公开(公告)号：CN101479106A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200780023515.1

申请日：2007-06-14

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·莱瓦农 ,  J·雷 ,  K·B·雷 ,  L·波斯特尔 ,  L·J·科里奥诺夫

IPC: B41C1/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24

Abstract: 单层和多层正性工作可成像组合物二者都可以用于具有基底和至少一个可成像层的正性工作元件。这些元件可以用于制备平版印刷板。该可成像元件包括辐射吸收化合物和具有重复的支化羟基苯乙烯单元的羟基苯乙烯聚合物。

公开(公告)号：CN101300139A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680040558.6

申请日：2006-10-17

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： K·B·雷 ,  E·L·谢里夫 ,  J·雷 ,  A·克雷布斯

IPC: B41M5/36 ,  B41C1/10 ,  H05K3/12

CPC classification number: B41M5/368 ,  B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  Y10S430/165

Abstract: 一种正性工作的可成像元素，其含有吸收辐射的化合物以及具有亲水表面且在其上具有内层和外层的基板。内层含有可使用碱性显影剂除去的聚合材料，且聚合物中的1～50mol％的重复单元是衍生自于一种或多种以下结构(I)表示的烯属不饱和可聚合单体：CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)，其中R1，R2，R3和R4独立地表示氢、低级烷基，或苯基，且n为1～20。该可成像元件具有改进的对显影和印刷用化学品和溶剂的耐性。