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公开(公告)号：CN119094038B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202411572528.6
申请日：2024-11-06
Applicant: 鹏城实验室
IPC: H04B10/70 , H04B10/556 , H04B10/54 , H04Q11/00
Abstract: 本申请公开了一种可纠错空域‑频域并行的光子计算装置，涉及光子计算技术领域，该装置包括：接收若干路多波长光信号，并对输入的各路多波长光信号进行第一矩阵运算处理；幅度相位频率响应控制单元在处理过程中，利用微环结构在频域上的周期性响应对各路多波长光信号进行频率阵列处理；对处理后的光信号进行光交换处理和/或第二矩阵运算处理，获得目标光信号。本发明利用幅度相位频率响应控制单元在频域上的周期性响应对各路光信号进行频域阵列处理，使得可以基于处理后的光信号获得目标光信号，解决了现有技术中的光子机算系统的光处理无法实现对处理过程进行监控和纠错导致可靠性低，且无法充分利用空域和频率域导致处理效率低的技术问题。
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公开(公告)号：CN117406564B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202311697407.X
申请日：2023-12-12
Applicant: 鹏城实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及光源调控技术领域，公开了一种光源调控方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔，获得目标极紫外光；基于目标极紫外光对泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控，获得泵浦光源对应的光源模场数据；基于光源模场数据建立光源基本数据库；基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。本发明基于对泵浦光源对应的光源模场进行调控获得的光源模场数据建立光源基本数据库，并基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控，解决了EUV光刻中的EUV光源难调控，进而导致光刻分辨率较低的技术问题。
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公开(公告)号：CN116500872B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310772029.0
申请日：2023-06-28
Applicant: 鹏城实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种连续旋转曝光系统及方法，系统包括：片上集成光子芯片系统；片上集成光子芯片系统包括：位移设备、片上集成高速并行读写头，片上集成高速并行读写头包括多个阵列化单元，所述多个阵列化单元划分为近场作用像素区和距离校准像素区；位移设备用于根据写入需求和/或读取需求进行旋转移动；近场作用像素区内的阵列化单元用于在位移设备进行旋转移动时，根据写入需求和/或读取需求将调制信号投射至位于所述位移设备上的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光，和/或读取所述待测样品反射的光信号，本发明根据位置设备对旋转移动的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光，基于旋转的曝光方式从一步曝光到多步曝光，从而提高曝光精度。
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公开(公告)号：CN116191190A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310156088.5
申请日：2023-02-14
Applicant: 鹏城实验室
IPC: H01S3/1115 , H01S3/083 , H01S3/067
Abstract: 本发明公开了一种智能时空锁模光纤激光器和控制方法，所述智能时空锁模光纤激光器包括：全光纤动量空间调制装置，所述全光纤动量空间调制装置用于控制空间模场分布；所述全光纤动量空间调制装置包括：动量空间随机调控器件和智能反馈控制装置；所述动量空间随机调控器件和所述智能反馈控制装置连接；所述动量空间随机调控器件用于得到在多模光纤坐标空间中任意形态的模场分布；所述智能反馈控制装置用于得到多模光纤时空锁模状态的特定模场分布。通过动量空间随机调控器件得到坐标空间中任意形态的模场分布，并通过智能反馈控制装置找出多模光纤时空锁模状态的特定模场分布，达到准确地控制空间模场分布，实现时空模式的同时锁定的效果。
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公开(公告)号：CN119050796A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411101660.9
申请日：2024-08-12
Applicant: 鹏城实验室
IPC: H01S3/1106 , H01S3/02
Abstract: 本发明公开了一种掩膜板和多模锁模激光器，涉及激光技术领域，其中，掩膜板设有至少两种形状相异的单元模块，以使经过单元模块的光脉冲具有不同色散值；每种单元模块至少设有两个，每种单元模块的其中至少部分和其余部分的尺寸相异设置，以具有不同非线性值；本发明的技术方案，能够提供一种可实现时域与空域同时锁定的掩膜板，降低锁模激光器的系统复杂性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117728896A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202410171585.7
申请日：2024-02-07
Applicant: 鹏城实验室
IPC: H04B10/50 , H04B10/548 , H04J14/08
Abstract: 本发明涉及光通信技术领域，公开了一种光时分复用装置、方法、发射机及传输系统，该装置中功率分路器用于将相干光源输出的光信号分为多路功率相同的初始子载波；相位调制阵列用于根据外界输入的基频驱动电信号对多路功率相同的初始子载波的相位进行调制获得多路相位调制子载波；第一移相阵列用于对多路相位调制子载波进行相位补偿获得多路校正子载波；第一耦合器用于将多路校正子载波划分为同一周期内多路不同时隙的光载波，并将多路不同时隙的光载波分配到不同的输出通道输出。本发明通过控制基频驱动电信号的初始相位来精准输出不同时隙的光载波实现光时分复用，减小装置复杂度，降低系统功耗和维护成本。
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公开(公告)号：CN117348165A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202311350537.6
申请日：2023-10-18
Applicant: 鹏城实验室
Abstract: 本发明公开一种波长选择开关及可重构光分插复用器，所述波长选择开关，包括光纤阵列、光纤准直器阵列功能组件、偏振分离功能组件、偏振旋转功能组件、曲面反射镜功能组件、柱透镜功能组件、棱栅功能组件、以及控制引擎；其中，所述光纤准直器阵列功能组件、所述偏振分离功能组件、所述偏振旋转功能组件、所述曲面反射镜功能组件、所述柱透镜功能组件、所述棱栅功能组件的至少其中之一包括超表面结构，所述超表面结构包括衬底、以及布设于所述衬底的金属或电介质微结构阵列。本技术方案，提高波长选择开关的性能、减小波长选择开关的体积。
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公开(公告)号：CN116755297B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202311037238.7
申请日：2023-08-17
Applicant: 鹏城实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请公开了一种曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质，涉及光刻领域，本申请将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数，其中，可调曝光参数至少包括光源相位；基于目标参数对光刻系统进行调节形成新曝光参数的光刻系统；基于新曝光参数的光刻系统进行曝光得到新的曝光结果，将目标参数作为新的可调曝光参数，基于新的可调曝光参数和新的曝光结果返回执行将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数的步骤。本申请实施例，加入了光源相位作为可调曝光参数之一，参与到优化过程中，丰富了优化方向，改善调控的精细度，从而提高光刻分辨率的增强效果。
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公开(公告)号：CN116755297A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202311037238.7
申请日：2023-08-17
Applicant: 鹏城实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请公开了一种曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质，涉及光刻领域，本申请将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数，其中，可调曝光参数至少包括光源相位；基于目标参数对光刻系统进行调节形成新曝光参数的光刻系统；基于新曝光参数的光刻系统进行曝光得到新的曝光结果，将目标参数作为新的可调曝光参数，基于新的可调曝光参数和新的曝光结果返回执行将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数的步骤。本申请实施例，加入了光源相位作为可调曝光参数之一，参与到优化过程中，丰富了优化方向，改善调控的精细度，从而提高光刻分辨率的增强效果。
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公开(公告)号：CN116500872A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310772029.0
申请日：2023-06-28
Applicant: 鹏城实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种连续旋转曝光系统及方法，系统包括：片上集成光子芯片系统；片上集成光子芯片系统包括：位移设备、片上集成高速并行读写头，片上集成高速并行读写头包括多个阵列化单元，所述多个阵列化单元划分为近场作用像素区和距离校准像素区；位移设备用于根据写入需求和/或读取需求进行旋转移动；近场作用像素区内的阵列化单元用于在位移设备进行旋转移动时，根据写入需求和/或读取需求将调制信号投射至位于所述位移设备上的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光，和/或读取所述待测样品反射的光信号，本发明根据位置设备对旋转移动的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光，基于旋转的曝光方式从一步曝光到多步曝光，从而提高曝光精度。
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