公开(公告)号：CN118197951A

公开(公告)日：2024-06-14

申请号：CN202311389284.3

申请日：2023-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  崔伦硕 ,  魏成硕

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可以不变更设备的设计而使照射到处理空间的微波的模式变换的使用微波的热处理装置及其工作方法。根据本发明的一实施例的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间，并在内壁附着有电泳膜；基板支承单元，位于所述热处理空间的下方，并支承所述基板；微波单元，位于所述热处理空间的上方，并将通过所述微波的电磁场形成于所述热处理空间；以及控制器，基于工艺条件以及所述基板的尺寸控制所述电泳膜，以控制所述微波的移动路径。

公开(公告)号：CN116067315A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202211277497.2

申请日：2022-10-19

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李载德 ,  姜汉林 ,  陈元镛 ,  张硕元

IPC: G01B21/00 ,  G01B11/00 ,  G01F22/00 ,  G01P5/26 ,  B41J2/07

Abstract: 提供了一种利用温度传感器阵列测量关于干涉区域的信息的干涉信息测量装置及具有其的基板处理系统。上述干涉信息测量装置包括：激光传感器，其输出第一激光和第二激光使得所述第一激光和所述第二激光交叉；热敏传感器阵列，其穿过由所述第一激光和所述第二激光交叉而形成的干涉区域；以及控制模块，其基于在所述热敏传感器阵列穿过所述干涉区域时获得的信息来测量所述干涉区域的位置。

公开(公告)号：CN115718107A

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN202210946683.4

申请日：2022-08-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  张硕元 ,  李载德 ,  陈元镛

IPC: G01N21/956

Abstract: 本发明提供了一种能够快速且准确地测量喷墨头的多个喷嘴中的弯月面位置的弯月面测量方法。所述弯月面测量方法包括：提供能够通过多个喷嘴来喷出墨的头单元；使膜与所述多个喷嘴密接，使得残留在所述多个喷嘴内的墨沾到所述膜上，从而在所述膜上形成检测图案；以及基于所述检测图案，测量残留在所述多个喷嘴内的墨的弯月面。

公开(公告)号：CN112213877A

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN202010619526.3

申请日：2020-06-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  李俊硕 ,  张润玉 ,  李炫玟

IPC: G02F1/1333

Abstract: 涉及一种基板、显示面板以及基板制造方法。本记载的基板包括：基底层；间隔壁，位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域；以及图案，在所述基底层位于所述像素区域，并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。

公开(公告)号：CN118213257A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202311725999.1

申请日：2023-12-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  金润相 ,  姜汉林 ,  曹玹玗 ,  李相政 ,  奉允根

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：离子阻断器，该离子阻断器将内部空间分为底侧处的第一空间和顶侧处的第二空间；支承单元，该支承单元配置为在第一空间支承基板；以及等离子体源，该等离子体源在内部空间产生等离子体，以及其中，在离子阻断器处形成多个通道，用于将流体从第二空间流动至第一空间，以及离子阻断器由介电物质制成，以及包括在等离子体中的离子和基团中的离子在穿过通道时被捕获。

公开(公告)号：CN118074648A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202311511261.5

申请日：2023-11-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 魏成硕 ,  崔伦硕 ,  姜汉林

IPC: H03H7/38 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种匹配网络模块和一种基底处理设备，其中，所述匹配网络模块包括：多个外壳，个体化以减少交叉射频(RF)干扰；多个匹配网络，分别安装在所述多个外壳中，以在多个RF发生器和等离子室之间独立地执行阻抗匹配；以及公共输出杆，将所述多个匹配网络的输出端子彼此连接。

公开(公告)号：CN117747470A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202310059363.1

申请日：2023-01-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  崔伦硕 ,  金润相 ,  曹玹玗 ,  李相政

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的实施例提供一种在利用微波的热处理工艺中能够以低费用调节基板的热分布的热处理装置以及其工作方法。根据本发明的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间；基板支承单元，位于所述热处理空间的下部并支承所述基板；以及微波单元，位于所述热处理空间的上方并在所述热处理空间形成由所述微波形成的电磁场，所述基板支承单元包括：卡盘，固定在所述热处理空间的下部；升降驱动机构，支承所述基板且构成为使所述基板相对于所述卡盘上升或者下降；以及控制器，以基于所述基板的按照区域的温度分布而调节所述基板的高度的方式控制所述升降驱动机构。

公开(公告)号：CN114639616A

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN202111455739.8

申请日：2021-12-01

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  姜汝京

IPC: H01L21/67 ,  H01L51/56 ,  B41J2/01 ,  B41J2/175

Abstract: 本发明提供排列装置及排列方法。所述排列装置可包括光照射部件、反射部件、检测部件及调整部件。所述光照射部件能够向与相对于对象排列的部件垂直的方向照射线性光。所述反射部件能够反射从所述光照射部件照射的所述线性光。所述检测部件能够检测从所述反射部件反射的光，能够基于检测到的光发生检测信号。所述调整部件能够从所述检测部件接收检测信号，能够根据所述检测信号确认相对于所述对象的所述排列的部件的排列，能够调整所述对象及所述排列的部件之间的排列。利用所述排列装置能够提高包括有机发光显示装置的显示装置的可靠性。

公开(公告)号：CN117238794A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202310490685.1

申请日：2023-05-04

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  姜汉林 ,  曹玹玗 ,  李相政

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01P1/203 ,  H01P5/12

Abstract: 本发明微波提供装置、包括微波提供装置的系统和制造半导体设备的方法。具体地，提供了一种系统，该系统包括：微波源，该微波源配置成生成微波；分支装置，该分支装置包括连接到微波源的输入端口；第一腔室和第二腔室，该第一腔室和第二腔室配置成通过使用微波来处理晶圆；第一过滤器，该第一过滤器配置成将微波传输到第一腔室或截止来自第一腔室的微波，并且连接到分支装置的第一输出端口；以及第二过滤器，该第二过滤器配置成将微波传输到第二腔室或截止来自第二腔室的微波，并且连接到分支装置的第二输出端口。

公开(公告)号：CN114590034A

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN202111515867.7

申请日：2021-12-01

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 郑娜玧 ,  姜汉林

IPC: B41J2/18 ,  B41J2/195 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供通过测量墨粒子的沉降速度来分离正常墨和不良墨的墨分离装置及具有该装置的基板处理系统。所述墨分离装置包括：沉降速度测量部，测量向喷墨头单元供应的墨溶液的沉降速度；以及控制单元，基于墨溶液的沉降速度，将墨溶液判断为正常墨和不良墨中的任一种，其中，如果墨溶液被判断为正常墨，则将墨供应到喷墨头单元，如果墨溶液被判断为不良墨，则废弃墨。