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公开(公告)号:CN112885813B
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202110057448.7
申请日:2021-01-15
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L23/544 , H01L23/48
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公开(公告)号:CN112885813A
公开(公告)日:2021-06-01
申请号:CN202110057448.7
申请日:2021-01-15
Applicant: 西安微电子技术研究所
IPC: H01L23/544 , H01L23/48
Abstract: 本发明公开了一种场效应晶体管的接触孔链电阻的监控结构,在N+孔链中增加部分区域,尤其是在孔接触区域增加P+注入,与原有孔链结构兼容,结构实现简单,监控结果对比显著,若出现新型结构孔链电阻偏小,而P+孔链电阻正常,可以轻松定位异常工序。本发明PN结孔链结构,在相同的工艺过程中,更能反映出工艺过程的波动,相对N+孔链、P+孔链结构,能更敏感的反映出工艺过程的变化,真实的反映产品批次间导通电阻的变化趋势。
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