-
公开(公告)号：CN100418947C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN02821640.7
申请日：2002-11-01
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及，例如用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大保护膜用酸发生剂的、1分子中具有碘鎓盐和锍盐的杂化鎓盐，提供一种以通式[1]表示的杂化鎓盐：[式中，R1～R3分别独立且表示卤原子、烷基、卤代烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基或可被取代的氨基；Q1表示键接、氧原子、硫原子或碳原子数为1-6的亚烷基链；T1表示可具有取代基的亚烷基或亚芳基；R4表示可具有取代基的烷基、链烯基、芳基、芳烷基等；A1及A2分别独立且表示对阴离子，m表示0～4的整数，2个n分别独立且表示0～5的整数]。
-
公开(公告)号：CN1854133A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610081844.9
申请日：2002-10-11
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/00 , G03F7/004
CPC classification number: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/68 , C08G65/105 , C08G2650/16 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。
-
公开(公告)号：CN1622943A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN02828462.3
申请日：2002-10-11
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/00 , G03F7/004
CPC classification number: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/68 , C08G65/105 , C08G2650/16 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：如右式(1)、(2)或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，如式[35] (式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1854133B
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200610081844.9
申请日：2002-10-11
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/00 , G03F7/004
CPC classification number: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/68 , C08G65/105 , C08G2650/16 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。
-
公开(公告)号：CN100475803C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN02828462.3
申请日：2002-10-11
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07D311/76 , C07D311/86 , C08G59/00 , G03F7/004
CPC classification number: C07D311/16 , C07D311/86 , C08G59/68 , C08G65/105 , C08G2650/16 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。
-
公开(公告)号：CN1297537C
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN01814742.9
申请日：2001-06-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C321/30 , C07C67/30 , C07C53/15 , C08L25/18 , C08K5/36 , C08K5/41 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: C07C53/21 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物：(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn-表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。
-
公开(公告)号：CN1578766A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN02821640.7
申请日：2002-11-01
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , C08F2/50 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及，例如用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大保护膜用酸发生剂的、1分子中具有碘鎓盐和锍盐的杂化鎓盐，提供一种以通式[1]表示的杂化鎓盐：[式中，R1～R3分别独立且表示卤原子、烷基、卤代烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基或可被取代的氨基；Q1表示键接、氧原子、硫原子或低级亚烷基链；T1表示可具有取代基的亚烷基或亚芳基；R4表示可具有取代基的烷基、链烯基、芳基、芳烷基等；A1及A2分别独立且表示对阴离子，m表示0～4的整数，2个n分别独立且表示0～5的整数]。
-
公开(公告)号：CN1449379A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN01814742.9
申请日：2001-06-27
Applicant: 和光纯药工业株式会社
IPC: C07C321/30 , C07C67/30 , C07C53/15 , C08L25/18 , C08K5/36 , C08K5/41 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: C07C53/21 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn－表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外。)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.026 seconds)
