公开(公告)号：CN113903648A

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN202110750867.9

申请日：2021-07-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金善美 ,  张奎焕

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置、以及基板处理方法。用于处理基板的装置包括支承基板的支承单元和分配液体等离子体以蚀刻膜的喷嘴，该膜在支承在支承单元上的基板上形成。

公开(公告)号：CN114582751A

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN202111442461.0

申请日：2021-11-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔峻荣 ,  张奎焕

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明构思提供一种基板处理装置。所述基板处理装置包括第一处理部，其以批量式处理法对多个基板执行液体处理；及第二处理部，其处理在所述第一处理部处已处理的基板，并以单一式处理法对单个基板执行液体处理或干燥处理。

公开(公告)号：CN119517787A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411107007.3

申请日：2024-08-13

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 韩泳遵 ,  张奎焕 ,  禹朱夏

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

Abstract: 一种基底处理设备包括：支撑单元，被配置为支撑基底并且是可旋转的；化学液体供应喷嘴，被配置为向所述基底的化学液体供应区域供应化学液体；以及充电单元，被设置为与基底相邻。充电单元被设置为与化学液体供应喷嘴相邻，并且被充有与化学液体的电荷相反的电荷。

公开(公告)号：CN117497447A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202310883958.9

申请日：2023-07-18

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 田明娥 ,  崔永燮 ,  金永珍 ,  崔恩赫 ,  李福圭 ,  车帝明 ,  张奎焕

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种多个喷嘴头一体地联接的喷射单元和包括该喷射单元的衬底处理设备。该衬底处理设备包括：衬底支撑单元，支撑衬底并包括旋转衬底的旋转头；处理液体回收单元，回收用于处理衬底的衬底处理液体；和喷射单元，包括多个喷嘴头和连接到喷嘴头的多个管，并通过喷嘴头和管将衬底处理液体提供到衬底上，其中喷嘴头同时移动。

公开(公告)号：CN116903082A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202310121311.2

申请日：2023-02-15

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 田明娥 ,  崔永燮 ,  李福圭 ,  张奎焕 ,  高镛璿

IPC: C02F1/20

Abstract: 提供了一种能够快速且稳定地分解臭氧水的臭氧水分解装置及方法。该臭氧水分解装置包括：罐，配置成容纳臭氧水并分解臭氧水；第一供应单元，配置成将臭氧水供应到罐；第二供应单元，配置成将添加剂供应到罐，其中添加剂以预设的第一供应量或第二供应量供应；循环管线，配置成循环罐中的臭氧水；以及浓度计，安装在循环管线中，其中：使用循环管线循环臭氧水之后，使用浓度计测量臭氧水的臭氧浓度；随后基于臭氧水的测量到的臭氧浓度供应第一供应量或第二供应量的添加剂；以及随后循环臭氧水直至臭氧水的臭氧浓度达到预设的参考浓度。

公开(公告)号：CN116092974A

公开(公告)日：2023-05-09

申请号：CN202211387473.2

申请日：2022-11-07

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴贵秀 ,  崔峻荣 ,  张瑛珍 ,  高镛璿 ,  张奎焕 ,  林俊铉

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置和基板处理的方法。该基板处理装置包括：第一工艺处理单元，该第一工艺处理单元配置为以单一式方法对基板进行处理；第二工艺处理单元，该第二工艺处理单元配置为以批量式方法对基板进行处理；以及姿态改变单元，该姿态改变单元设置在第一工艺处理单元与第二工艺处理单元之间，并且配置为在竖直姿态和水平姿态之间改变基板的姿态，并且其中基板被装载到第一工艺处理单元并从第一工艺处理单元卸载。

公开(公告)号：CN115692256A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210907365.7

申请日：2022-07-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔峻荣 ,  张奎焕 ,  金喆求 ,  崔重奉 ,  李映一

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10

Abstract: 本发明构思提供一种衬底处理装置。衬底处理装置包括：处理槽，其用于对多个衬底进行液体处理并且具有用于容纳处理液的容纳空间；和姿势改变构件，其用于将浸没在处理液中的衬底的姿势从竖直姿势改变为水平姿势。

公开(公告)号：CN114695199A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111663835.1

申请日：2021-12-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜玟沃 ,  李映一 ,  张奎焕

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种用于处理基板的设备及用于处理基板的方法。在示例性实施例中，用于处理基板的设备包括配置为支承基板且被设置为可旋转的支承构件、配置为选择性地在基板上供应高温的第一处理液以及高温的第二处理液的处理液喷嘴、以及配置为控制处理液喷嘴，使得处理液喷嘴先在基板上供应第一处理液，随后在基板上供应第二处理液的控制器。