公开(公告)号：CN117406564B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN202311697407.X

申请日：2023-12-12

Applicant: 鹏城实验室

Inventor： 曹子峥 ,  王广彪 ,  周延 ,  皮雅稚 ,  余少华

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光源调控技术领域，公开了一种光源调控方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔，获得目标极紫外光；基于目标极紫外光对泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控，获得泵浦光源对应的光源模场数据；基于光源模场数据建立光源基本数据库；基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。本发明基于对泵浦光源对应的光源模场进行调控获得的光源模场数据建立光源基本数据库，并基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控，解决了EUV光刻中的EUV光源难调控，进而导致光刻分辨率较低的技术问题。

公开(公告)号：CN119270598A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202411804389.5

申请日：2024-12-10

Applicant: 鹏城实验室

Inventor： 曹子峥 ,  王广彪 ,  周延 ,  皮雅稚 ,  余少华

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种光刻照明系统、方法及光刻机，涉及光刻技术领域，所述光刻照明系统包括：非对称分光器、监测器、曝光装置、预设光源以及控制器；通过非对称分光器将预设光分为传输至监测器的监测光以及传输至曝光装置的照明光，控制器可以通过监测器获取的监测光的光场分布来获取照明光的光场分布，从而达到监控的效果。同时控制器在判定照明光的光场分布出现异常时，可以自适应地调节预设光源输出的预设光对应的光源像素参数，以使产生的照明光继续实现匀光的效果。通过上述简单的结构实现光刻照明系统的匀光和监控的一体化，极大地降低了整个光刻照明系统的硬件结构复杂度，并减少了光源不稳定的情况对光刻照明系统造成的干扰。

公开(公告)号：CN117406564A

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202311697407.X

申请日：2023-12-12

Applicant: 鹏城实验室

Inventor： 曹子峥 ,  王广彪 ,  周延 ,  皮雅稚 ,  余少华

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光源调控技术领域，公开了一种光源调控方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔，获得目标极紫外光；基于目标极紫外光对泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控，获得泵浦光源对应的光源模场数据；基于光源模场数据建立光源基本数据库；基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。本发明基于对泵浦光源对应的光源模场进行调控获得的光源模场数据建立光源基本数据库，并基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控，解决了EUV光刻中的EUV光源难调控，进而导致光刻分辨率较低的技术问题。