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公开(公告)号：CN118213257A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202311725999.1
申请日：2023-12-14
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：离子阻断器，该离子阻断器将内部空间分为底侧处的第一空间和顶侧处的第二空间；支承单元，该支承单元配置为在第一空间支承基板；以及等离子体源，该等离子体源在内部空间产生等离子体，以及其中，在离子阻断器处形成多个通道，用于将流体从第二空间流动至第一空间，以及离子阻断器由介电物质制成，以及包括在等离子体中的离子和基团中的离子在穿过通道时被捕获。
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公开(公告)号：CN117747470A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202310059363.1
申请日：2023-01-16
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的实施例提供一种在利用微波的热处理工艺中能够以低费用调节基板的热分布的热处理装置以及其工作方法。根据本发明的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间；基板支承单元，位于所述热处理空间的下部并支承所述基板；以及微波单元，位于所述热处理空间的上方并在所述热处理空间形成由所述微波形成的电磁场，所述基板支承单元包括：卡盘，固定在所述热处理空间的下部；升降驱动机构，支承所述基板且构成为使所述基板相对于所述卡盘上升或者下降；以及控制器，以基于所述基板的按照区域的温度分布而调节所述基板的高度的方式控制所述升降驱动机构。
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公开(公告)号：CN115497801A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202210693269.7
申请日：2022-06-17
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括：在其中形成用于处理基板的内部空间的工艺腔室、用于将该内部空间划分为等离子体生成空间和处理空间的离子阻挡器、用于该处理空间中支承基板的基板支承单元、用于排放处理空间的排放单元、定位在离子阻挡器的上方并通过离子阻挡器将用于退火的能量传输至基板的退火源、和用于将工艺气体供应至等离子体生成空间的气体供应单元，其中，离子阻挡器包括：本体，该本体成形为类似盘、由微波可传输的材料制成、且形成有多个通孔；以及透明导电氧化物膜，该透明导电氧化物膜以第一厚度或更小的厚度设置在本体的上表面和下表面中的至少一个上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117254246A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202310153569.0
申请日：2023-02-22
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 一种天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈，其中，第一线圈包括被施加电流的第一电源端子、连接到地的第一接地端子以及在第一电源端子和第一接地端子之间分路的第一分路电容器，第二线圈包括被施加电流的第二电源端子、连接到地的第二接地端子以及在第二电源端子和第二接地端子之间分路的第二分路电容器，第一线圈包括弧形的第一部分和弧形的第二部分，并且第一部分和第二部分整体形成单匝绕组，第二线圈包括弧形的第一部分和弧形的第二部分，并且第一部分和第二部分整体形成单匝绕组，第二部分的高度低于第一部分的高度，第二线圈的第二部分设置在第一线圈的第一部分的下方，以及第一线圈的第二部分设置在第二线圈的第一部分的下方。
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公开(公告)号：CN117238794A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310490685.1
申请日：2023-05-04
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/3065 , H01P1/203 , H01P5/12
Abstract: 本发明微波提供装置、包括微波提供装置的系统和制造半导体设备的方法。具体地，提供了一种系统，该系统包括：微波源，该微波源配置成生成微波；分支装置，该分支装置包括连接到微波源的输入端口；第一腔室和第二腔室，该第一腔室和第二腔室配置成通过使用微波来处理晶圆；第一过滤器，该第一过滤器配置成将微波传输到第一腔室或截止来自第一腔室的微波，并且连接到分支装置的第一输出端口；以及第二过滤器，该第二过滤器配置成将微波传输到第二腔室或截止来自第二腔室的微波，并且连接到分支装置的第二输出端口。
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公开(公告)号：CN117080040A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310539862.0
申请日：2023-05-15
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本公开提供了一种基板处理设备，以在单个装置中提供对基板的加热和等离子体处理，并且基板处理设备包括：处理容器，在其中容纳基板；支承构件，在处理容器中支承基板；等离子体提供单元，包括在处理容器内生成等离子体的电极；以及微波引入单元，连接到微波生成单元，并且向处理容器中引入微波。
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公开(公告)号：CN115776743A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211097956.9
申请日：2022-09-08
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。在实施方式中，所述基板处理设备包括：处理室，在所述处理室中具有用于处理基板的处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元被配置为在所述处理空间中支撑所述基板；以及微波施加单元，所述微波施加单元被配置为向所述处理空间施加微波，并且其中所述微波施加单元包括基于固态器件的微波功率发生器。
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公开(公告)号：CN119905421A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202411000077.9
申请日：2024-07-24
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 公开了一种基板处理装置和一种基板处理方法。该基板处理装置包括：腔室，该腔室包括在其内部限定的处理空间；基板支撑单元，该基板支撑单元被配置为在处理空间中支撑基板；微波单元，该微波单元被配置为向处理空间供应微波；窗口构件，该窗口构件布置在微波单元下方并且被配置为传输从微波单元供应的微波；传热板，该传热板布置在处理空间中以与窗口构件间隔开预定距离，并且被配置为由供应到处理空间的微波进行加热并且将热传递到基板；以及控制器，该控制器被配置为控制微波单元。
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