-
公开(公告)号：CN105431779A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201480043085.X
申请日：2014-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可形成具有各种形状的层叠结构的微细的(例如孔径、点径、空间宽度、及线宽等的尺寸为500nm以下的)图案的图案形成方法、由所述图案形成方法所制造的图案、以及使用其的蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件，所述图案形成方法依次包括：(i)在基板上依次进行下述步骤(i-1)、下述步骤(i-2)及下述步骤(i-3)，而形成第1负型图案的步骤，(i-1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)在所述基板上形成第1膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的第1树脂，(i-2)对所述第1膜进行曝光的步骤，(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对所述经曝光的第1膜进行显影的步骤；(iii)在所述基板的未形成有所述第1负型图案的膜部的区域中，埋设含有第2树脂的树脂组合物(2)来形成下层的步骤；(iv)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(3)在所述下层上形成上层的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(3)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的第3树脂；(v)对所述上层进行曝光的步骤；(vi)使用包含有机溶剂的显影液对所述上层进行显影，而在所述第1负型图案的表面所形成的面上形成第2负型图案的步骤；以及(vii)将所述下层的一部分去除的步骤。
-
公开(公告)号：CN104508563B
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201380034450.6
申请日：2013-08-19
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/2022 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466
Abstract: 图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。
-
公开(公告)号：CN104350428B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201380031179.0
申请日：2013-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。
-
公开(公告)号：CN104364716A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201380030755.X
申请日：2013-06-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/405
Abstract: 图案形成方法包括：(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物(I)形成第一膜的步骤，(ii)将所述第一膜曝光的步骤，(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤，(iv)通过使用特定组合物(II)在所述负型图案上形成第二膜的步骤，(v)增加在所述第二膜中存在的所述特定化合物的极性的步骤，以及(vi)通过使用含有有机溶剂的移除剂移除所述第二膜的特定区域的步骤。
-
公开(公告)号：CN103620738A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280029823.6
申请日：2012-06-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 上羽亮介
CPC classification number: H05K3/0023 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/203 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466 , H01L21/0274 , Y10T428/24273
Abstract: 本发明提供一种用于在基板中形成孔图案的图案形成方法，所述图案形成方法包括图案形成步骤，所述形成步骤各自按顺序包括步骤(1)至(6)：(1)通过使用含有以下各项的化学增幅型抗蚀剂组合物在所述基板上形成抗蚀剂膜：(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂和(B)能够在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(2)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第一线-间隙潜像；(3)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第二线-间隙潜像；(4)通过使用含有机溶剂的显影液将所述抗蚀剂膜显影以在所述抗蚀剂膜中形成孔图案群；(5)对具有所述抗蚀剂膜的所述基板施加蚀刻处理；和(6)移除所述抗蚀剂膜。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104350428A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380031179.0
申请日：2013-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/167 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物在基板上形成第一膜的步骤，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含能够通过酸的作用增大极性以降低在包含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂(A)；(ii)将所述第一膜曝光的步骤；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将经曝光的第一膜显影以形成负型图案的步骤；和(iv)在第二基板上形成第二膜以覆盖所述负型图案的周围的步骤。
-
公开(公告)号：CN105431779B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201480043085.X
申请日：2014-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法以及使用其的蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件，所述图案形成方法依次包括：(i)在基板上形成第1负型图案的步骤；(iii)在所述基板的未形成有所述第1负型图案的膜部的区域中，埋设含有第2树脂的树脂组合物(2)来形成下层的步骤；(iv)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(3)在所述下层上形成上层的步骤；(v)对所述上层进行曝光的步骤；(vi)使用包含有机溶剂的显影液对所述上层进行显影，而在所述第1负型图案的表面所形成的面上形成第2负型图案的步骤；以及(vii)将所述下层的一部分去除的步骤。该图案形成方法可形成具有各种形状的层叠结构的微细的图案。
-
公开(公告)号：CN105980936A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580007419.2
申请日：2015-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/2053 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0271 , H01L21/31144
Abstract: 一种图案形成方法包括：(i)在基板上依次进行下述步骤(i-1)、下述步骤(i-2)及下述步骤(i-3)，而形成第1负型图案的步骤，(i-1)在基板上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)来形成第1膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、(i-2)对第1膜进行曝光的步骤、(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第1膜进行显影，而形成第1负型图案的步骤；(iii)至少在第1负型图案上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)来形成第2膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂；(v)对第2膜进行曝光的步骤；以及(vi)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第2膜进行显影，至少在第1负型图案上形成第2负型图案的步骤。
-
公开(公告)号：CN103620738B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280029823.6
申请日：2012-06-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 上羽亮介
CPC classification number: H05K3/0023 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/203 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466 , H01L21/0274 , Y10T428/24273
Abstract: 提供一种用于在基板中形成孔图案的图案形成方法，所述图案形成方法包括图案形成步骤，所述形成步骤各自按顺序包括步骤(1)至(6)：(1)通过使用含有以下各项的化学增幅型抗蚀剂组合物在所述基板上形成抗蚀剂膜：(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有机溶剂的显影液中的溶解性的树脂和(B)能够在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(2)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第一线?间隙潜像；(3)将所述抗蚀剂膜曝光以形成第二线?间隙潜像；(4)通过使用含有机溶剂的显影液将所述抗蚀剂膜显影以在所述抗蚀剂膜中形成孔图案群；(5)对具有所述抗蚀剂膜的所述基板施加蚀刻处理；和(6)移除所述抗蚀剂膜。
-
公开(公告)号：CN104508563A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380034450.6
申请日：2013-08-19
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/2022 , G03F7/0035 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/70466
Abstract: 图案形成方法按下列顺序包括：(a)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)在基板上形成第一膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(I)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(b)将所述第一膜曝光；(c)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第一膜显影以形成第一阴图型图案；(e)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)在所述基板上形成第二膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物(II)包含在含有有机溶剂的显影液中的溶解度由于酸的作用所致的极性增加而降低的树脂；(f)将所述第二膜曝光；以及(g)使用含有有机溶剂的显影液将已曝光的第二膜显影以形成第二阴图型图案。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.096 seconds)
