公开(公告)号：CN104071421A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410117610.X

申请日：2014-03-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山周吾 ,  新井贵志 ,  中杉干夫 ,  小林史和

IPC: B65D19/26 ,  B65D19/38 ,  B65D21/032

CPC classification number: B65D21/02 ,  B65D21/0233 ,  B65D25/10 ,  B65D25/106 ,  B65D85/02 ,  B65D85/04 ,  B65D85/06 ,  B65D85/672 ,  B65D85/676

Abstract: 本发明提供一种部件承载托盘，其包括：底板，部件堆叠在该底板上；和凸起。所述凸起具有主体和限制部。主体是中空的并具有锥形形状。限制部形成在所述主体中，在垂直于承载表面的方向上延伸并接触部件的侧表面以限制承载在所述承载表面上的部件。所述底板具有通孔，使得当所述部件承载托盘被堆叠在另外的部件承载托盘上时，所述另外的部件承载托盘的凸起进入所述主体的中空部分内。在所述凸起中形成有开口，该开口构造成使得当所述部件承载托盘被堆叠在所述另外的部件承载托盘上时避免凸起与所述另外的部件承载托盘的限制部之间的干涉。

公开(公告)号：CN115437224A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202210623833.8

申请日：2022-06-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 高柳雅欣 ,  川岛春名 ,  矢田裕紀 ,  中山周吾

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供处理装置以及物品制造方法。处理装置包括：气液接触结构体，其配置有与第一端及第二端连通的多个气体流路；第一输送路线，其向所述气液接触结构体的所述第一端输送包含疏水性有机物的空气；供给部，其向所述气液接触结构体供给使所述疏水性有机物亲水化的物质及水；和第二输送路线，其输送从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气。

公开(公告)号：CN117794337A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311237963.9

申请日：2023-09-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山周吾 ,  西川原朋史 ,  饭村晶子 ,  九里真弘 ,  山本哲也

IPC: H10K71/13 ,  B41J2/01 ,  B41J29/38 ,  B41J29/12 ,  G05B19/04

Abstract: 本发明涉及一种液体排出设备，包括：头，其被构造成排出液体；腔室，其被构造成容纳所述头；循环系统，其被构造成使腔室内部的气体循环；排气系统，其被构造成操作以将气体排出至腔室的外部；过滤器，其设置在循环系统中并且被构造成去除气体中含有的去除目标；检测单元，其被构造成通过检测气体中含有的并且不同于去除目标的检测目标来间接检测去除目标；和控制器，其被构造成在由检测单元检测到的检测目标的浓度不低于阈值时操作排气系统。本发明还涉及基板处理设备和制品制造方法。

公开(公告)号：CN104071421B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201410117610.X

申请日：2014-03-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山周吾 ,  新井贵志 ,  中杉干夫 ,  小林史和

IPC: B65D19/26 ,  B65D19/38 ,  B65D21/032

CPC classification number: B65D21/02 ,  B65D21/0233 ,  B65D25/10 ,  B65D25/106 ,  B65D85/02 ,  B65D85/04 ,  B65D85/06 ,  B65D85/672 ,  B65D85/676

Abstract: 本发明提供一种部件承载托盘，其包括：底板，部件堆叠在该底板上；和凸起。所述凸起具有主体和限制部。主体是中空的并具有锥形形状。限制部形成在所述主体中，在垂直于承载表面的方向上延伸并接触部件的侧表面以限制承载在所述承载表面上的部件。所述底板具有通孔，使得当所述部件承载托盘被堆叠在另外的部件承载托盘上时，所述另外的部件承载托盘的凸起进入所述主体的中空部分内。在所述凸起中形成有开口，该开口构造成使得当所述部件承载托盘被堆叠在所述另外的部件承载托盘上时避免凸起与所述另外的部件承载托盘的限制部之间的干涉。

公开(公告)号：CN114137798A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202111008083.5

申请日：2021-08-31

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪 ,  昼间健太郎 ,  中山周吾

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。降低反射镜内的温度梯度。光源装置具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积。

公开(公告)号：CN112213923A

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN202010646658.5

申请日：2020-07-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山周吾 ,  木村一贵

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供在抑制光学元件的温度上升的方面有利的光学装置。一种光学装置，具有第1凹反射面、第1凸反射面、第2凹反射面、第2凸反射面以及第3凹反射面，以使来自物体面的光按照第1凹反射面、第1凸反射面、第2凹反射面、第2凸反射面、第3凹反射面的顺序反射并在像面上成像的方式配置第1凹反射面、第1凸反射面、第2凹反射面、第2凸反射面以及第3凹反射面，具有与第2凹反射面相向地配置的气流形成部，该气流形成部配置于来自物体面的光未照射的区域。

公开(公告)号：CN120003168A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202411604926.1

申请日：2024-11-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山周吾 ,  伊藤正裕

IPC: B41J3/407 ,  B41J2/015

Abstract: 本发明提供液体排出装置、液体排出方法以及物品制造方法。液体排出装置对用于制造具有多个像素的显示器面板的基板排出液体，其特征在于，液体排出装置具有：排出头，排出液体；驱动机构，相对于排出头相对地驱动基板；以及控制部，控制排出头和驱动机构以便一边多次地进行使基板相对于排出头在第1方向相对地扫描的扫描驱动一边在各扫描驱动中向基板上成为像素区域的目标区域供给液体，排出头包括在与第1方向交叉的第2方向排列用以排出液体的多个喷嘴，控制部基于与目标区域的第1方向的宽度相关的宽度信息以及与多个喷嘴中能同时使用的喷嘴间的第2方向的距离相关的距离信息，确定应进行扫描驱动的扫描次数以便向目标区域供给预定量的液体。

公开(公告)号：CN112764318A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN202011104126.5

申请日：2020-10-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 布施直人 ,  中山周吾

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供支撑装置、投影光学系统、曝光装置、支撑装置的调整方法以及物品制造方法。支撑物体的支撑装置具备分别支撑上述物体的互不相同的部位的至少3个支撑机构。上述至少3个支撑机构分别包括：以在第1方向具有自由度的方式由第1平行板簧机构支撑的可动部；经由第2平行板簧机构而与上述可动部连接的输入部；调整上述输入部的位置的进给丝杠；中间体；将上述物体与上述中间体连结的第1弹性铰链；以及将上述中间体与上述可动部连结的第2弹性铰链。上述第2平行板簧机构的刚性低于上述第1平行板簧机构的刚性。