公开(公告)号：CN113939891A

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN202080040144.3

申请日：2020-06-02

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 大卫·斯波德莱 ,  尼尔·巴森 ,  尼尔·科尔文 ,  迈克·艾明 ,  徐晓

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32 ,  C23C14/06 ,  C23C14/48 ,  C23C14/56

Abstract: 离子源组件和方法具有源气体供应器以向离子源腔室提供分子碳源气体。源气体流量控制器控制分子碳源气体至离子源腔室的流量。激发源激发分子碳源气体以形成碳离子和自由基。提取电极从离子源腔室中提取碳离子，形成离子束。氧化共伴气体供应器向腔室提供氧化共伴气体。氧化共伴气体流量控制器控制氧化共伴气体至腔室的流量。氧化共伴气体分解并与含碳残留物和原子碳反应，从而在离子源腔室内形成一氧化碳和二氧化碳。真空泵系统去除一氧化碳和二氧化碳，其中减少了原子碳在离子源腔室内的沉积并且增加了离子源的寿命。

公开(公告)号：CN116325062A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180068072.8

申请日：2021-09-08

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 尼尔·科尔文 ,  奈尔·巴森 ,  徐晓

IPC: H01J37/08

Abstract: 提供了离子注入系统101、离子源108和方法，其中离子源配置为电离铝基离子源材料113、112并形成离子束112和包括非导电材料的副产物。蚀刻剂气体混合物具有预确定含量的氟和与离子源流体连通的稀有气体。预确定含量的氟与预确定的健康安全水平相关联，所述健康安全水平例如为氟的最大含量的约20％。蚀刻剂气体混合物可以具有含量低于约5％的氩气的共伴气。铝基离子源材料可以是陶瓷构件，例如推斥极轴、屏蔽件或所述离子源内的其他部件。