公开(公告)号：CN101300139A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680040558.6

申请日：2006-10-17

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： K·B·雷 ,  E·L·谢里夫 ,  J·雷 ,  A·克雷布斯

IPC: B41M5/36 ,  B41C1/10 ,  H05K3/12

CPC classification number: B41M5/368 ,  B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  Y10S430/165

Abstract: 一种正性工作的可成像元素，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面且在其上具有内层和外层的基板。内层含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合物中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)，其中R1，R2，R3和R4独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20。该可成像元件具有改进的对显影和印刷用化学品和溶剂的耐性。

公开(公告)号：CN101296798B

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN200680039959.X

申请日：2006-10-16

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： J·黄 ,  S·萨赖亚 ,  K·B·雷 ,  A·P·基特森 ,  E·L·谢里夫 ,  A·克雷布斯

IPC: B41C1/10 ,  B41M5/36

CPC classification number: B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41M5/368 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/165

Abstract: 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。

公开(公告)号：CN101296798A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680039959.X

申请日：2006-10-16

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： J·黄 ,  S·萨赖亚 ,  K·B·雷 ,  A·P·基特森 ,  E·L·谢里夫 ,  A·克雷布斯

IPC: B41C1/10 ,  B41M5/36

CPC classification number: B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41M5/368 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/165

Abstract: 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。