一种光刻照明系统、方法及光刻机

    公开(公告)号:CN119270598A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411804389.5

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 本申请公开了一种光刻照明系统、方法及光刻机,涉及光刻技术领域,所述光刻照明系统包括:非对称分光器、监测器、曝光装置、预设光源以及控制器;通过非对称分光器将预设光分为传输至监测器的监测光以及传输至曝光装置的照明光,控制器可以通过监测器获取的监测光的光场分布来获取照明光的光场分布,从而达到监控的效果。同时控制器在判定照明光的光场分布出现异常时,可以自适应地调节预设光源输出的预设光对应的光源像素参数,以使产生的照明光继续实现匀光的效果。通过上述简单的结构实现光刻照明系统的匀光和监控的一体化,极大地降低了整个光刻照明系统的硬件结构复杂度,并减少了光源不稳定的情况对光刻照明系统造成的干扰。

    光域频谱合成系统及光域频谱合成方法

    公开(公告)号:CN117240368B

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202311527876.7

    申请日:2023-11-16

    Abstract: 本申请公开了一种光域频谱合成系统及光域频谱合成方法,应用于光通信技术领域,其中,光域频谱合成系统包括:光源,用于提供至少两个中心波长不同的光载波;分路器,与所述光源连接,用于对各所述光载波进行分路得到至少两路中心波长不同的子载波;第一移相器阵列,与所述分路器连接,用于分别对各所述子载波进行相位调整得到至少两路调整波;调制器阵列,与所述第一移相器阵列连接,用于分别将待传输数据调制至各所述调整波得到至少两路调制信号;合并器,与所述调制器阵列连接,用于将各所述调制信号组合为单路合并信号。本申请解决了频谱合成的效率较低的技术问题。

    光源控制系统及光源控制方法

    公开(公告)号:CN117241428B

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202311485441.0

    申请日:2023-11-09

    Abstract: 本发明涉及灯光控制技术领域,公开了一种光源控制系统及光源控制方法,该系统包括:时钟控制信号模块接收光源亮度数据,并将光源亮度数据发送至阵列功率驱动模块;在光源亮度数据发送完成后,向阵列功率驱动模块发送光源同步信号,光源同步信号为根据刷新频率生成的周期性信号;阵列功率驱动模块在接收到光源同步信号时,根据光源亮度数据同步本地驱动发光阵列板中各发光单元。本发明中时钟控制信号模块将接收的光源亮度数据发送至阵列功率驱动模块后,向其发送光源同步信号,阵列功率驱动模块在接收到光源同步信号时根据光源亮度数据驱动发光阵列板,解决了通过逐行扫描模式进行时钟控制时存在时序限制,导致控制精度较低的技术问题。

    光源控制系统及光源控制方法

    公开(公告)号:CN117241428A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311485441.0

    申请日:2023-11-09

    Abstract: 本发明涉及灯光控制技术领域,公开了一种光源控制系统及光源控制方法,该系统包括:时钟控制信号模块接收光源亮度数据,并将光源亮度数据发送至阵列功率驱动模块;在光源亮度数据发送完成后,向阵列功率驱动模块发送光源同步信号,光源同步信号为根据刷新频率生成的周期性信号;阵列功率驱动模块在接收到光源同步信号时,根据光源亮度数据同步本地驱动发光阵列板中各发光单元。本发明中时钟控制信号模块将接收的光源亮度数据发送至阵列功率驱动模块后,向其发送光源同步信号,阵列功率驱动模块在接收到光源同步信号时根据光源亮度数据驱动发光阵列板,解决了通过逐行扫描模式进行时钟控制时存在时序限制,导致控制精度较低的技术问题。

    光源调控方法、装置、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN117406564B

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202311697407.X

    申请日:2023-12-12

    Abstract: 本发明涉及光源调控技术领域,公开了一种光源调控方法、装置、设备及存储介质,该方法包括:将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔,获得目标极紫外光;基于目标极紫外光对泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控,获得泵浦光源对应的光源模场数据;基于光源模场数据建立光源基本数据库;基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化,以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。本发明基于对泵浦光源对应的光源模场进行调控获得的光源模场数据建立光源基本数据库,并基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化,以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控,解决了EUV光刻中的EUV光源难调控,进而导致光刻分辨率较低的技术问题。

    光域频谱合成系统及光域频谱合成方法

    公开(公告)号:CN117240368A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202311527876.7

    申请日:2023-11-16

    Abstract: 本申请公开了一种光域频谱合成系统及光域频谱合成方法,应用于光通信技术领域,其中,光域频谱合成系统包括:光源,用于提供至少两个中心波长不同的光载波;分路器,与所述光源连接,用于对各所述光载波进行分路得到至少两路中心波长不同的子载波;第一移相器阵列,与所述分路器连接,用于分别对各所述子载波进行相位调整得到至少两路调整波;调制器阵列,与所述第一移相器阵列连接,用于分别将待传输数据调制至各所述调整波得到至少两路调制信号;合并器,与所述调制器阵列连接,用于将各所述调制信号组合为单路合并信号。本申请解决了频谱合成的效率较低的技术问题。

    连续旋转曝光系统及方法

    公开(公告)号:CN116500872B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310772029.0

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本发明公开一种连续旋转曝光系统及方法,系统包括:片上集成光子芯片系统;片上集成光子芯片系统包括:位移设备、片上集成高速并行读写头,片上集成高速并行读写头包括多个阵列化单元,所述多个阵列化单元划分为近场作用像素区和距离校准像素区;位移设备用于根据写入需求和/或读取需求进行旋转移动;近场作用像素区内的阵列化单元用于在位移设备进行旋转移动时,根据写入需求和/或读取需求将调制信号投射至位于所述位移设备上的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光,和/或读取所述待测样品反射的光信号,本发明根据位置设备对旋转移动的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光,基于旋转的曝光方式从一步曝光到多步曝光,从而提高曝光精度。

    曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116755297B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202311037238.7

    申请日:2023-08-17

    Abstract: 本申请公开了一种曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质,涉及光刻领域,本申请将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数,其中,可调曝光参数至少包括光源相位;基于目标参数对光刻系统进行调节形成新曝光参数的光刻系统;基于新曝光参数的光刻系统进行曝光得到新的曝光结果,将目标参数作为新的可调曝光参数,基于新的可调曝光参数和新的曝光结果返回执行将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数的步骤。本申请实施例,加入了光源相位作为可调曝光参数之一,参与到优化过程中,丰富了优化方向,改善调控的精细度,从而提高光刻分辨率的增强效果。

    曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116755297A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202311037238.7

    申请日:2023-08-17

    Abstract: 本申请公开了一种曝光分辨率优化方法、装置、电子设备及存储介质,涉及光刻领域,本申请将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数,其中,可调曝光参数至少包括光源相位;基于目标参数对光刻系统进行调节形成新曝光参数的光刻系统;基于新曝光参数的光刻系统进行曝光得到新的曝光结果,将目标参数作为新的可调曝光参数,基于新的可调曝光参数和新的曝光结果返回执行将光刻系统的可调曝光参数和可调曝光参数的曝光结果输入至预设优化模型得到目标参数的步骤。本申请实施例,加入了光源相位作为可调曝光参数之一,参与到优化过程中,丰富了优化方向,改善调控的精细度,从而提高光刻分辨率的增强效果。

    连续旋转曝光系统及方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116500872A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310772029.0

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本发明公开一种连续旋转曝光系统及方法,系统包括:片上集成光子芯片系统;片上集成光子芯片系统包括:位移设备、片上集成高速并行读写头,片上集成高速并行读写头包括多个阵列化单元,所述多个阵列化单元划分为近场作用像素区和距离校准像素区;位移设备用于根据写入需求和/或读取需求进行旋转移动;近场作用像素区内的阵列化单元用于在位移设备进行旋转移动时,根据写入需求和/或读取需求将调制信号投射至位于所述位移设备上的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光,和/或读取所述待测样品反射的光信号,本发明根据位置设备对旋转移动的待测样品进行重复曝光和/或全功率曝光,基于旋转的曝光方式从一步曝光到多步曝光,从而提高曝光精度。

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