公开(公告)号：CN103777448A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201310496502.3

申请日：2013-10-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 猪子和宏

IPC: G03B21/20 ,  H04N5/74

CPC classification number: G02B13/22 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0047 ,  G02B27/0025 ,  G03B21/208 ,  G03F7/70241

Abstract: 本公开内容涉及照射光学系统和投影型显示装置。一种照射光学系统被配置为照射被配置为对入射光进行调制的光学调制器，包括聚光透镜系统和球面像差校正器，聚光透镜系统包括在光源侧具有凹面的弯月透镜，并且使来自光源的光会聚；球面像差校正器被设置在聚光透镜系统的光学调制器侧。照射光学系统满足：0.6

公开(公告)号：CN101438196A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200780016315.3

申请日：2007-05-04

Applicant: 卡尔·蔡司SMT股份公司

Inventor： 戴维·谢弗 ,  奥里莉恩·多多克 ,  海科·费尔德曼 ,  约翰尼斯·泽尔纳 ,  威廉·乌尔里克 ,  霍尔格·沃尔特 ,  乌尔里克·洛林 ,  丹尼尔·克雷默 ,  格哈特·富尔特

IPC: G02B13/14 ,  G02B13/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B13/143 ,  G02B13/26 ,  G03F7/70241

Abstract: 本发明特征在于一种用于微光刻的系统，该系统包括配置成发射多个汞发射谱线处的辐射的汞光源、设置成接收由汞光源发射的辐射的投影物镜以及配置成相对于投影物镜放置晶片的台。在操作期间，投影物镜将来自光源的辐射引导到晶片，其中在晶片处的辐射包括来自发射谱线中多于一条谱线的能量。用于所述投影物镜的光学透镜系统包括四个透镜组，每个透镜组具有两个包括二氧化硅的透镜，一方的第一和第二透镜组与另一方的第三和第四透镜组相对于与所述透镜系统的光轴垂直的平面对称放置。

公开(公告)号：CN100483251C

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN01120775.2

申请日：2001-03-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 柴崎祐一

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70241 ,  G02B7/005 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825

Abstract: 本发明公开一种以较高精度驱动光学元件(38a)的光学元件保持装置(43)。该光学元件保持装置具有保持部(44a)，该保持部与光学元件的周缘部嵌合，保持光学元件；连接部(44b)，该连接部与保持部连接。在连接部上，设置有驱动机构(50，60，61)，该驱动机构通过使保持部和连接部作相对移动，移动光学元件。

公开(公告)号：CN101107570A

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200580045519.0

申请日：2005-12-30

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份有限公司

Inventor： 奥雷利安·多多克 ,  威廉·乌尔希里

IPC: G03F7/20 ,  G02B13/14

CPC classification number: G03F7/70225 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241

Abstract: 本发明提供了一种投影光学系统。该投影光学系统包括沿该投影光学系统的光轴布置的多个透镜；其中，所述多个透镜可被分成为四个不重叠的透镜组，使得各个透镜组的总折射力是负折射力或正折射力；并且其中，第四透镜组中的各个透镜的折射力均等于或大于0。第三透镜组中的紧邻第四透镜组中的一透镜布置的透镜可具有面向所述第二物体的凹形表面。

公开(公告)号：CN1226212C

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN02801814.1

申请日：2002-04-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小峰典男 ,  吉田明子 ,  神保宏树 ,  藤原诚志

IPC: C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

Abstract: 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A-B，不大于0.002cm-1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，能够实现均匀曝光，同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。

公开(公告)号：CN1463256A

公开(公告)日：2003-12-24

申请号：CN02801814.1

申请日：2002-04-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小峰典男 ,  吉田明子 ,  神保宏树 ,  藤原诚志

IPC: C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

Abstract: 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A－B，不大于0.002cm－1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，能够实现均匀曝光，同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。

公开(公告)号：CN1374560A

公开(公告)日：2002-10-16

申请号：CN02103545.8

申请日：2002-02-07

Applicant: 尼康股份有限公司

Inventor： 铃木刚司

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70241 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70958

Abstract: 一种投影光学系统,含有以萤石形成的透镜成份与以石英形成的透镜成份,将第1面的影像投影至第2面上的投影光学系统,此投影光学系统包括:至少含有一个以萤石形成的透镜成份,具有正折射力的第1透镜群、配置于第1透镜群以及第2面之间的光路中,具有负折射力的第2透镜群、配置于第2透镜群以及第2面之间的光路中,具有正折射力的第3透镜群。以石英形成透镜成份的枚数为Snum,以萤石形成透镜成份的枚数为Cnum,投影光学系统的第2面侧的数值孔径为NA时,满足下列条件。Snum>Cnum NA>0.7

公开(公告)号：CN107111252A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201680005296.3

申请日：2016-01-06

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02B26/10 ,  G02B3/0037 ,  G02B3/0056 ,  G02B26/101 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置。在一边单向扫描微透镜阵列一边将掩模的掩模图案投影曝光于基板上的投影曝光装置中，即使在微透镜中存在缺陷或不良时，也不会产生显著的曝光不均。投影曝光装置(1)具备：扫描曝光部(10)，使微透镜阵列(2)沿着从基板(W)的一端朝向另一端的扫描方向(Sc)移动；及微透镜阵列位移部(20)，在基于扫描曝光部(10)的微透镜阵列(2)的移动中，使微透镜阵列(2)沿着与扫描方向(Sc)交叉的位移方向(Sf)移动。

公开(公告)号：CN106062636A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580010247.4

申请日：2015-01-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  M·库珀厄斯 ,  A·M·雅库尼恩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70433 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70483 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005

Abstract: 本发明公开了一种光刻系统，包括：具有失真投影系统(PS)的光刻设备(LA)；和辐射源(SO)，所述辐射源被配置为在等离子体形成位置(4)处生成发射EUV辐射的等离子体，发射EUV辐射的等离子体在基本上垂直于辐射源(SO)的光轴(OA)的平面内具有细长形状。

公开(公告)号：CN105467548A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510881287.8

申请日：2015-12-04

Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

Inventor： 陈华男 ,  郭抗 ,  倪明阳 ,  李显凌 ,  张巍 ,  隋永新 ,  杨怀江

IPC: G02B7/02 ,  G03F7/00

CPC classification number: G02B7/023 ,  G03F7/70241

Abstract: 高定位精度的镜片可更换的光刻物镜镜框属于深紫外投影光刻物镜结构设计与装调技术领域，目的在于解决现有技术存在的结构复杂、操作空间大、定位及重复定位精度低和镜片易被污染的问题。本发明的外镜框为圆筒结构，外镜框内部两个侧壁设置有滑槽，内部侧壁上设置有圆锥槽和V型槽，外镜框内部上端面靠近开口一端设置有球头A；内镜框为方形结构，任意相对的两个侧壁上设置有滑轨，与滑轨所在侧壁相邻的一个侧壁上设置有两个球头B，两个球头B的位置分别与圆锥槽和V型槽相对应，方形结构上端面与球头A对应位置处设置有上平台；内镜框的滑轨与外镜框内的滑槽配合，内镜框外侧设置有防护盖，防护盖与外镜框通过螺钉固定连接。