-
公开(公告)号：CN115134437A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202110324578.2
申请日：2021-03-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
IPC: H04M1/02
Abstract: 本申请涉及一种双纹理手机膜片，其包括自下向上依次层叠设置的基层、第一纹理层、第二纹理层、镀膜层以及丝印层，第一纹理层具有若干第一微纳结构，第二纹理层具有若干第二微纳结构，第一微纳结构和第二微纳结构的尺寸不同，相较于现有的双层结构的双纹双镀膜片，本发明所示的双纹理手机膜片在达到酷炫效果的同时减少了一层基层、一层胶层、一层电镀层的厚度，整体厚度减少1/3，有利于手机内部空间设计，满足超薄手机的设计理念；制备工艺流程更简单，降低了制备成本；双纹的直接叠加带来更多效果样，更丰富的装饰选择使得手机背部更加炫酷。
-
公开(公告)号：CN112014914A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201910461031.X
申请日：2019-05-30
Applicant: 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种光学膜片，包括基层及设置在所述基层上的微纳结构层，所述微纳结构层包括至少一个第一结构区和至少一个第二结构区，所述第一结构区包括复数个微纳子结构，所述微纳子结构包括第一凸起结构和/或第一凹槽结构；所述第二结构区包括复数个微纳结构单元，所述微纳结构单元包括周期性排布的条纹结构，所述条纹结构包括第二凸起结构和/或第二凹槽结构。通过设置有至少一个第一结构区及至少一个第二结构区，使得光学膜片既有亮银光影效果，又有镭射效果，具有很好的装饰及辨识效果。
-
公开(公告)号：CN220105326U
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202321528026.4
申请日：2023-06-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型涉及一种光学薄膜及显示面板。光学薄膜包括依次层叠设置的可视模组、贴合层和隐藏显示模组；可视模组包括层叠设置的第一基层和纹理图像层，第一基层远离贴合层设置；隐藏显示模组包括层叠设置的第二基层和透光层，第二基层远离贴合层设置，透光层包括若干用于透光的凸起结构，凸起结构的周围为凹坑区域，凹坑区域内填充有遮光材料。应用本实用新型技术方案的光学薄膜，没有背光光照时显示纹理图像，在需要进行操控及显示时有背光光照，显示隐藏图形，此时背光通过透光层的凸起结构透过，凸起结构可以调控透光比例，精度较高。
-
公开(公告)号：CN213689989U
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202022910405.2
申请日：2020-12-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种手机膜片，包括微透镜放大成像膜片层、光学胶层、衬底和纹理层，所述微透镜放大成像膜片层由上向下包括微透镜层、基膜和微图文层，所述衬底的下表面设置所述纹理层，所述衬底的上表面设置所述光学胶层，所述光学胶层包裹所述微透镜放大成像膜片层，且所述光学胶层未覆盖所述微透镜层的上表面。通过上述结构，可以使外部光线从空气中直接入射至微透镜层，从而不会改变微透镜层成像的焦距，进而使微透镜阵列放大成像膜片能产生清晰的景深和动态效果，以使手机膜片具有独特的视觉效果。
-
公开(公告)号：CN119310756A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202310848092.8
申请日：2023-07-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种荧光成像薄膜、防伪制品及荧光成像薄膜的制作方法，包括荧光层、间隔层和透镜层。其中，透镜层设置在间隔层的一侧，且该透镜层包括呈阵列排布的多个微透镜；荧光层设置在间隔层背向透镜层的一侧，间隔层用于将荧光层和透镜层间隔开，使荧光层至透镜层的距离满足透射焦距。该荧光层包括呈阵列排布的多个荧光部，荧光部中设置有荧光图案微结构，且荧光图案微结构填充有荧光材料。每个微透镜与每个荧光部对应设置。荧光成像薄膜使人们能够在光照下观察到荧光且悬浮的图像，获得丰富的视觉效果和优良的防伪效果。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118466137A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410779688.1
申请日：2024-06-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 江苏维格新材料科技有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻印刷领域，特别涉及一种微纳结构的制备方法，以及制备得到的压印模板和压印得到的防伪制品。通过待制备的微纳结构的前景图案和背景图案获得直写图文和光栅图文，直写图文中包括多个直写光刻单元。将光栅图文中的像素点分别映射至直写图文，将识别出坐标相同的重合像素点。删除光栅图文中于重合像素点对应的像素点得到调整图文。利用调整图文进行干涉光刻，利用直写图文进行直写光刻，得到微纳结构。通过像素点映射的方式，形成可精准对位的文件进行光刻，节约工序，提高效率及成品率，且光刻后的结构没有重合叠加部分，具有更好的光学效果，实现了高分辨率大幅面的微米级光刻结构和纳米级光刻结构的复合。
-
公开(公告)号：CN118444546A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310080473.6
申请日：2023-02-03
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03H1/08
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种计算全息的制作方法、装置及可读存储介质。方法包括：预设效果图；对所述效果图进行预处理，以得到多个具有对应景深的平面图像；对各所述平面图像进行计算全息数据处理，生成各相位调制图；组合各所述相位调制图，并对组合后的相位调制图进行光刻。由此，通过对拆分得到的各平面图像单独进行计算全息数据处理后再进行组合，即，将计算全息进行组合应用，可以避免大数据量的计算，同时增加了效果的多样性，例如景深、立体、转动字等，可以更广泛地应用于包装防伪上。
-
公开(公告)号：CN118131476A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
-
公开(公告)号：CN115497402A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211138997.8
申请日：2022-05-20
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种立体光影彩色装饰纹理。包括自上而下依次设置的基层、第一胶层、第一复合层；第一复合层包括第一薄膜层和第一微结构层；第一微结构层上包括第一精密微结构主体层、第一镀膜层和第一油墨层，第一镀膜层为仿精密微结构主体层表面形状的共形结构，油墨填充于第一镀膜层的凹槽内；或第一复合层包括第一薄膜层、第一微结构层和第一镀膜层，第一微结构层上设置有精密微结构，其包括复数个微纳子结构，微纳子结构上设置有凹槽，凹槽内填充有油墨；第一薄膜层通过第一胶层固定设置于基层上。本发明装饰纹理使用微纳光刻技术转印微纳纹理于基材上，通过在基材上设置精密微结构，呈现立体，光影，彩色的效果；且能具备纹理的炫光效果。
-
公开(公告)号：CN115107277A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202110302250.0
申请日：2021-03-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具的制作方法，该方法包括：S1：设计3D浮雕文件和光栅文件；S2：将所述3D浮雕文件转换为浮雕位图；S3：按照浮雕和光栅所需组合效果确定浮雕取点文件和光栅取点文件，对浮雕位图和所述光栅文件进行取点处理；S4、将所述新的浮雕位图进行切割形成多个条带位图；S5：提供一基板；S6：根据所述组合方式光刻嵌设在一起的微纳浮雕结构和微纳光栅结构，获得用于制作装饰材料微纳结构的模具。本发明还公开了一种用于制作装饰材料微纳结构的模具，采用上述的方法制备。通过上述方法，无需掩膜套刻，便能制作出3D连续面形与微纳光栅混合的结构，操作简单，单元像素分辨高。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
60
records
(took 0.063 seconds)
