偏离了规定的条件时，对测定的信号进行处理，根据该处理结果，利用配置在光轴上的被插入构成光束放大器的透镜的焦点位置的空间滤波器，使入射到激光整形光学元件上的激光的光束形状、光束直径、入射位置一直保持预定的条件。因此，能在构成平面显示装置的显示面板的绝缘基板上，以高合格率稳定地形成有均匀的结晶性的硅薄膜。
-
公开(公告)号：CN100552749C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200410056323.9
申请日：2004-08-06
Applicant: 株式会社日立显示器
CPC classification number: H01L21/02683 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B23K26/0652 , B23K26/066 , B23K26/0665 , B23K26/0732 , H01L21/02532 , H01L21/02691 , H01L21/2026 , H01L27/1229 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/04 , H01L29/66757 , H01L29/78675
Abstract: 本发明提供一种显示屏的制造方法及显示屏。在该显示屏的制造方法中，将连续振荡(CW)固体激光聚光为线状并在聚光的宽度方向S上以一定的速度扫描的同时对大尺寸绝缘基板上将成为各单个显示屏的非晶态硅膜进行照射。此时，对连续振荡激光进行时间调制，以变为规定的结晶状态的功率密度对同一绝缘基板内的像素部、外围电路部进行照射，使其改性成为与作入到像素部、外围电路部的薄膜晶体管电路的必需性能相应的结晶状态的硅膜。这样一来，结果就可以在维持像素部或外围电路部所必需的具有最优结晶状态的薄膜晶体管电路的大生产率原样不变的同时，实现廉价提供具有作为显示屏的良好显示特性的产品。
-
公开(公告)号：CN100428530C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200410057618.8
申请日：2004-08-20
Applicant: 株式会社日立显示器
CPC classification number: H01L51/56 , H01L2251/568
Abstract: 提供一种有机电致发光显示装置的制造方法，该有机电致发光显示装置，在第一电极层和第二电极层之间具有有机发光层，在其任一个象素未点亮时，从第一电极层侧观察该象素的有机发光层，如果含有异物则把第二电极层分离成与异物接触的区域和与该区域和异物都不接触的区域。由此，可以减小点不亮的显示区域，制造显示性能优良的有机EL显示装置。
-
公开(公告)号：CN1649082A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200410098335.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/324 , H01L21/336 , G02F1/136 , G09G3/36 , G09G3/38 , B23K26/00
CPC classification number: B23K26/073 , B23K26/702 , H01L27/14625
Abstract: 提供一种平面显示装置的制造装置。设有一直测定激光的空间强度分布及光轴的偏移的机构，入射到激光整形光学元件上的入射激光偏离了规定的条件时，对测定的信号进行处理，根据该处理结果，利用配置在光轴上的被插入构成光束放大器的透镜的焦点位置的空间滤波器，使入射到激光整形光学元件上的激光的光束形状、光束直径、入射位置一直保持预定的条件。因此，能在构成平面显示装置的显示面板的绝缘基板上，以高合格率稳定地形成有均匀的结晶性的硅薄膜。
-
公开(公告)号：CN1601579A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN200410056323.9
申请日：2004-08-06
Applicant: 株式会社日立显示器
CPC classification number: H01L21/02683 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B23K26/0652 , B23K26/066 , B23K26/0665 , B23K26/0732 , H01L21/02532 , H01L21/02691 , H01L21/2026 , H01L27/1229 , H01L27/1285 , H01L27/1296 , H01L29/04 , H01L29/66757 , H01L29/78675
Abstract: 本发明提供一种显示屏的制造方法及显示屏。在该显示屏的制造方法中，将连续振荡(CW)固体激光聚光为线状并在聚光的宽度方向S上以一定的速度扫描的同时对大尺寸绝缘基板上将成为各单个显示屏的非晶态硅膜进行照射。此时，对连续振荡激光进行时间调制，以变为规定的结晶状态的功率密度对同一绝缘基板内的像素部、外围电路部进行照射，使其改性成为与作入到像素部、外围电路部的薄膜晶体管电路的必需性能相应的结晶状态的硅膜。这样一来，结果就可以在维持像素部或外围电路部所必需的具有最优结晶状态的薄膜晶体管电路的大生产率原样不变的同时，实现廉价提供具有作为显示屏的良好显示特性的产品。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.021 seconds)
