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公开(公告)号：CN101925863B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200980102858.6
申请日：2009-01-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 一种多层正性工作平版印刷版前体可以用红外辐射成像并使用pH大于6并且至多约11的单一处理溶液在单步中处理。这种单一处理溶液显影该成像的前体并提供不必在平版印刷之前冲洗掉的防护性涂层。
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公开(公告)号：CN101296798B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200680039959.X
申请日：2006-10-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。
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公开(公告)号：CN102216079B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
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公开(公告)号：CN101925863A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200980102858.6
申请日：2009-01-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 一种多层正性工作平版印刷版前体可以用红外辐射成像并使用pH大于6并且至多约11的单一处理溶液在单步中处理。这种单一处理溶液显影该成像的前体并提供不必在平版印刷之前冲洗掉的防护性涂层。
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公开(公告)号：CN101547791A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200680056504.9
申请日：2006-11-28
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368
Abstract: 本发明公开用作平版印刷版前驱体的多层可热成像元件。可成像元件包括基片、在基片上的底层和在底层上的顶层。顶层包含含酐基的聚合物。此聚合物以基于层的干燥重量至少60％的量存在于顶层中。可成像元件具有优良的抗印刷车间化学品性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1929996B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200580007930.9
申请日：2005-03-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/145 , Y10S430/146
Abstract: 本发明提供了一种可成象元件，所述元件包含基材、涂覆于所述基材的第一层和涂覆于所述第一层的第二层。所述第一层可包含聚合物材料和辐射吸收化合物。所述第二层可包含含羟基的聚合物，所述含羟基的聚合物包含热不稳定部分。
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公开(公告)号：CN101370659A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002909.9
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M2205/14 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包括内层和外层和辐射吸收化合物。内层包含第一聚合物材料。吸油墨外层包含含有聚合物骨架和连接至聚合物骨架的－X－C(＝T)－NR－S(＝O)2－部分的第二聚合物连接料，其中－X－为氧基或－NR′－基团，T为O或S，R和R′独立地为氢、卤素或具有1－6个碳原子的烷基。在热成像之后，元件可使用碱性显影剂显影。使用特定第二聚合物连接料减少显影剂中的残渣形成。它在显影剂中的溶解速率足够慢以抵抗显影剂侵袭外层的非成像区域且足够快以使第二聚合物连接料从成像区域快速释放且使它保持悬浮或溶解相当久的时间。
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公开(公告)号：CN102216079A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
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公开(公告)号：CN101370659B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200780002909.9
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M2205/14 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包括内层和外层和辐射吸收化合物。内层包含第一聚合物材料。吸油墨外层包含含有聚合物骨架和连接至聚合物骨架的-X-C(＝T)-NR-S(＝O)2-部分的第二聚合物连接料，其中-X-为氧基或-NR′-基团，T为O或S，R和R′独立地为氢、卤素或具有1-6个碳原子的烷基。在热成像之后，元件可使用碱性显影剂显影。使用特定第二聚合物连接料减少显影剂中的残渣形成。它在显影剂中的溶解速率足够慢以抵抗显影剂侵袭外层的非成像区域且足够快以使第二聚合物连接料从成像区域快速释放且使它保持悬浮或溶解相当久的时间。
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公开(公告)号：CN101426649B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200780013848.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 正性可成像的元件，包括内层和外层以及红外辐射吸收性化合物如IR吸收性染料。该内层包括第一种聚合物材料。接受油墨的外层包括包含侧挂羧基的第二种聚合物粘结剂，该粘结剂为可成像的元件提供了改进的耐化学性并减少了显影带来的残留物。
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