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公开(公告)号：CN1324613C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03819527.5
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。
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公开(公告)号：CN102792156A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180013141.1
申请日：2011-01-18
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G01N23/201
CPC classification number: G01N23/201
Abstract: 本发明涉及一种用于传输分析样品（50）所用的X射线光束的设备，其包括：光源单元（100），该光源单元（100）包括X射线发射装置；光学单元（200），该光学单元（200）放置在光源单元（100）的下游，所述光学块（200）包括具有反射表面（212）的光学单色器零件（210），设计该反射表面（212）来调整光源单元（100）利用一维或二维光学作用所发射的X射线；和X射线的限定装置（300），其包括：校准构件（310），其用于在空间上对由光学单色器零件（210）所调整的X射线进行限界，该校准构件设在光学单色器零件（210）下游，并且包括一个或多个具有部分（313）的板（311），所述部分（313）被布置成形成了限界孔口（312），所述部分（313）用限制X射线扩散的单晶体材料涂覆；X射线的切断构件（320），该X射线由光源单元（100）所发射，该切断构件（320）包括布置在传输设备中的X射线吸收装置，以切断未通过光学单色器零件（210）调整而有可能到达空间限界校准构件（310）的直接X射线光束。
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公开(公告)号：CN1675720A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03819527.5
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及具有横向梯度反射多层膜的光学单元(10)，该光学单元的反射表面用于反射锐角入射的X射线并产生二维光学效应，其特征在于所述反射表面由单一表面构成，所述表面根据对应于两个不同方向的两个曲率成型。本发明还涉及制造所述光学单元的方法，其特征在于该方法包括已经具有曲率的基质上镀膜，而且所述基质的曲率沿着第二不同方向。本发明还公开了用于产生和处理RX发散角度的X光反射仪的装置，包括如上所述的光学单元，结合到X射线源上，以便光源发出的X射线在二维方向上被处理，以便调整光源对于样本所发出的光束，X光束的入射角度不同于所考虑的样本。
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公开(公告)号：CN1662999A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03814508.1
申请日：2003-06-19
Applicant: 谢诺思公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: B82Y10/00 , G21K1/06 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/064
Abstract: 本发明涉及一种用来处理入射X射线束的光学装置，所述装置包括：·单色仪(M)和·用于调节入射光束的光学元件(20)，其反射表面能够产生二维光学效果，以便适应在单色仪目的地的光束，所述光学元件包括多层结构类型的反射X射线的表面，其特征在于：所述反射表面由单个表面组成，所述反射表面是对应两个不同方向根据两个曲率成形的。
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