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公开(公告)号：CN115672686B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202210703413.0
申请日：2022-06-21
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，即使在从工件的两面侧进行加热的情况下，也能够通过简单的方法对附着有加热处理的对象物的工件的表面温度、背面温度以及面内的温度分布的偏差进行更详细的控制。加热处理装置包括：腔室；第一加热部；第二加热部，与第一加热部相向；至少一个第一均热板，设置于第一加热部与第二加热部之间；至少一个第二均热板，设置于第一均热板与第二加热部之间；第一处理区域，为第一均热板与第二均热板之间且用以支撑工件；第一温度控制部，设置于第一均热板；以及第二温度控制部，设置于第二均热板。第一温度控制部具有与第一均热板隔开间隙而设置的第一放射部。第二温度控制部具有与第二均热板隔开间隙而设置的第二放射部。
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公开(公告)号：CN116618260A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310051976.0
申请日：2023-02-02
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种热处理装置以及热处理方法，不会使生产性下降而确保腔室内的洁净度，提高工件的品质。实施方式的热处理装置(1)具有：腔室(10)，可维持比大气压减压的环境；排气部(40)，连接于腔室(10)，对腔室(10)内进行排气；支撑部(30)，支撑被收容在腔室(10)内的工件(W)；加热部(50)，进行在工件(W)被支撑于支撑部(30)的状态下对工件(W)进行加热的第一加热，且进行在工件(W)未被支撑于支撑部(30)的状态下以比第一加热快的升温速度对腔室(10)内进行加热的第二加热；以及供气部(60)，在所述第一加热后以及所述第二加热后对腔室内供给气体，由此来进行冷却。
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公开(公告)号：CN115672667A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210713308.5
申请日：2022-06-22
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可降低对形成了有机膜的工件进行冷却所花费的成本且维持有机膜的品质的有机膜形成装置及有机膜的制造方法。有机膜形成装置包括：腔室；排气部；处理区域，用来支撑工件；加热部，与工件相向地设置；冷却部，对加热部供给冷却气体；以及控制器，对加热部、排气部及冷却部进行控制。控制器在工件为比阈值高的温度的情况下，将不易与经加热的工件反应的第一冷却气体供给至加热部，在工件为阈值以下的温度的情况下，将第二冷却气体供给至加热部，在自开始将处理完毕的工件从腔室搬出起至将接下来要进行处理的工件搬入至腔室，并通过第一加热部及第二加热部中的至少任一者进行升温为止的期间，将第一冷却气体供给至腔室内。
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公开(公告)号：CN118687377A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410187683.X
申请日：2024-02-20
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可减小工件的面内的温度的偏差的加热处理装置。实施方式的加热处理装置包括：腔室，在内部具有对工件进行加热处理的加热区域；至少一个第一加热器，在所述腔室的内部设置于所述加热区域的上方及下方中的至少任一者，且沿第一方向延伸；以及至少一个第二加热器，在所述腔室的内部以沿和所述第一方向交叉的第二方向与所述第一加热器并排的方式存在，且比所述第一加热器短。所述第一加热器由单一或一对组构成，并且配置成在所述第一方向上对所述加热区域的中央区域及所述加热区域的周缘区域进行加热。所述第二加热器配置成在所述第一方向上对所述加热区域的所述周缘区域进行加热。
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公开(公告)号：CN115672686A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210703413.0
申请日：2022-06-21
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，即使在从工件的两面侧进行加热的情况下，也能够通过简单的方法对附着有加热处理的对象物的工件的表面温度、背面温度以及面内的温度分布的偏差进行更详细的控制。加热处理装置包括：腔室；第一加热部；第二加热部，与第一加热部相向；至少一个第一均热板，设置于第一加热部与第二加热部之间；至少一个第二均热板，设置于第一均热板与第二加热部之间；第一处理区域，为第一均热板与第二均热板之间且用以支撑工件；第一温度控制部，设置于第一均热板；以及第二温度控制部，设置于第二均热板。第一温度控制部具有与第一均热板隔开间隙而设置的第一放射部。第二温度控制部具有与第二均热板隔开间隙而设置的第二放射部。
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