公开(公告)号：CN104350428B

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201380031179.0

申请日：2013-07-05

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 杉山真一 ,  山中司 ,  上羽亮介 ,  百田淳

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。

公开(公告)号：CN104350428A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201380031179.0

申请日：2013-07-05

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 杉山真一 ,  山中司 ,  上羽亮介 ,  百田淳

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/167 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。