公开(公告)号：CN112172343A

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN202010608608.8

申请日：2020-06-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  张润玉 ,  李俊硕 ,  李炫玟

IPC: B41J2/01

Abstract: 本记载的液滴喷出装置包括：喷头，将墨向基板的各个像素区域喷出；激光单元，结合于所述喷头，将对准从所述喷头被喷出液滴的地点的对准用激光向各个所述像素区域照射；摄像单元，在所述基板拍摄被照射对准用激光的部分；以及位置排列单元，基于所述摄像单元中获取的图像数据而排列所述喷头的位置。

公开(公告)号：CN114683692A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111543378.2

申请日：2021-12-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李焌硕 ,  张润玉 ,  吴凡政 ,  李炫玟

IPC: B41J2/01 ,  G01N15/00 ,  G01N15/10 ,  G06T7/60

Abstract: 本发明涉及墨滴滴中状态测量装置及测量方法。提供一种测量墨滴的滴中状态的装置。在一实施例中，墨滴滴中状态测量装置包括：喷嘴头单元，其用于通过喷墨方式向基板排放墨滴；喷嘴检查单元，其用于检查从喷嘴头单元排放并且滴中于基板的墨滴的状态；其中，该喷嘴检查单元包括：线扫描摄像头，其扫描基板、并且获得被滴中墨滴的基板的图像作为第一图像；区域摄像头，其扫描基板、并且获得被滴中墨滴的基板的图像作为第二图像；数据分析部，其用于接收从线扫描摄像头和区域摄像头拍摄的第一图像和第二图像的拍摄数据、并且通过分析拍摄数据判断滴中于基板的墨滴的缺陷存在与否。

公开(公告)号：CN110355019B

公开(公告)日：2022-01-18

申请号：CN201910275560.0

申请日：2019-04-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李东润 ,  张润玉 ,  郑在训

IPC: B05B12/08

Abstract: 本发明提供一种药液供应方法，其利用包括中心部分与分别具有第一部分及第二部分的周边部分的喷墨头，可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应到基板上，从第一部分以第二药液供应量将药液供应到基板上，从第二部分以第三药液供应量将药液供应到基板上。可以将喷墨头在基板的上部移动相当于周边部分的长度的量。可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应到基板上，从第一部分以第二药液供应量将药液供应到基板上，从第二部分以第三药液供应量将药液供应到基板上。本发明的药液供应方法能够有效防止在所述基板的邻接的区域的边界因所述药液而可能发生的界面湍动现象，能够在所述基板上均匀地形成所需的薄膜。

公开(公告)号：CN112213877A

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN202010619526.3

申请日：2020-06-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  李俊硕 ,  张润玉 ,  李炫玟

IPC: G02F1/1333

Abstract: 涉及一种基板、显示面板以及基板制造方法。本记载的基板包括：基底层；间隔壁，位于所述基底层上并将所述基底层上方划分成多个像素区域；以及图案，在所述基底层位于所述像素区域，并引导喷出到所述基底层的液滴扩散。

公开(公告)号：CN116322240A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202211205338.1

申请日：2022-09-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金成昊 ,  张润玉 ,  李焌硕 ,  文彰振 ,  崔光俊

IPC: H10K71/13 ,  H10K71/20 ,  H10K59/122 ,  B41M5/00

Abstract: 本发明提供能够容易地去除误滴落的墨的显示装置的制造方法。所述基板处理方法包括：在基底上形成定义墨喷出区域的堤(bank)；在所述堤上形成牺牲图案；将墨喷出至所述墨喷出区域上；在所述墨喷出区域的墨上形成第一覆盖图案并在所述牺牲图案上形成第二覆盖图案；去除所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案以将所述堤的上表面露出。

公开(公告)号：CN113910773A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202110576199.2

申请日：2021-05-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金成昊 ,  张润玉 ,  李贤民 ,  李焌硕 ,  崔光俊

IPC: B41J2/045 ,  B41J3/407 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明提供一种使用显示有坐标系的基板上的图案来自动测量和校正墨水的撞击点的墨水撞击点校正装置及具有其的基板处理系统。所述墨水撞击点校正装置包括：识别部，从位于基板上的多个位置获得与墨水的撞击点有关的信息；以及校正部，基于与撞击点有关的信息校正基板上的墨水喷射位置的位置，其中，在多个位置处形成坐标系形态的坐标图案。

公开(公告)号：CN110355019A

公开(公告)日：2019-10-22

申请号：CN201910275560.0

申请日：2019-04-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李东润 ,  张润玉 ,  郑在训

IPC: B05B12/08

Abstract: 本发明提供一种药液供应方法，其利用包括中心部分与分别具有第一部分及第二部分的周边部分的喷墨头，可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应到基板上，从第一部分以第二药液供应量将药液供应到基板上，从第二部分以第三药液供应量将药液供应到基板上。可以将喷墨头在基板的上部移动相当于周边部分的长度的量。可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应到基板上，从第一部分以第二药液供应量将药液供应到基板上，从第二部分以第三药液供应量将药液供应到基板上。本发明的药液供应方法能够有效防止在所述基板的邻接的区域的边界因所述药液而可能发生的界面湍动现象，能够在所述基板上均匀地形成所需的薄膜。

公开(公告)号：CN114683692B

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202111543378.2

申请日：2021-12-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李焌硕 ,  张润玉 ,  吴凡政 ,  李炫玟

IPC: B41J2/01 ,  G01N15/00 ,  G01N15/10 ,  G06T7/60

Abstract: 本发明涉及墨滴滴中状态测量装置及测量方法。提供一种测量墨滴的滴中状态的装置。在一实施例中，墨滴滴中状态测量装置包括：喷嘴头单元，其用于通过喷墨方式向基板排放墨滴；喷嘴检查单元，其用于检查从喷嘴头单元排放并且滴中于基板的墨滴的状态；其中，该喷嘴检查单元包括：线扫描摄像头，其扫描基板、并且获得被滴中墨滴的基板的图像作为第一图像；区域摄像头，其扫描基板、并且获得被滴中墨滴的基板的图像作为第二图像；数据分析部，其用于接收从线扫描摄像头和区域摄像头拍摄的第一图像和第二图像的拍摄数据、并且通过分析拍摄数据判断滴中于基板的墨滴的缺陷存在与否。

公开(公告)号：CN115881582A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202210831264.6

申请日：2022-07-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金成昊 ,  张润玉 ,  黄宝渊 ,  李炫玟 ,  崔光俊

IPC: H01L21/67 ,  B41M5/00

Abstract: 本申请提供了一种能够通过最小化斑点的生成来提高产率的基板处理装置和方法。所述基板处理方法可以包括：通过使用多个喷嘴将墨水喷射到基板上，以在所述基板上形成彼此间隔开的多个墨水图案；计算所述多个墨水图案中的每一个的密度；以及基于所计算出的多个墨水图案中的每一个的密度，选择用于向一个像素区域中喷射墨水的至少一个喷嘴。