公开(公告)号：CN105051610B

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201480015210.6

申请日：2014-02-25

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 杉山真一 ,  上村聡 ,  后藤研由

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、有机溶剂显影用的树脂组合物及其制造方法、电子元件的制造方法，该图案形成方法可减少残渣缺陷、且使用有机系显影液进行显影，上述图案形成方法包括特定步骤，其中溶剂(C1)的溶解参数(SPC1)与显影液的溶解参数(SPDEV)的差的绝对值(|SPC1‑SPDEV|)为1.00(cal/cm3)1/2以下。

公开(公告)号：CN105051610A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201480015210.6

申请日：2014-02-25

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 杉山真一 ,  上村聡 ,  后藤研由

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种可减少残渣缺陷、且使用有机系显影液进行显影的图案形成方法，用于其的有机溶剂显影用的感光化射线性或感放射线性树脂组合物及其制造方法，电子元件的制造方法及电子元件，上述图案形成方法包括如下步骤：(1)使用过滤器对含有(A)因酸的作用导致极性增大而对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、及(C1)溶剂的树脂溶液进行过滤；(2)制备含有利用所述步骤(1)中的滤液所获得的所述树脂(A)、及与所述溶剂(C1)不同的(C2)溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物；(3)使用过滤器对所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进行过滤；(4)使用通过所述步骤(3)获得的滤液形成膜；(5)对所述膜进行曝光；以及(6)使用包含有机溶剂的显影液进行显影而形成负型的图案；且所述溶剂(C1)的溶解参数(SPC1)与所述显影液的溶解参数(SPDEV)的差的绝对值(|SPC1-SPDEV|)为1.00(cal/cm3)1/2以下。

公开(公告)号：CN105637417A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201480056864.3

申请日：2014-11-21

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 王惠瑜 ,  加藤启太 ,  白川三千纮 ,  后藤研由 ,  上村聡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325

Abstract: 感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(B)、以及具有至少一个氧原子的化合物(C)。其中，所述化合物(C)中不包含所述树脂(A)及所述化合物(B)。