一种解决非树脂塞孔油墨入孔的PCB板制作方法

    公开(公告)号:CN116634669A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310385342.9

    申请日:2023-04-11

    Abstract: 本发明公开了一种解决非树脂塞孔油墨入孔的PCB板制作方法,依次包括以下步骤:前工序、钻孔、沉铜、板电、外层掩孔干膜、曝光显影、树脂塞孔、退膜、磨板和后工序;钻孔分别形成树脂塞孔和非树脂塞孔;外层掩孔干膜,将与树脂塞孔间距≤0.5mm的非树脂塞孔选出来,采用干膜将选出的非树脂塞孔覆盖;采用铝片进行树脂塞孔,若钻孔时采用的钻咀直径<0.4mm,铝片开窗尺寸要比钻咀直径大0.1~0.15mm;若钻孔时采用的钻咀直径≥0.4mm,铝片开窗尺寸要比钻咀直径小0.1~0.15mm;若树脂塞孔包括有盲孔,盲孔对应的铝片开窗要比盲孔孔径大0.15‑0.2mm。解决了因为非树脂塞孔和树脂塞孔之间的间距小,导致在塞孔时油墨流入非树脂塞孔的问题,缩短了制作流程,节省了成本,提高了生产效率。

    一种无孔环背钻孔的制作方法

    公开(公告)号:CN115297610B

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202210801996.0

    申请日:2022-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种无孔环背钻孔的制作方法,依次包括以下步骤:前工序处理;钻孔、沉铜板电:钻孔形成通孔,沉铜板电在通孔内形成孔铜和加厚板面的铜层;外层负片图形制作:贴膜、曝光和显影,贴膜时,将比通孔单边小于或等于3mil的铜环和板面需要保留的铜层区域进行贴膜;蚀刻:将没有贴膜的板面区域蚀刻掉;退膜;外层正片图形制作:采用干膜将铜环保护起来;图像电镀:加厚孔铜和板面的铜层厚度;背钻:将铜环通过背钻方式去除,实现无铜环的目的;闪蚀:通过闪蚀将孔内残留铜丝和粉尘清理干净;树脂塞孔、磨板;后工序。本发明采用两次图形制作,以及背钻和闪蚀工艺,能够确保铜环去除干净,避免影响PCB板信号传输。

    一种单面铝基板压铜柱PCB制作工艺

    公开(公告)号:CN115551228A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202210990218.0

    申请日:2022-08-18

    Abstract: 本发明涉及一种单面铝基板压铜柱PCB制作工艺,包括单面铝基板制作,所述单面铝基板制作后,进行FQC/FQA检查,待检查合格后进行包装入库,在FQC/FQA检查之前,先对单面铝基板进行钻大孔处理和压铜柱处理,所述钻大孔处理在单面铝基板上的元器件焊位处钻NPTH孔,然后对NPTH孔进行压铜柱处理,通过压合方式将铜柱压入NPTH孔内,使NPTH孔转变为PTH孔,用于焊接固定元器件脚。本发明单面铝基板压铜柱PCB制作工艺具有元器件焊接稳定、质量高等优点。

    一种PCB板背钻方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115515336A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211049882.1

    申请日:2022-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种PCB板背钻方法,依次包括以下步骤:前工序、钻孔、沉铜、板电、背钻、水洗、树脂塞孔和后工序;如果背钻的长度小于等于0.3mm,一次性进行钻孔;如果背钻的长度为0.31~0.5mm,分成2段进行钻孔;如果背钻的长度为0.51~1.0mm,分成3段进行钻孔;如果背钻的长度为1.01~1.5mm,分成5段进行钻孔;如果背钻的长度为1.51~2.0mm,分成6段进行钻孔;如果背钻的长度大于等于2.1mm,分成7段进行钻孔;水洗:将背钻面朝下放置PCB板,依次进行除孔塞、加压水洗一、超声波水洗、HF水洗、高压水洗和加压水洗二;采用铝片进行树脂塞孔,铝片包括依次连接的树脂层、木质纤维层和铝层;树脂塞孔时,将树脂层的这面放置在PCB板上。本发明缩短了制作背钻孔的流程,降低了成本,提高背钻孔的质量。

    一种提高埋铜块和线路板结合力的制作方法

    公开(公告)号:CN113905506A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202111184026.2

    申请日:2021-10-11

    Abstract: 本发明公开了一种提高埋铜块和线路板结合力的制作方法,依次包括以下步骤:前工序、内层芯板和PP片开窗、铜块侧壁开阶梯槽、棕化处理、放置铜块、压合和后工序;内层芯板和PP片开窗,根据预设的埋铜区域,分别对内层芯板和PP片相应的位置进行开窗,形成用于放置铜块的埋铜槽;后续叠构时,内层芯板之间,以及外层芯板与内层芯板之间均设有1~N片(N>1)的PP片;PP片开窗的尺寸大于其上方相邻内层芯板开窗的尺寸;若PP片超过1片,按从上到下的顺序,每层PP片开窗的尺寸依次增加;铜块侧壁开阶梯槽,使铜块的侧壁形成阶梯状;棕化处理,将铜块进行棕化处理。本发明提高埋入线路板的铜块与线路板之间的结合力,确保线路板的品质。

    具有封装区域的印刷线路板制作方法及装置

    公开(公告)号:CN119521544A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411547461.0

    申请日:2024-11-01

    Abstract: 本发明涉及具有封装区域的印刷线路板制作方法及装置,通过本发明的方案可以将PCB板的BGA区域的油墨厚度控制在第一预设范围内,将BGA区域的绿油块和白油块总厚度参数控制在第二预设范围内。可以适用于BGA、QFN、CSP、FinePitchIC等器件高密度组装中。本发明可以减少铜厚落差,保证防焊层与字符层厚度均匀性,可以有效避免PCB板在贴片时连锡短路致使产品性能失效,提高PCB板后端应用的良品率及使用寿命。

    一种高纵横比的PCB板制作方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116669303A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310459041.6

    申请日:2023-04-25

    Abstract: 本发明公开了一种高纵横比的PCB板制作方法,依次包括以下步骤:前工序、激光钻孔、钻通孔、沉铜一、沉铜二、板电、沉铜三、切片检测、镀孔和后工序;所述激光钻孔,钻出盲孔;所述钻通孔,制作形成通孔;所述沉铜二,将PCB板翻转后再进行沉铜二;所述板电,采用VCP垂直连续电镀线制作,采用正反脉冲波形电流,正电流和反电流的波形比为1:4,相应的板电需要的时间比为800:40,铜厚增加5‑8um,控制T/P值在80%以上。本发明一次性钻出通孔和盲孔后再进行后续加工,有利于提高效率,缩短流程;采用VCP垂直连续电镀线制作,控制波形比和时间,进行多次沉铜,确保孔铜分布均匀,保证孔内镀铜的效果,实现通孔和盲孔共镀,提高效率。

    一种离型膜式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺

    公开(公告)号:CN115942652A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202211265700.4

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 本发明涉及一种离型膜式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺,所述制作工艺为通过在芯板和PP片之间增设离型膜的方式进行制作埋铜板的方法,其中,芯板为双面覆铜板,制作工艺包括,铜块开料和制作;在双面覆铜板上预锣出埋铜位,埋铜位与铜块的大小相适应;离型膜流程:在离型膜上与所述芯板上埋铜位相对应的位置设有开窗;选取高流胶PP,裁切成与所述芯板大小相适应的PP片,所述PP片不开窗;压合流程:将PP片、离型膜、嵌入有铜块的芯板依次叠构后压合,得到双面高频高散热埋金属基PCB。本发明离型膜式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺制备的PCB可应用在5G通信产品上,解决了攻放通道升级后的散热问题,具有产品可靠性高、使用寿命长等优点。

    一种填胶式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺

    公开(公告)号:CN115802610A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211265660.3

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 本发明涉及一种填胶式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺,所述制作工艺为先在芯板上制作埋铜块槽,将铜块嵌入埋铜块槽,然后分两次树脂塞孔将铜块固定在所述芯板上的埋铜块槽内的方法,其中,所述芯板为双面覆铜板,树脂塞孔分两次进行,包括第1次树脂塞孔和第2次树脂塞孔,第1次树脂塞孔用于对铜块的短边与埋铜块槽之间进行塞孔,在第1次树脂塞孔完成后,将芯板翻面,从反面进行第2次树脂塞孔,第2次树脂塞孔用于对铜块的长边与埋铜块槽之间进行塞孔。本发明填胶式双面高频高散热埋金属基PCB制作工艺制备的PCB可应用在5G通信产品上,解决了攻放通道升级后的散热问题,具有塞孔饱满、产品可靠性高、使用寿命长等优点。

    一种无孔环背钻孔的制作方法

    公开(公告)号:CN115297610A

    公开(公告)日:2022-11-04

    申请号:CN202210801996.0

    申请日:2022-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种无孔环背钻孔的制作方法,依次包括以下步骤:前工序处理;钻孔、沉铜板电:钻孔形成通孔,沉铜板电在通孔内形成孔铜和加厚板面的铜层;外层负片图形制作:贴膜、曝光和显影,贴膜时,将比通孔单边小于或等于3mil的铜环和板面需要保留的铜层区域进行贴膜;蚀刻:将没有贴膜的板面区域蚀刻掉;退膜;外层正片图形制作:采用干膜将铜环保护起来;图像电镀:加厚孔铜和板面的铜层厚度;背钻:将铜环通过背钻方式去除,实现无铜环的目的;闪蚀:通过闪蚀将孔内残留铜丝和粉尘清理干净;树脂塞孔、磨板;后工序。本发明采用两次图形制作,以及背钻和闪蚀工艺,能够确保铜环去除干净,避免影响PCB板信号传输。

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