公开(公告)号：CN1871212A

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：CN200480030948.6

申请日：2004-10-04

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 角野元重 ,  深沢和仁 ,  今关重明 ,  渡边哲也

IPC: C07C381/12

CPC classification number: C07C381/12

Abstract: 本发明涉及通式[4]所示的三芳基锍盐的制造方法，该方法可以有效地制造三芳基锍盐中仅一个芳香环不同于另外两个芳香环的三芳基锍盐，所述制造方法的特征在于，在与对氧具有高亲和性的活化剂的共存下，使通式[1]所示的二芳基亚砜与通式[2]所示的芳基格氏试剂进行反应，然后与通式[3]所示的强酸或其盐反应；所述对氧具有高亲和性的活化剂相对于所述二芳基亚砜为3当量～7.5当量；所述通式[2]为RMgX，其中R表示具有或不具有取代基的芳基，所述取代基与上述通式[1]中的R1不同，X表示卤原子；所述通式[3]为HA1，其中A1表示强酸残基。

公开(公告)号：CN100381421C

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200480030948.6

申请日：2004-10-04

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 角野元重 ,  深沢和仁 ,  今关重明 ,  渡边哲也

IPC: C07C381/12

CPC classification number: C07C381/12

Abstract: 本发明涉及通式[4]所示的三芳基锍盐的制造方法，该方法可以有效地制造三芳基锍盐中仅一个芳香环不同于另外两个芳香环的三芳基锍盐，所述制造方法的特征在于，在与对氧具有高亲和性的活化剂的共存下，使通式[1]所示的二芳基亚砜与通式[2]所示的芳基格氏试剂进行反应，然后与通式[3]所示的强酸或其盐反应；所述对氧具有高亲和性的活化剂相对于所述二芳基亚砜为3当量～7.5当量；所述通式[2]为RMgX，其中R表示具有或不具有取代基的芳基，所述取代基与上述通式[1]中的R1不同，X表示卤原子；所述通式[3]为HA1，其中A1表示强酸残基。

公开(公告)号：CN1302799A

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：CN00120687.7

申请日：2000-12-27

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 大野桂二 ,  深泽和仁 ,  阪本一德 ,  浦野文良 ,  角野元重 ,  今关重明

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/031 ,  C08K5/43

CPC classification number: C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明公开了通式[1]或[3]所示的三苯基锍盐化合物,其中R1和R2分别独立地是氢原子或低级烷基,其条件是R1和R2的至少一个是低级烷基,R3分别独立地是烷基,n是0—3的整数,i是1—3的整数,j是0—2的整数,其条件是i+j=3,Y－是由通式[2]的磺酸得到的阴离子,R4－SO3H[2][其中R4是烷基或可带有烷基取代基的芳基])。其中X是在邻位和/或间位上带有取代基的苯基,m是1—3的整数,q是0—2的整数,其条件是m+q=3,p是1或2,Zp－是由羧酸得到的阴离子。

公开(公告)号：CN107848963A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680042890.X

申请日：2016-07-22

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 筑场康佑 ,  酒井信彦 ,  今关重明

IPC: C07C279/26 ,  C07F5/02 ,  C08G59/68 ,  C08K5/29 ,  C08L101/00 ,  C09K3/00

Abstract: 本发明是通式(A)所表示的化合物、包含该化合物而成的产碱剂或/和自由基产生剂等的发明。(式中，4个R1各自独立地表示氢原子或氟原子，4个R2各自独立地表示氟原子或三氟甲基，R3、R6、R7和R10各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～12的烷基，R4和R5各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～12的烷基，或者R4与R5相互键合，表示碳原子数为2～4的亚烷基，R8和R9各自独立地表示氢原子；碳原子数为1～12的烷基；或者具有或不具有碳原子数为1～6的烷基等取代基的碳原子数为6～14的芳基，或者R8与R9相互键合，表示碳原子数为2～4的亚烷基。其中，R3～R10这8个基团中的2～3个为氢原子，该8个基团中的2个为氢原子的情况下，其余基团中的3～6个基团为烷基，该8个基团中的3个为氢原子的情况下，其余基团中的4～5个基团为烷基。)

公开(公告)号：CN100486963C

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN00120687.7

申请日：2000-12-27

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 大野桂二 ,  深泽和仁 ,  阪本一德 ,  浦野文良 ,  角野元重 ,  今关重明

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/031 ,  C08K5/43

CPC classification number: C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明公开了通式[1]或[3]所示的三苯基锍盐化合物：(其中R1和R2分别独立地是氢原子或低级烷基，其条件是R1和R2的至少一个是低级烷基，R3分别独立地是烷基，n是0-3的整数，i是1-3的整数，j是0-2的整数，其条件是i+j＝3，Y-是由通式[2]的磺酸得到的阴离子R4-SO3H [2][其中R4是烷基或可带有烷基取代基的芳基])。(其中X是在邻位和/或间位上带有取代基的苯基，m是1-3的整数，q是0-2的整数，其条件是m+q＝3，p是1或2，Zp-是由羧酸得到的阴离子)。

公开(公告)号：CN1297537C

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN01814742.9

申请日：2001-06-27

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  角野元重 ,  深沢和仁 ,  片野直树 ,  今关重明

IPC: C07C321/30 ,  C07C67/30 ,  C07C53/15 ,  C08L25/18 ,  C08K5/36 ,  C08K5/41 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC classification number: C07C53/21 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物：(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn-表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。

公开(公告)号：CN1449379A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN01814742.9

申请日：2001-06-27

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  角野元重 ,  深沢和仁 ,  片野直树 ,  今关重明

IPC: C07C321/30 ,  C07C67/30 ,  C07C53/15 ,  C08L25/18 ,  C08K5/36 ,  C08K5/41 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC classification number: C07C53/21 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明公开了通式[1]所示化合物和该化合物与重氮二砜化合物形成的组合物(式中，R1，R2和R3各自独立地表示芳香族烃残基，Yn－表示由具有氟原子的碳数3或以上的羧酸衍生的阴离子，n表示1或2。条件是，R1，R2和R3为在邻位和/或间位具有取代基的苯基的情况除外。)。如果将该化合物或该化合物与重氮二砜形成的组合物用作抗蚀剂的酸产生剂，具有所谓改善超微细图案的外形或侧壁粗糙的效果。而且，该化合物也可以用作光阳离子性聚合引发剂。