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公开(公告)号：CN105340050A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480035014.5
申请日：2014-07-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/006 , H01J2237/06 , H01J2237/08 , H01J2237/182 , H01J2237/1825 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的离子铣削装置具备真空室(105)、进行该真空室内的真空排气的排气装置(101)、在上述真空室内支撑离子束所照射的试样(102)的试样台(103)、加热上述真空室内的加热装置(107)、向上述真空室内导入作为热介质的气体的气源(106)、控制该气源的控制装置(110)，该控制装置在由上述加热装置进行的加热时，以上述真空室内的压力为预定的状态的方式控制。由此，在冷却试样进行离子铣削后大气开放时，可在短时间内进行用于抑制产生的结露等的温度控制。
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公开(公告)号：CN102709143B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210111707.0
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , 应用材料以色列公司
IPC: H01J37/153 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/317 , B82Y10/00
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径，一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束，二次束路径用于源自物体的二次电子，该结构包括磁体排布结构，其具有：第一磁场区，由一次和二次电子束路径穿过，用于将一次和二次电子束路径相互分开；第二磁场区，布置在第一磁场区的上游的一次电子束路径中，二次电子束路径不穿过第二磁场区，第一和第二磁场区沿基本上相反的方向使一次电子束路径偏转；第三磁场区，布置在第一磁场区的下游的二次电子束路径中，一次电子束路径不穿过第三磁场区，第一和第三磁场区沿基本上相同的方向使二次电子束路径偏转。
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公开(公告)号：CN101103417A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200480025528.9
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份有限公司 , 以色列实用材料有限公司
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 一种粒子光学排布结构，其包括：用于生成带电粒子束的带电粒子源；布置在带电粒子束的束路径中的多孔板，其中，该多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中，在多孔板的下游从带电粒子束形成了多个带电粒子分束，并且其中，所述多个分束在该装置的像面中形成了多个束斑，所述多个束斑按第二阵列图案排列；以及用于操纵带电粒子束和/或多个分束的粒子光学元件；其中，第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则度，而第二阵列图案在与第一方向电子光学地对应的第二方向上具有第二图案规则度，并且其中，第二规则度比第一规则度要大。
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公开(公告)号：CN104094376B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201380008020.7
申请日：2013-01-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/226 , H01J37/026 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/0047 , H01J2237/06 , H01J2237/2007 , H01J2237/2801 , H02N13/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可有效地实现静电吸盘的除电的带电粒子束装置。为了达成上述目的，在本发明中提出一种带电粒子束装置，其特征在于，具备将包括静电吸盘机构(5)的空间维持在真空状态的样品室，带电粒子束装置具备用于向样品室内照射紫外光的紫外光源(6)、和被该紫外光照射的被照射部件，该被照射部件配置在所述静电吸盘的吸附面的垂线方向上。
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公开(公告)号：CN105161393A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201510512550.6
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , 以色列实用材料有限公司
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径，一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束，二次束路径用于源自物体的二次电子，该结构包括磁体排布结构，其具有：第一磁场区，由一次和二次电子束路径穿过，用于将一次和二次电子束路径相互分开；第二磁场区，布置在第一磁场区的上游的一次电子束路径中，二次电子束路径不穿过第二磁场区，第一和第二磁场区沿基本上相反的方向使一次电子束路径偏转；第三磁场区，布置在第一磁场区的下游的二次电子束路径中，一次电子束路径不穿过第三磁场区，第一和第三磁场区沿基本上相同的方向使二次电子束路径偏转。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101103417B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN200480025528.9
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , 以色列实用材料有限公司
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 一种粒子光学排布结构，其包括：用于生成带电粒子束的带电粒子源；布置在带电粒子束的束路径中的多孔板，其中，该多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中，在多孔板的下游从带电粒子束形成了多个带电粒子分束，并且其中，所述多个分束在该装置的像面中形成了多个束斑，所述多个束斑按第二阵列图案排列；以及用于操纵带电粒子束和/或多个分束的粒子光学元件；其中，第一阵列图案在第一方向上具有第一图案规则度，而第二阵列图案在与第一方向电子光学地对应的第二方向上具有第二图案规则度，并且其中，第二规则度比第一规则度要大。
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公开(公告)号：CN105161393B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201510512550.6
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 , 应用材料以色列公司
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径，一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束，二次束路径用于源自物体的二次电子，该结构包括磁体排布结构，其具有：第一磁场区，由一次和二次电子束路径穿过，用于将一次和二次电子束路径相互分开；第二磁场区，布置在第一磁场区的上游的一次电子束路径中，二次电子束路径不穿过第二磁场区，第一和第二磁场区沿基本上相反的方向使一次电子束路径偏转；第三磁场区，布置在第一磁场区的下游的二次电子束路径中，一次电子束路径不穿过第三磁场区，第一和第三磁场区沿基本上相同的方向使二次电子束路径偏转。
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公开(公告)号：CN105340050B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201480035014.5
申请日：2014-07-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/006 , H01J2237/06 , H01J2237/08 , H01J2237/182 , H01J2237/1825 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明的离子铣削装置具备真空室(105)、进行该真空室内的真空排气的排气装置(101)、在上述真空室内支撑离子束所照射的试样(102)的试样台(103)、加热上述真空室内的加热装置(107)、向上述真空室内导入作为热介质的气体的气源(106)、控制该气源的控制装置(110)，该控制装置在由上述加热装置进行的加热时，以上述真空室内的压力为预定的状态的方式控制。由此，在冷却试样进行离子铣削后大气开放时，可在短时间内进行用于抑制产生的结露等的温度控制。
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公开(公告)号：CN104094376A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380008020.7
申请日：2013-01-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/226 , H01J37/026 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/0047 , H01J2237/06 , H01J2237/2007 , H01J2237/2801 , H02N13/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可有效地实现静电吸盘的除电的带电粒子束装置。为了达成上述目的，在本发明中提出一种带电粒子束装置，其特征在于，具备将包括静电吸盘机构(5)的空间维持在真空状态的样品室，带电粒子束装置具备用于向样品室内照射紫外光的紫外光源(6)、和被该紫外光照射的被照射部件，该被照射部件配置在所述静电吸盘的吸附面的垂线方向上。
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公开(公告)号：CN102709143A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210111707.0
申请日：2004-09-07
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , 以色列实用材料有限公司
IPC: H01J37/153 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/317 , B82Y10/00
CPC classification number: H01J37/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/14 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/06 , H01J2237/14 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径，一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束，二次束路径用于源自物体的二次电子，该结构包括磁体排布结构，其具有：第一磁场区，由一次和二次电子束路径穿过，用于将一次和二次电子束路径相互分开；第二磁场区，布置在第一磁场区的上游的一次电子束路径中，二次电子束路径不穿过第二磁场区，第一和第二磁场区沿基本上相反的方向使一次电子束路径偏转；第三磁场区，布置在第一磁场区的下游的二次电子束路径中，一次电子束路径不穿过第三磁场区，第一和第三磁场区沿基本上相同的方向使二次电子束路径偏转。
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