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公开(公告)号：CN105051610A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015210.6
申请日：2014-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可减少残渣缺陷、且使用有机系显影液进行显影的图案形成方法，用于其的有机溶剂显影用的感光化射线性或感放射线性树脂组合物及其制造方法，电子元件的制造方法及电子元件，上述图案形成方法包括如下步骤：(1)使用过滤器对含有(A)因酸的作用导致极性增大而对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、及(C1)溶剂的树脂溶液进行过滤；(2)制备含有利用所述步骤(1)中的滤液所获得的所述树脂(A)、及与所述溶剂(C1)不同的(C2)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物；(3)使用过滤器对所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进行过滤；(4)使用通过所述步骤(3)获得的滤液形成膜；(5)对所述膜进行曝光；以及(6)使用包含有机溶剂的显影液进行显影而形成负型的图案；且所述溶剂(C1)的溶解参数(SPC1)与所述显影液的溶解参数(SPDEV)的差的绝对值(|SPC1-SPDEV|)为1.00(cal/cm3)1/2以下。
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公开(公告)号：CN104350428A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380031179.0
申请日：2013-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/167 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。
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公开(公告)号：CN108431690B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201680076122.6
申请日：2016-11-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜及图案形成方法、以及使用了这些的电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：玻璃化转变温度为155℃以上的树脂(A)；玻璃化转变温度为150℃以下的化合物(B)；及溶剂(C)，其中，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分含量为20质量％以上，由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂图案的软化点为130℃以上且170℃以下，当由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成例如具有1μm以上的厚度的厚膜抗蚀剂膜形成图案时，能够高层次地兼备优异的分辨率和优异的曝光宽容度，并且抑制蚀刻时可产生的抗蚀剂图案的侧壁上的粗糙度。
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公开(公告)号：CN105051610B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201480015210.6
申请日：2014-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、有机溶剂显影用的树脂组合物及其制造方法、电子元件的制造方法，该图案形成方法可减少残渣缺陷、且使用有机系显影液进行显影，上述图案形成方法包括特定步骤，其中溶剂(C1)的溶解参数(SPC1)与显影液的溶解参数(SPDEV)的差的绝对值(|SPC1‑SPDEV|)为1.00(cal/cm3)1/2以下。
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公开(公告)号：CN104350428B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201380031179.0
申请日：2013-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。
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公开(公告)号：CN105593762A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480054009.9
申请日：2014-09-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027 , H01L21/3065
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/0337
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、图案掩模的形成方法、电子器件的制造方法及电子器件。本发明的图案形成方法，其包含如下工序：(I)将含有树脂(A)及化合物(B)的感活性光线性或感辐射线性树脂组合物涂布于基板上来形成第一膜，其中，所述树脂包含具有通过酸的作用分解而产生极性基团的基团的重复单元，所述化合物通过活性光线或辐射线的照射而产生酸；(II)将第一膜进行曝光；(III)对经曝光的第一膜进行显影来形成线与空间图案；及(IV)用第二膜包覆线与空间图案，所述图案形成方法的特征在于，工序(III)中所形成的线与空间图案中的线图案的顶部宽度大于底部宽度。
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公开(公告)号：CN108431690A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201680076122.6
申请日：2016-11-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜及图案形成方法、以及使用了这些的电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：玻璃化转变温度为155℃以上的树脂(A)；玻璃化转变温度为150℃以下的化合物(B)；及溶剂(C)，其中，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分含量为20质量％以上，由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂图案的软化点为130℃以上且170℃以下，当由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成例如具有1μm以上的厚度的厚膜抗蚀剂膜形成图案时，能够高层次地兼备优异的分辨率和优异的曝光宽容度，并且抑制蚀刻时可产生的抗蚀剂图案的侧壁上的粗糙度。
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