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公开(公告)号：CN115672686B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202210703413.0
申请日：2022-06-21
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，即使在从工件的两面侧进行加热的情况下，也能够通过简单的方法对附着有加热处理的对象物的工件的表面温度、背面温度以及面内的温度分布的偏差进行更详细的控制。加热处理装置包括：腔室；第一加热部；第二加热部，与第一加热部相向；至少一个第一均热板，设置于第一加热部与第二加热部之间；至少一个第二均热板，设置于第一均热板与第二加热部之间；第一处理区域，为第一均热板与第二均热板之间且用以支撑工件；第一温度控制部，设置于第一均热板；以及第二温度控制部，设置于第二均热板。第一温度控制部具有与第一均热板隔开间隙而设置的第一放射部。第二温度控制部具有与第二均热板隔开间隙而设置的第二放射部。
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公开(公告)号：CN117781689A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311016243.X
申请日：2023-08-14
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，在加热器的通断时，即使加热器在沿着中心轴的方向上伸缩也可抑制产生颗粒。加热处理装置包括：腔室，在内部收纳工件；多个加热器，设置于腔室的内部且呈棒状；以及第一支撑部及第二支撑部中的至少任一者，在腔室的内部对加热器进行支撑。多个加热器在与加热器的中心轴交叉的方向上排列。第一支撑部具有：第一板，在加热器的下方以与多个加热器平行的方式设置；以及转动部，设置于加热器与第一板之间，与加热器以及第一板接触，且能够在沿着加热器的中心轴的方向上移动。第二支撑部具有：保持部，对加热器进行保持；以及第二板，与保持部连接且能够根据加热器的伸缩而在沿着加热器的中心轴的方向上进行弹性变形。
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公开(公告)号：CN114850003B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202111653766.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，可实现由附着于腔室内壁的固体所致的保养的减轻。实施方式的加热处理装置包括：腔室，可维持较大气压进一步经减压的气体环境；排气部，可经由设于所述腔室的排气口将所述腔室的内部排气；支撑部，设于所述腔室的内部，可支撑工件；第一加热部，设于所述腔室的内部，可将所述工件加热；防附着板，可装卸地设于所述腔室的内壁；以及第二加热部，可将所述防附着板加热。
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公开(公告)号：CN116618260A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310051976.0
申请日：2023-02-02
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种热处理装置以及热处理方法，不会使生产性下降而确保腔室内的洁净度，提高工件的品质。实施方式的热处理装置(1)具有：腔室(10)，可维持比大气压减压的环境；排气部(40)，连接于腔室(10)，对腔室(10)内进行排气；支撑部(30)，支撑被收容在腔室(10)内的工件(W)；加热部(50)，进行在工件(W)被支撑于支撑部(30)的状态下对工件(W)进行加热的第一加热，且进行在工件(W)未被支撑于支撑部(30)的状态下以比第一加热快的升温速度对腔室(10)内进行加热的第二加热；以及供气部(60)，在所述第一加热后以及所述第二加热后对腔室内供给气体，由此来进行冷却。
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公开(公告)号：CN116475034A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310059026.2
申请日：2023-01-18
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种热处理装置及热处理方法，在抑制腔室的开闭门滑动所需的空间的同时，确保在腔室的内部配置基板的空间，进而在开闭门开口时抑制腔室的内部的散热。本发明包括：腔室，设置有开口部，自开口部搬入工件；支撑部，设置于腔室的内部，对工件进行支撑；加热器，设置于腔室的内部，对由支撑部支撑的工件进行热处理；开闭门，能够相对于开口部在上下方向上移动，且在进行热处理时将开口部关闭；以及加热控制部，在利用开闭门使开口部的一部分开口的期间，使腔室的内部中位于开口部由开闭门关闭的区域的加热器接通。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115846159B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202211017278.0
申请日：2022-08-23
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可实现维护的容易化的加热处理装置、搬入搬出夹具及加热处理装置的维护方法。实施方式的加热处理装置包括：腔室；匣盒支架，设置于所述腔室的内部，且至少具有一对接收构件；第一加热部，设置于所述一对接收构件的上方，且具有至少一个第一加热器；第二加热部，设置于所述一对接收构件的下方，且具有至少一个第二加热器并且与所述第一加热部相向；以及匣盒，呈箱状且在内部具有用以支撑工件的空间，并且在所述第一加热部与所述第二加热部之间装卸自如地支撑于所述一对接收构件。在所述匣盒的相互相向的一对侧面分别设置有由所述接收构件支撑的匣盒支撑部。
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公开(公告)号：CN115672667A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210713308.5
申请日：2022-06-22
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可降低对形成了有机膜的工件进行冷却所花费的成本且维持有机膜的品质的有机膜形成装置及有机膜的制造方法。有机膜形成装置包括：腔室；排气部；处理区域，用来支撑工件；加热部，与工件相向地设置；冷却部，对加热部供给冷却气体；以及控制器，对加热部、排气部及冷却部进行控制。控制器在工件为比阈值高的温度的情况下，将不易与经加热的工件反应的第一冷却气体供给至加热部，在工件为阈值以下的温度的情况下，将第二冷却气体供给至加热部，在自开始将处理完毕的工件从腔室搬出起至将接下来要进行处理的工件搬入至腔室，并通过第一加热部及第二加热部中的至少任一者进行升温为止的期间，将第一冷却气体供给至腔室内。
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公开(公告)号：CN114850003A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202111653766.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，可实现由附着于腔室内壁的固体所致的保养的减轻。实施方式的加热处理装置包括：腔室，可维持较大气压进一步经减压的气体环境；排气部，可经由设于所述腔室的排气口将所述腔室的内部排气；支撑部，设于所述腔室的内部，可支撑工件；第一加热部，设于所述腔室的内部，可将所述工件加热；防附着板，可装卸地设于所述腔室的内壁；以及第二加热部，可将所述防附着板加热。
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公开(公告)号：CN116475034B
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202310059026.2
申请日：2023-01-18
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种热处理装置及热处理方法，在抑制腔室的开闭门滑动所需的空间的同时，确保在腔室的内部配置基板的空间，进而在开闭门开口时抑制腔室的内部的散热。本发明包括：腔室，设置有开口部，自开口部搬入工件；支撑部，设置于腔室的内部，对工件进行支撑；加热器，设置于腔室的内部，对由支撑部支撑的工件进行热处理；开闭门，能够相对于开口部在上下方向上移动，且在进行热处理时将开口部关闭；以及加热控制部，在利用开闭门使开口部的一部分开口的期间，使腔室的内部中位于开口部由开闭门关闭的区域的加热器接通。
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公开(公告)号：CN118687377A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410187683.X
申请日：2024-02-20
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可减小工件的面内的温度的偏差的加热处理装置。实施方式的加热处理装置包括：腔室，在内部具有对工件进行加热处理的加热区域；至少一个第一加热器，在所述腔室的内部设置于所述加热区域的上方及下方中的至少任一者，且沿第一方向延伸；以及至少一个第二加热器，在所述腔室的内部以沿和所述第一方向交叉的第二方向与所述第一加热器并排的方式存在，且比所述第一加热器短。所述第一加热器由单一或一对组构成，并且配置成在所述第一方向上对所述加热区域的中央区域及所述加热区域的周缘区域进行加热。所述第二加热器配置成在所述第一方向上对所述加热区域的所述周缘区域进行加热。
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