一种基于AlScN铁电材料忆阻器件的制备和处理方法

    公开(公告)号:CN119836222A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202510036809.8

    申请日:2025-01-09

    Abstract: 本发明公开了一种基于AlScN铁电材料忆阻器件的制备和处理方法,该制备方法将AlScN薄膜通过磁控溅射方法沉积在图案化的Pt电极上,并将图案化后的Cu电极覆盖在AlScN薄膜上制备得到易失性的基于AlScN铁电材料忆阻器件,在氮气氛围下进行热退火处理,处理得到非易失性的基于AlScN铁电材料忆阻器件;经过退火的基于AlScN铁电材料忆阻器件的伏安特性较未退火之前,从易失性转变为非易失性;该制备方法和处理方法流程操作简单,具有良好的应用前景。

    一种基于Ti/AlScN/Cu堆叠结构的铁电存储器制备方法

    公开(公告)号:CN119836221A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202510036808.3

    申请日:2025-01-09

    Abstract: 本发明公开了一种基于Ti/AlScN/Cu堆叠结构的铁电存储器制备方法,该方法通过依次沉积钛、铝掺钪氮化物和铜材料,形成Ti/AlScN/Cu多层堆叠结构,利用该结构的优异界面特性和材料的电学性能,提升存储器的开关速度、存储密度和耐用性;该方法具体步骤包括:在衬底上首先沉积一层钛薄膜,然后通过磁控溅射法在钛薄膜上沉积铝掺钪氮化物薄膜,最后沉积铜作为电极材料;本发明通过优化沉积工艺参数和层间厚度,可以实现铁电存储器的高效制备,同时有效提高铁电存储器的开关性能、低功耗特性及长周期稳定性,具有简单易行、可扩展性强等优点,适用于高性能铁电存储器的工业化生产。

Patent Agency Ranking