封装体叠层架构以及制造方法

    公开(公告)号:CN105765711A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201380081138.2

    申请日:2013-12-23

    Abstract: 本发明的各实施例涉及封装组件和用于制造封装组件的方法。在一个实施例中,封装组件包括至少部分地嵌入在模合层中的管芯;以及,贯穿模压通道(TMV)。TMV可以具有垂直的侧面或可包括带有不同的形状的两个不同的部分。在某些情况下,在制造过程中,可以使用预制的通道杆。本发明的封装组件可包括具有小于0.3mm的间距的封装体叠层(POP)互连。可以描述和/或要求保护其他实施例。

    作为用于封装结构的小芯片的带TSV的混合接合堆叠存储器

    公开(公告)号:CN116387275A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202211475241.2

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 公开了作为用于封装结构的小芯片的带TSV的混合接合堆叠存储器。本文公开的实施例包括小芯片模块和管芯模块。在实施例中,小芯片模块包括第一小芯片,其中,第一小芯片包括第一有源表面。在实施例中,小芯片模块还包括第二小芯片,其中,第二小芯片包括第二有源表面。在实施例中,小芯片模块还包括在第一小芯片和第二小芯片之间的混合接合界面,其中,混合接合界面将第一小芯片电耦合到第二小芯片。

    直接附接到电路板的微电子组件
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117581364A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202280044320.X

    申请日:2022-08-22

    Abstract: 本文公开了微电子组件、相关的装置和方法。在一些实施例中,一种微电子组件可以包括:第一重新分布层(RDL),所述第一RDL具有第一表面、相对的第二表面、以及第一和第二表面之间的第一导电通路,第一表面具有第一导电接触部,第一导电接触部具有170微米和400微米之间的第一间距;第一RDL上的第一层中的第一管芯和导电柱;第一层上的第二RDL,第二RDL具有第一表面、相对的第二表面以及第一和第二表面之间的第二导电通路,第二表面具有第二导电接触部,第二导电接触部具有18微米和150微米之间的第二间距;以及第二RDL上的第二层中的第二管芯,第二管芯经由第一导电通路、导电柱、第二导电通路、以及第二导电接触部电耦接到第一导电接触部。

    集成电路封装中的有机基板上的无机重分布层

    公开(公告)号:CN117157748A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202280024820.7

    申请日:2022-03-24

    Abstract: 一种集成电路(IC)封装,包括:管芯,管芯具有第一间距的第一组互连;以及内插器,内插器包括具有第二间距的第二组互连的有机基板。内插器还包括位于有机基板之上的无机层。无机层包括将第二组互连与第一组互连电耦合的导电迹线。管芯通过第一组互连附接到内插器。在一些实施例中,内插器还包括嵌入式管芯。IC封装还包括具有第三间距的第三组互连的封装支撑部以及位于内插器的与管芯相对的表面之上的第二无机层。第二无机层包括将第三组互连与第二组互连电耦合的导电迹线。

    平坦集成电路封装互连
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119764284A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202411948974.2

    申请日:2017-06-02

    Abstract: 本文一般讨论了包含大致共面的导电柱的设备、方法和系统。根据示例,一种技术能够包括:在衬底的相应暴露的接合衬垫上生成导电柱;将模制材料设置在所生成的导电柱周围和上面;同时移除模制材料和所生成的导电柱的一部分以使得所生成的导电柱和模制材料大致平坦;以及电气上将管芯耦合到导电柱。

Patent Agency Ranking