公开(公告)号：CN116423384B

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202310307906.7

申请日：2023-03-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王子睿 ,  王永光 ,  刘庆升 ,  丁钊 ,  朱睿 ,  成锋 ,  师晓曼 ,  彭超

IPC: B24B37/30 ,  C25F3/30 ,  H01L21/306 ,  B24B37/10 ,  B24B7/22

Abstract: 本发明涉及一种电化学机械抛光头及抛光装置，所述电化学机械抛光头包括抛光头主体和固定于其内部的工作电极；所述工作电极包括紧密贴合的第一分体和第二分体，所述第一分体内部设置有安装槽；所述第二分体具有与所述安装槽相仿形的结构并嵌设于所述安装槽内；所述第二分体安装至所述安装槽、且所述工作电极安装至所述避让槽后，所述抛光头主体、所述第一分体、所述第二分体的表面平齐；本发明将电化学反应中的工作电极设置为分体结构，能够控制压力与电势互补分布，平衡电化学反应程度和机械加工强度，在阳极氧化和磨粒机械去除的共同作用下实现半导体晶圆的高效抛光，提升材料的去除均匀性、去除速率，产品表面形貌优势明显。

公开(公告)号：CN108485328B

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201810409600.1

申请日：2018-05-02

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王永光 ,  刘雅玄 ,  赵栋 ,  赵永武 ,  陈瑶 ,  卞达 ,  齐菲

IPC: C09D1/00 ,  C09D5/08 ,  C09D7/61

Abstract: 本发明提供一种常温固化无机涂料，包括A组分和B组分；所述A组分包括：50～65重量份的金属磷酸盐粘结剂；33～42重量份的三氧化二铝；2～8重量份的磷酸二氢锰；0～2重量份的氧化石墨烯；所述B组分包括：50～65重量份的二氧化硅；10～15重量份的高铝水泥；15～25重量份的黏土粉；8～15重量份的氧化镁；所述金属磷酸盐粘结剂中的金属离子为铝离子、锌离子、铜离子、铁离子、亚铁离子、钙离子中的一种或几种；所述A组分和B组分的质量比为(4～5)：1；所述氧化石墨烯的厚度为4～20nm；所述氧化石墨烯的微片大小为5～10μm。本发明还提供了一种常温固化无机涂料的制备方法及一种涂层工件。

公开(公告)号：CN110205034A

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201910550088.7

申请日：2019-06-24

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王永光 ,  钮市伟 ,  寇清明 ,  陈瑶 ,  赵栋 ,  朱玉广 ,  刘卫卫

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明公开了一种氮化镓化学机械抛光液，由SiO2抛光液、H2O2、甘氨酸、对苯二甲酸、去离子水和pH调节剂配制而成；所述化学机械抛光液中，SiO2的浓度为5～10wt％，H2O2的浓度为0.4～0.8wt％，甘氨酸的浓度为0.5～1.5wt％，对苯二甲酸的浓度为0.1～1wt％，pH值为11～11.5。本发明还提供了所述氮化镓化学机械抛光液的制备方法。本发明的氮化镓化学机械抛光液，成分和制备工艺简单，改善了传统氮化镓抛光液污染环境、对人体有伤害等问题；并且抛光速率达一百纳米每小时以上，抛光表面粗糙度低至亚纳米级粗糙度。

公开(公告)号：CN109975037A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201910323438.6

申请日：2019-04-22

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王永光 ,  朱玉广 ,  陈瑶 ,  赵栋 ,  王传洋

IPC: G01M17/013 ,  G01M17/007 ,  G01M13/00

Abstract: 本发明公开了一种割草机性能测试平台，包括机架，机架上设置有测试模块和两个斜坡，测试模块具体包括：车轮转速测试单元，其用于测试割草机的车轮转速；车轮转动测试单元，其用于测试割草机的车轮的转动角度；振动测试单元，其用于测试割草机的振动强度；割刀测试单元，其用于测试割草机的割刀的转速、高度和停转时间；控制单元，其用于控制车轮转速测试单元、车轮转动测试单元、振动测试单元和割刀测试单元的工作；数据采集单元，其用于采集车轮转速测试单元、车轮转动测试单元、振动测试单元和割刀测试单元的测试结果；显示单元，其用于显示数据采集单元的数据。其能够对割草机的各项性能进行测试，工作效率高，节省人力，方便实用。

公开(公告)号：CN106048502B

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201610397863.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 苏州大学

Inventor： 赵栋 ,  陈瑶 ,  王传洋 ,  王永光 ,  刘卫卫

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/11

Abstract: 本发明公开了一种纳米YAG涂层、及其制备方法应用。所述制备方法包括：提供含均匀分散的Al2O3颗粒和Y2O3颗粒的悬浮液；将所述悬浮液以等离子喷涂工艺喷涂到基体上，形成Y3Al5O12涂层，即所述纳米YAG涂层。本发明提供的纳米YAG涂层致密度高，抗等离子侵蚀性能优良，适于在各种基体上应用，其制备工艺无需造粒等环节，简单易操作，生产效率高，且在不降低涂层抗等离子侵蚀性能的前提下还可以减少昂贵Y2O3的用量，生产成本低，适于大规模实施。

公开(公告)号：CN106048502A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610397863.6

申请日：2016-06-07

Applicant: 苏州大学

Inventor： 赵栋 ,  陈瑶 ,  王传洋 ,  王永光 ,  刘卫卫

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/11

Abstract: 本发明公开了一种纳米YAG涂层、及其制备方法应用。所述制备方法包括：提供含均匀分散的Al2O3颗粒和Y2O3颗粒的悬浮液；将所述悬浮液以等离子喷涂工艺喷涂到基体上，形成Y3Al5O12涂层，即所述纳米YAG涂层。本发明提供的纳米YAG涂层致密度高，抗等离子侵蚀性能优良，适于在各种基体上应用，其制备工艺无需造粒等环节，简单易操作，生产效率高，且在不降低涂层抗等离子侵蚀性能的前提下还可以减少昂贵Y2O3的用量，生产成本低，适于大规模实施。

公开(公告)号：CN105861977A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610398367.2

申请日：2016-06-07

Applicant: 苏州大学

Inventor： 赵栋 ,  陈瑶 ,  王传洋 ,  王永光 ,  刘卫卫

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/10

CPC classification number: C23C4/10

Abstract: 本发明公开了一种耐高温吸波涂层、其制备方法与应用。所述耐高温吸波涂层包括主要由复数个小尺寸扁平粒子聚集形成的涂层结构，所述涂层结构内还分别有复数个垂直裂纹，所述垂直裂纹沿所述涂层的厚度方向延伸，所述小尺寸扁平粒子包含Ti3AlC2小尺寸扁平粒子和Al2O3小尺寸扁平粒子。所述制备方法包括：提供包含有均匀分散的Ti3AlC2颗粒和Al2O3颗粒的悬浮液；将悬浮液通过等离子喷涂工艺施加至基体表面，形成耐高温吸波涂层。本发明依据Ti3AlC2优异的高温稳定性和抗高温氧化性，制备了Ti3AlC2/Al2O3高温吸波涂层，同时通过在涂层内部引入垂直裂纹，使其同时兼具优良吸波性能、抗高温氧化性能和热冲击性能，将在各类航空或航天器中的吸波材料领域发挥重要作用。

公开(公告)号：CN117359104A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202311513929.X

申请日：2023-11-14

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王永光 ,  王子睿 ,  贺海东 ,  彭洋 ,  张天宇 ,  成锋 ,  朱睿 ,  彭超 ,  师晓曼

IPC: B23K26/352 ,  B23K26/60 ,  B23K26/70

Abstract: 发明涉及一种基于液相下激光技术的碳化硅晶体化学机械抛光方法，包括：液相下激光扫描辅助工序，将待加工Si C晶体放置在盛放有液体介质的容器中，待加工Si C晶体被液体介质浸泡，纳秒激光器的激光束射在待加工Si C晶体的表面进行激光扫描加工，用以对待加工Si C晶体进行烧蚀和氧化改性；激光束沿X方向以蛇形路径扫描；旋转容器，激光束沿Y方向以蛇形路径扫描；X方向和Y方向相交且与待加工Si C晶体表面所在的平面平行；化学机械抛光工序，对激光处理后的待加工Si C晶体的表面材料进行去除。本发明先采用激光扫描对Si C晶体进行烧蚀和氧化改性，随后采用CMP进行材料去除，可实现Si C晶体的高效、低损伤超精密抛光。

公开(公告)号：CN115595026B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202211096504.9

申请日：2022-09-08

Applicant: 苏州大学

Inventor： 赵栋 ,  张凤草 ,  孙明磊 ,  刘鑫 ,  王明娣 ,  王永光 ,  陈瑶

IPC: C09D129/04 ,  C09D5/32 ,  C09D7/61

Abstract: 本发明公开了一种MXene基吸波涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、加热MXene粉末，得到初级MXene粉末；S2、制备铁盐溶液，并在搅拌过程中滴入偶联剂，得到初级混合液；S3、对初级MXene粉末进行真空抽滤，得到次级MXene粉末；S4、在真空条件下将初级混合液与次级MXene粉末混合，得到次级混合液；S5、在70～90℃下加热干燥次级混合液，得到初级复合粉末；S6、对初级复合粉末进行热处理，得到次级复合粉末；S7、将四氧化三铁纳米粉末与次级复合粉末在溶剂中搅拌混合，然后加入聚乙烯醇溶液，继续搅拌后得到涂层浆料；S8、将所述涂层浆料进行雾化，干燥后得到涂层粉料；S9、将涂层粉料通过等离子喷涂法制得吸波涂层。本发明的制备方法能够实现复合涂层更优的吸波性能。

公开(公告)号：CN116423384A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202310307906.7

申请日：2023-03-27

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王子睿 ,  王永光 ,  刘庆升 ,  丁钊 ,  朱睿 ,  成锋 ,  师晓曼 ,  彭超

IPC: B24B37/30 ,  C25F3/30 ,  H01L21/306 ,  B24B37/10 ,  B24B7/22

Abstract: 本发明涉及一种电化学机械抛光头及抛光装置，所述电化学机械抛光头包括抛光头主体和固定于其内部的工作电极；所述工作电极包括紧密贴合的第一分体和第二分体，所述第一分体内部设置有安装槽；所述第二分体具有与所述安装槽相仿形的结构并嵌设于所述安装槽内；所述第二分体安装至所述安装槽、且所述工作电极安装至所述避让槽后，所述抛光头主体、所述第一分体、所述第二分体的表面平齐；本发明将电化学反应中的工作电极设置为分体结构，能够控制压力与电势互补分布，平衡电化学反应程度和机械加工强度，在阳极氧化和磨粒机械去除的共同作用下实现半导体晶圆的高效抛光，提升材料的去除均匀性、去除速率，产品表面形貌优势明显。