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公开(公告)号：CN101925863B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200980102858.6
申请日：2009-01-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 一种多层正性工作平版印刷版前体可以用红外辐射成像并使用pH大于6并且至多约11的单一处理溶液在单步中处理。这种单一处理溶液显影该成像的前体并提供不必在平版印刷之前冲洗掉的防护性涂层。
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公开(公告)号：CN101479106A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200780023515.1
申请日：2007-06-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24
Abstract: 单层和多层正性工作可成像组合物二者都可以用于具有基底和至少一个可成像层的正性工作元件。这些元件可以用于制备平版印刷板。该可成像元件包括辐射吸收化合物和具有重复的支化羟基苯乙烯单元的羟基苯乙烯聚合物。
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公开(公告)号：CN101370660A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101119851A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200580021964.3
申请日：2005-06-30
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Abstract: 用于曝光平版印刷印板的装置和方法，其中所述装置包括多个发射波长为350nm－450nm的光的激光二极管。来自每个所述激光二极管的光被导向所述平版印刷印板，使得所述印板上的每个点接收来自所述多个激光二极管的至少一个所发射的光。优选地，所述平版印刷印板是紫光感光型平版印刷件，所述平版印刷件是印刷机印板。每个激光二极管的功率可以是5mW－30mW，优选激光二极管发射波长为390nm－430nm的光。
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公开(公告)号：CN1929996B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200580007930.9
申请日：2005-03-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/145 , Y10S430/146
Abstract: 本发明提供了一种可成象元件，所述元件包含基材、涂覆于所述基材的第一层和涂覆于所述第一层的第二层。所述第一层可包含聚合物材料和辐射吸收化合物。所述第二层可包含含羟基的聚合物，所述含羟基的聚合物包含热不稳定部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101632041A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200780031821.X
申请日：2007-08-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41N3/06
Abstract: 负性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有机基的单相显影剂进行显影，该显影剂的毒性和腐蚀性较低，且在使用后可更方便地对其进行显影。该显影剂的pH值小于12，且包含a)含有含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或多个氮原子的两性表面活性剂，或者c)a)的两性表面活性剂和b)的两性表面活性剂。
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公开(公告)号：CN100448669C
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200480019151.6
申请日：2004-06-29
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/465 , B41N1/083 , B41N1/20 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , Y10S430/165
Abstract: 本发明公开了硫酸化聚合物、含有这些聚合物的可成象元件以及由这些可成象元件制备用作平版印版的图象的方法。所述元件可热成象并在水或润版液中显影，不需要碱性显影剂。可使用润版液在印刷机上成象和显影，不必要安装在单独的曝光装置中。
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公开(公告)号：CN101300139A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680040558.6
申请日：2006-10-17
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41M5/368 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/165
Abstract: 一种正性工作的可成像元素，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面且在其上具有内层和外层的基板。内层含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合物中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)，其中R1，R2，R3和R4独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20。该可成像元件具有改进的对显影和印刷用化学品和溶剂的耐性。
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公开(公告)号：CN101370660B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101296798B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200680039959.X
申请日：2006-10-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。
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