公开(公告)号：CN112838025A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN202011224945.3

申请日：2020-11-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 高定奭 ,  金善美 ,  洪志守 ,  金局生 ,  崔成彬 ,  许弼覠

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

Abstract: 本公开涉及基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置包括：支承单元，支承基板，并使基板旋转；以及喷射单元，包括一个以上喷嘴，所述喷嘴将混合有清洗液和二氧化碳的二流体向基板喷射。

公开(公告)号：CN112439573B

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN202010909543.0

申请日：2020-09-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  权五镇 ,  崔世亨

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B05B7/00

Abstract: 本发明构思提供了一种用于分配其中产生了等离子体的处理液的喷嘴。该喷嘴包括：主体，其具有内部空间；液体供应单元，其将处理液供应到内部空间中；和电极，其在内部空间中产生等离子体。所述液体供应单元将处于起泡状态的处理液供应到内部空间中，或者使处理液在内部空间中起泡。

公开(公告)号：CN114695177A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111253782.6

申请日：2021-10-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 权五镇 ,  洪志守 ,  金善美

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

Abstract: 本发明提供不使用硫酸而有效地去除光刻胶等有机物的基板处理装置及方法。所述基板处理装置包括：支承模块，基板被翻转并安置在所述支承模块上，并且紫外线光源设置在所述支承模块，其中，所述基板的一面布置成面对所述支承模块，所述紫外线光源向所述基板的一面照射紫外线；以及流体供给模块，包括设置在所述支承模块的喷嘴，并且通过所述喷嘴向所述基板的一面供给流体。

公开(公告)号：CN113903648A

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN202110750867.9

申请日：2021-07-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  张奎焕

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置、以及基板处理方法。用于处理基板的装置包括支承基板的支承单元和分配液体等离子体以蚀刻膜的喷嘴，该膜在支承在支承单元上的基板上形成。

公开(公告)号：CN111508863B

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN201911239645.X

申请日：2019-12-06

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  洪志守 ,  崔文植 ,  权五镇

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思提供了一种用于去除在基板上形成的膜的装置和方法。一种用于处理基板的方法包括将有机溶剂分配到基板上以去除基板上的光致抗蚀剂膜的一次溶剂分配步骤，以及在一次溶剂分配步骤之后将包含臭氧的液体分配到基板上以去除基板上的有机残留物的臭氧分配步骤。

公开(公告)号：CN117583292A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202310039024.7

申请日：2023-01-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙东熙 ,  李成洙 ,  李政彬 ,  金善美

IPC: B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

Abstract: 一种药液供应装置及利用其的基板清洗装置，药液供应装置包括：补给配管、补给阀、排液配管、排液阀、药液灌、供应配管、供应阀、支管、灌排液配管、灌排液阀、控制部，并执行如下步骤：第一预排液步骤，在开启所述补给阀和排液阀并关闭供应阀的状态下，通过补给配管来供应药液，而将停滞在补给配管内的药液和通过补给配管供应的药液通过排液配管排出既定的时间；第二预排液步骤，在完成所述第一预排液步骤的状态下，开启供应阀并通过补给配管来供应药液，从而所供应的药液的一部分排出到排液配管，一部分通过供应配管储存到药液灌；及药液供应步骤，在所述第二预排液步骤之后关闭已开启的排液阀，并通过所述补给配管和供应配管向药液灌供应药液。

公开(公告)号：CN112439573A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010909543.0

申请日：2020-09-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  权五镇 ,  崔世亨

IPC: B05B7/00 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种用于分配其中产生了等离子体的处理液的喷嘴。该喷嘴包括：主体，其具有内部空间；液体供应单元，其将处理液供应到内部空间中；和电极，其在内部空间中产生等离子体。所述液体供应单元将处于起泡状态的处理液供应到内部空间中，或者使处理液在内部空间中起泡。

公开(公告)号：CN111508863A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201911239645.X

申请日：2019-12-06

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  洪志守 ,  崔文植 ,  权五镇

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思提供了一种用于去除在基板上形成的膜的装置和方法。一种用于处理基板的方法包括将有机溶剂分配到基板上以去除基板上的光致抗蚀剂膜的一次溶剂分配步骤，以及在一次溶剂分配步骤之后将包含臭氧的液体分配到基板上以去除基板上的有机残留物的臭氧分配步骤。

公开(公告)号：CN114695177B

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN202111253782.6

申请日：2021-10-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 权五镇 ,  洪志守 ,  金善美

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

Abstract: 本发明提供不使用硫酸而有效地去除光刻胶等有机物的基板处理装置及方法。所述基板处理装置包括：支承模块，基板被翻转并安置在所述支承模块上，并且紫外线光源设置在所述支承模块，其中，所述基板的一面布置成面对所述支承模块，所述紫外线光源向所述基板的一面照射紫外线；以及流体供给模块，包括设置在所述支承模块的喷嘴，并且通过所述喷嘴向所述基板的一面供给流体。

公开(公告)号：CN112838025B

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202011224945.3

申请日：2020-11-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 高定奭 ,  金善美 ,  洪志守 ,  金局生 ,  崔成彬 ,  许弼覠

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

Abstract: 本公开涉及基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置包括：支承单元，支承基板，并使基板旋转；以及喷射单元，包括一个以上喷嘴，所述喷嘴将混合有清洗液和二氧化碳的二流体向基板喷射。