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公开(公告)号：CN102232065B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN200980148239.0
申请日：2009-12-01
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C271/12 , C07D211/44 , C07D233/60 , C07D295/20 , C09K3/00
CPC classification number: C07D211/44 , C07C271/12 , C07C271/24 , C07C2601/14 , C07C2603/24 , C07D211/46 , C07D233/60 , C07D295/20 , C07D295/205
Abstract: 本发明的目的在于提供通过长波长的光(活性能量射线)的照射容易产生碱的新颖化合物、含有这些化合物而得到的光产碱剂和产碱方法，本发明涉及通式[1]所示的化合物、含有这些化合物而得到的光产碱剂和产碱方法。(通式[1]中，Ar表示选自由特定结构的蒽基、蒽醌基和芘基组成的组中的任一基团；R1和R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、或者表示与它们所键合的氮原子一同形成具有或不具有取代基的碳原子数为3～8的含氮脂肪族环或含氮芳香环的基团；R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～10的直链状、支链状或者环状的烷基。)
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公开(公告)号：CN102471305B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201080032606.3
申请日：2010-08-03
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D327/10
CPC classification number: C07D327/04 , C07D327/10
Abstract: 本发明涉及特定结构的不饱和磺内酯的制造方法以及特定结构的环状亚硫酸酯，其目的在于提供一种不仅可廉价地而收率良好地得到环状磺酸酯(磺内酯)，而且还能在工业规模下稳定且高效地得到该环状磺酸酯(磺内酯)的制造方法；其特征在于，该法含有：使特定结构的二元醇与卤化亚硫酰反应，得到特定结构的环状亚硫酸酯的第1工序与，使该环状亚硫酸酯与水或/及醇反应的第2工序；还可进一步含有：使特定结构的羟基磺内酯与酰卤化物或酸酐反应得到中间体，然后，用碱处理该中间体的第3工序。
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公开(公告)号：CN102482208A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080036756.1
申请日：2010-08-30
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C309/20 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
CPC classification number: C07C309/20 , C07D213/06 , C07D213/20 , C07D213/68 , C07D233/58 , C07D295/04 , C07D295/08
Abstract: 本发明提供一种成本低、环保、且具有低粘性及低熔点的新型离子液体。本发明是涉及通式[1]表示的离子液体的发明。式中，R1～R3及n个R4分别独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，R5～R7分别独立地表示烷基、芳烷基或烯丙基，R8表示烷基、芳烷基、烯丙基或通式[2](式中，T表示碳原子数1～8的亚烷基链，R1～R7及n的含义同上述)表示的基，X表示氮原子或磷原子，n表示1或2。当n为1时，R3与R4结合，并可与相邻的碳原子一起形成环己烯环。另外，当X为氮原子时，R5～R7或R5～R6与结合了它们的氮原子形成杂环。
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公开(公告)号：CN101472909A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200780022635.X
申请日：2007-06-14
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D327/00
CPC classification number: C07D327/00 , C07D327/06
Abstract: 本发明的目的是提供一种收率高且有利于工业生产的环状二磺酸酯的制造方法。本发明提供了一种用通式(3)表示的环状二磺酸酯的制造方法，其特征在于，使用通式(1)表示的链烷二磺酸银与用通式(2)表示的二卤代链烷在非极性溶剂中进行反应而得到，上述通式中，X1及X2分别独立地表示氯原子、溴原子或碘原子，Y及Z分别独立地表示链中可以有杂原子的取代或未取代的亚烷基链。
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公开(公告)号：CN1302799A
公开(公告)日：2001-07-11
申请号：CN00120687.7
申请日：2000-12-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/031 , C08K5/43
CPC classification number: C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/106
Abstract: 本发明公开了通式[1]或[3]所示的三苯基锍盐化合物,其中R1和R2分别独立地是氢原子或低级烷基,其条件是R1和R2的至少一个是低级烷基,R3分别独立地是烷基,n是0—3的整数,i是1—3的整数,j是0—2的整数,其条件是i+j=3,Y－是由通式[2]的磺酸得到的阴离子,R4－SO3H[2][其中R4是烷基或可带有烷基取代基的芳基])。其中X是在邻位和/或间位上带有取代基的苯基,m是1—3的整数,q是0—2的整数,其条件是m+q=3,p是1或2,Zp－是由羧酸得到的阴离子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103833723B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410007222.6
申请日：2010-08-03
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D327/04
CPC classification number: C07D327/04 , C07D327/10
Abstract: 本发明涉及特定结构的不饱和磺内酯的制造方法以及特定结构的环状亚硫酸酯，其目的在于提供一种不仅可廉价地而收率良好地得到环状磺酸酯（磺内酯），而且还能在工业规模下稳定且高效地得到该环状磺酸酯（磺内酯）的制造方法；其特征在于，该法含有：使特定结构的二元醇与卤化亚硫酰反应，得到特定结构的环状亚硫酸酯的第1工序与，使该环状亚硫酸酯与水或/及醇反应的第2工序；还可进一步含有：使特定结构的羟基磺内酯与酰卤化物或酸酐反应得到中间体，然后，用碱处理该中间体的第3工序。
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公开(公告)号：CN102471305A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080032606.3
申请日：2010-08-03
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D327/10
CPC classification number: C07D327/04 , C07D327/10
Abstract: 本发明涉及特定结构的不饱和磺内酯的制造方法以及特定结构的环状亚硫酸酯，其目的在于提供一种不仅可廉价地而收率良好地得到环状磺酸酯(磺内酯)，而且还能在工业规模下稳定且高效地得到该环状磺酸酯(磺内酯)的制造方法；其特征在于，该法含有：使特定结构的二元醇与卤化亚硫酰反应，得到特定结构的环状亚硫酸酯的第1工序与，使该环状亚硫酸酯与水或/及醇反应的第2工序；还可进一步含有：使特定结构的羟基磺内酯与酰卤化物或酸酐反应得到中间体，然后，用碱处理该中间体的第3工序。
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公开(公告)号：CN100486963C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN00120687.7
申请日：2000-12-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/031 , C08K5/43
CPC classification number: C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/106
Abstract: 本发明公开了通式[1]或[3]所示的三苯基锍盐化合物：(其中R1和R2分别独立地是氢原子或低级烷基，其条件是R1和R2的至少一个是低级烷基，R3分别独立地是烷基，n是0-3的整数，i是1-3的整数，j是0-2的整数，其条件是i+j＝3，Y-是由通式[2]的磺酸得到的阴离子R4-SO3H [2][其中R4是烷基或可带有烷基取代基的芳基])。(其中X是在邻位和/或间位上带有取代基的苯基，m是1-3的整数，q是0-2的整数，其条件是m+q＝3，p是1或2，Zp-是由羧酸得到的阴离子)。
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公开(公告)号：CN1297537C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN01814742.9
申请日：2001-06-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C321/30 , C07C67/30 , C07C53/15 , C08L25/18 , C08K5/36 , C08K5/41 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: C07C53/21 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物：(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn-表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1449379A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN01814742.9
申请日：2001-06-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C321/30 , C07C67/30 , C07C53/15 , C08L25/18 , C08K5/36 , C08K5/41 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: C07C53/21 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn－表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外。)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。
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