集成传感器系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102782585A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201080065060.1

    申请日:2010-12-29

    CPC classification number: G01B7/023 G01D3/036 G01D5/2417 G03F9/7026 G03F9/7053

    Abstract: 一种用于光刻机器的集成传感器系统,该系统包括用于将一个或多个曝光射束聚焦至靶材上的投射透镜系统(132)、用于承载靶材(9)的可移动平台(134)、用于进行有关投射透镜系统的最后聚焦组件(104)和靶材(9)的表面间的距离的测量的电容式感测系统(300)、以及控制单元(400)。该控制单元(400)用于至少部分地依据来自电容式感测系统的信号控制可移动平台(134)的移动而调整靶材(9)的位置。该电容式感测系统(300)包括多个电容式传感器(30),每一个电容式传感器(30)均包括薄膜结构。该电容式传感器和投射透镜系统的最后聚焦组件(104)直接安装至共同基座(112),且该传感器被放置于极为接近投射透镜系统的最后聚焦组件的边缘处。

    具有差动对的电容式感测系统

    公开(公告)号:CN102782444A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201080065050.8

    申请日:2010-12-29

    Abstract: 一种电容式感测系统,包括两个或更多个电容式传感器(30a、30b)、用于供电给该电容式传感器的一个或多个AC电源(306a、306b)、以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。这些传感器被布置成对,其中一个或多个AC电源被配置成以交流电流(307)或电压供电给一对传感器中的第一传感器,该交流电流或电压与供给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度,且其中一对传感器提供针对单一测量距离数值的测量单元,该信号处理电路从该对传感器中的每一传感器接收输出信号,并产生有关于该对传感器与靶材(9)间的平均距离的测量数值。

    一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统

    公开(公告)号:CN105716630A

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201610064253.4

    申请日:2010-12-29

    Abstract: 一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统,该电容式感测系统包括用于测量所述电容式传感器与靶材之间的距离的两个或更多个电容式传感器、用于为所述电容式传感器供电的一个或多个AC电源、以及用于处理来自所述电容式传感器的信号的信号处理电路,其中所述传感器被成对配置,其中所述一个或多个AC电源被配置成以交流电流或电压为一对传感器中的第一传感器供电,该交流电流或电压与供应给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度,且其中所述信号处理电路配置成从该对传感器中的每一传感器接收输出信号,并基于接收到的输出信号产生有关于该对传感器与靶材间的平均距离的测量数值。

    具有差动对的电容式感测系统

    公开(公告)号:CN102782444B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201080065050.8

    申请日:2010-12-29

    Abstract: 一种电容式感测系统,包括两个或更多个电容式传感器(30a、30b)、用于供电给该电容式传感器的一个或多个AC电源(306a、306b)、以及用于处理来自传感器的信号的信号处理电路。这些传感器被布置成对,其中一个或多个AC电源被配置成以交流电流(307)或电压供电给一对传感器中的第一传感器,该交流电流或电压与供给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度,且其中一对传感器提供针对单一测量距离数值的测量单元,该信号处理电路从该对传感器中的每一传感器接收输出信号,并产生有关于该对传感器与靶材(9)间的平均距离的测量数值。

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