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公开(公告)号:CN109417010B
公开(公告)日:2021-04-13
申请号:CN201780034185.X
申请日:2017-05-30
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/20 , H01J37/18 , H01L21/265 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及一种离子注入系统,其包括第一腔室以及具有加热夹盘的处理腔室。控制器在加热夹盘与第一腔室之间转移工件并选择性激励加热夹盘的第一模式和第二模式。在第一模式和第二模式下,分别将加热夹盘加热到第一温度和第二温度。第一温度是预定温度。第二温度是可变温度,由此控制器基于第一腔室中的热预算、注入能量和/或工件初始温度来确定第二温度,并且在第二模式下大体上维持第二温度。将工件从加热夹盘转移至第一腔室在第二模式下从处理腔室移除注入能量。通过在加热夹盘与冷却板之间转移工件,可以进一步将热量从加热夹盘传递至冷却板,继而冷却加热夹盘。
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公开(公告)号:CN113939891A
公开(公告)日:2022-01-14
申请号:CN202080040144.3
申请日:2020-06-02
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Abstract: 离子源组件和方法具有源气体供应器以向离子源腔室提供分子碳源气体。源气体流量控制器控制分子碳源气体至离子源腔室的流量。激发源激发分子碳源气体以形成碳离子和自由基。提取电极从离子源腔室中提取碳离子,形成离子束。氧化共伴气体供应器向腔室提供氧化共伴气体。氧化共伴气体流量控制器控制氧化共伴气体至腔室的流量。氧化共伴气体分解并与含碳残留物和原子碳反应,从而在离子源腔室内形成一氧化碳和二氧化碳。真空泵系统去除一氧化碳和二氧化碳,其中减少了原子碳在离子源腔室内的沉积并且增加了离子源的寿命。
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公开(公告)号:CN109417010A
公开(公告)日:2019-03-01
申请号:CN201780034185.X
申请日:2017-05-30
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/20 , H01J37/18 , H01L21/265 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及一种离子注入系统,其包括第一腔室以及具有加热夹盘的处理腔室。控制器在加热夹盘与第一腔室之间转移工件并选择性激励加热夹盘的第一模式和第二模式。在第一模式和第二模式下,分别将加热夹盘加热到第一温度和第二温度。第一温度是预定温度。第二温度是可变温度,由此控制器基于第一腔室中的热预算、注入能量和/或工件初始温度来确定第二温度,并且在第二模式下大体上维持第二温度。将工件从加热夹盘转移至第一腔室在第二模式下从处理腔室移除注入能量。通过在加热夹盘与冷却板之间转移工件,可以进一步将热量从加热夹盘传递至冷却板,继而冷却加热夹盘。
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