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公开(公告)号：CN114850003A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202111653766.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，可实现由附着于腔室内壁的固体所致的保养的减轻。实施方式的加热处理装置包括：腔室，可维持较大气压进一步经减压的气体环境；排气部，可经由设于所述腔室的排气口将所述腔室的内部排气；支撑部，设于所述腔室的内部，可支撑工件；第一加热部，设于所述腔室的内部，可将所述工件加热；防附着板，可装卸地设于所述腔室的内壁；以及第二加热部，可将所述防附着板加热。
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公开(公告)号：CN117753694A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311128056.0
申请日：2023-09-04
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Inventor： 今冈裕一
Abstract: 本发明提供一种清洗装置，其可防止清洗液侵入至旋转机构，并且可防止来自旋转机构的尘埃附着于基板。实施方式的清洗装置包括：多个辊，与基板的外周接触而使基板旋转；旋转机构，使辊经由旋转轴而旋转；罩，介隔存在于辊与旋转机构之间，覆盖旋转机构；喷出口，设置于罩，向罩与辊之间喷出气体；负压区域，设置于罩中的旋转机构侧，通过排气而成为相较于罩的外部的气压为负压；清洗液喷出部，对基板喷出清洗液；以及清洗部，通过使刷与旋转的基板的至少一个面接触来对基板的面进行清洗。
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公开(公告)号：CN114850003B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202111653766.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热处理装置，可实现由附着于腔室内壁的固体所致的保养的减轻。实施方式的加热处理装置包括：腔室，可维持较大气压进一步经减压的气体环境；排气部，可经由设于所述腔室的排气口将所述腔室的内部排气；支撑部，设于所述腔室的内部，可支撑工件；第一加热部，设于所述腔室的内部，可将所述工件加热；防附着板，可装卸地设于所述腔室的内壁；以及第二加热部，可将所述防附着板加热。
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公开(公告)号：CN115116887A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210055954.7
申请日：2022-01-18
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够充分去除处于腔室的内部的异物的有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法。实施方式的有机膜形成装置包括：腔室，具有搬入或搬出工件的开口，能够维持较大气压进一步经减压的气体环境；门，能够使所述腔室的开口开闭；排气部，能够对所述腔室的内部进行排气；支撑部，设置于所述腔室的内部，能够支撑所述工件；加热部，设置于所述腔室的内部，能够将所述工件加热；以及至少一个喷嘴，设置于所述腔室的内部，能够向所述腔室的开口供给清洁气体。
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