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公开(公告)号：CN104749886B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201410705160.6
申请日：2014-11-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、形成图案的方法与半导体集成电路装置。所述硬掩模组合物包含：聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1a到化学式1c中的一个表示的部分；由以下化学式2表示的单体；以及溶剂。[化学式1a][化学式1b][化学式1c][化学式2]在上述化学式1a、化学式1b、化学式1c和化学式2中，R1a、R1b、R4a、R4b、R2a、R2b、R5a、R5b和R3与说明书中定义的相同。
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公开(公告)号：CN106188504B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201510409508.1
申请日：2015-07-13
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。
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公开(公告)号：CN105280481B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201510379390.2
申请日：2015-07-01
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L21/033 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08G61/02 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/3424 , C08G2261/45 , C08G2261/72 , C08G2261/90 , C09D165/00 , C09D165/02 , G03F7/094 , G03F7/40 , H01L21/0212 , H01L21/02126 , H01L21/02304 , H01L21/0276 , H01L21/31116 , H01L21/31144
Abstract: 本发明提供一种包含聚合物和溶剂的硬掩膜组成物以及形成图案的方法，其中所述硬掩膜组成物包括聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明一个实施例的硬掩膜组成物同时确保耐蚀刻性和平坦化特征。[化学式1]在所述化学式1中，A、B、R1和R2与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN105280481A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510379390.2
申请日：2015-07-01
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L21/033 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08G61/02 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/3424 , C08G2261/45 , C08G2261/72 , C08G2261/90 , C09D165/00 , C09D165/02 , G03F7/094 , G03F7/40 , H01L21/0212 , H01L21/02126 , H01L21/02304 , H01L21/0276 , H01L21/31116 , H01L21/31144 , H01L21/0332 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种包含聚合物和溶剂的硬掩膜组成物以及形成图案的方法，其中所述硬掩膜组成物包括聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明一个实施例的硬掩膜组成物同时确保耐蚀刻性和平坦化特征。[化学式1]在所述化学式1中，A、B、R1和R2与具体实施方式中所定义的相同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104749886A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410705160.6
申请日：2014-11-27
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、形成图案的方法与半导体集成电路装置。所述硬掩模组合物包含：聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1a到化学式1c中的一个表示的部分；由以下化学式2表示的单体；以及溶剂。[化学式1a][化学式1b][化学式1c][化学式2]在上述化学式1a、化学式1b、化学式1c和化学式2中，R1a、R1b、R4a、R4b、R2a、R2b、R5a、R5b和R3与说明书中定义的相同。
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公开(公告)号：CN106610567B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN105093834B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]＊‑A‑B‑＊在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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公开(公告)号：CN106226997B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
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