公开(公告)号：CN116387230A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202310004354.2

申请日：2023-01-03

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  曹玹玗 ,  李相政 ,  朴钟源 ,  孙亨圭

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01J37/20

Abstract: 本发明构思提供一种升降销单元、包括其的基板支承单元及基板处理设备。所述基板支承单元包含基座及升降销单元，所述基座支承基板且具有垂直形成的销孔，所述升降销单元配置为装载及卸载所述基座上的所述基板，且其中所述升降销单元包含可沿着所述销孔垂直移动的升降销；可由驱动单元垂直移动的支承件；连接所述支承件及所述升降销的销保持器，且其中所述升降销可枢转地连接至所述销保持器，且所述销保持器可相对于所述支承件侧向移动。

公开(公告)号：CN118213257A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202311725999.1

申请日：2023-12-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  金润相 ,  姜汉林 ,  曹玹玗 ,  李相政 ,  奉允根

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：离子阻断器，该离子阻断器将内部空间分为底侧处的第一空间和顶侧处的第二空间；支承单元，该支承单元配置为在第一空间支承基板；以及等离子体源，该等离子体源在内部空间产生等离子体，以及其中，在离子阻断器处形成多个通道，用于将流体从第二空间流动至第一空间，以及离子阻断器由介电物质制成，以及包括在等离子体中的离子和基团中的离子在穿过通道时被捕获。

公开(公告)号：CN117747470A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202310059363.1

申请日：2023-01-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  崔伦硕 ,  金润相 ,  曹玹玗 ,  李相政

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的实施例提供一种在利用微波的热处理工艺中能够以低费用调节基板的热分布的热处理装置以及其工作方法。根据本发明的使用微波的热处理装置包括：腔室，形成基板的热处理空间；基板支承单元，位于所述热处理空间的下部并支承所述基板；以及微波单元，位于所述热处理空间的上方并在所述热处理空间形成由所述微波形成的电磁场，所述基板支承单元包括：卡盘，固定在所述热处理空间的下部；升降驱动机构，支承所述基板且构成为使所述基板相对于所述卡盘上升或者下降；以及控制器，以基于所述基板的按照区域的温度分布而调节所述基板的高度的方式控制所述升降驱动机构。

公开(公告)号：CN115995408A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202211287319.8

申请日：2022-10-20

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  金润相 ,  赵顺天 ,  李相政 ,  曹玹玗 ,  朴钟源

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/263

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：多个处理腔室，其用于使用微波能量执行第一过程；一个微波发生器，其用于产生微波；波导，所述波导连接到所述多个处理腔室中的每一个和所述微波发生器；以及微波路径改变构件，所述微波路径改变构件设置在所述波导的微波传送路径处并且改变所述多个处理腔室中的一个所选腔室的微波传送路径。

公开(公告)号：CN117059464A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202310487686.0

申请日：2023-04-28

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李相政 ,  奉允根 ,  崔伦硕 ,  辛在原 ,  姜汉林 ,  朴钟源 ,  曹玹玗 ,  张径熏

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供一种基板处理设备，包括:具有处理空间的腔室、布置在所述腔室的上部并且配置以覆盖所述腔室的上表面的介质窗、以及布置在所述介质窗上并且配置以用于提供射频功率以从所述处理空间中的气体产生等离子体的射频源。其中，所述射频源包括设置在所述介质窗上的射频电极和设置在所述射频电极上的射频板，所述介质窗包括从所述介质窗的最上表面垂直向下延伸的凹槽，且所述射频板呈环形。

公开(公告)号：CN115995375A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202210967398.0

申请日：2022-08-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  赵顺天 ,  李相政 ,  曹玹玗 ,  朴钟源

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供等离子体处理装置。所述装置包括：腔室，具有产生等离子体的处理空间；以及等离子体产生单元，用于将处理空间内的气体激发为等离子体状态，其中，等离子体产生单元包括：第一电源，提供用于产生等离子体的电力；线圈部，与第一电源连接；第一并联电容器，连接在线圈部的第一节点与接地电源之间；以及第二并联电容器，连接在线圈部的不同于第一节点的第二节点与接地电源之间。

公开(公告)号：CN117254246A

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202310153569.0

申请日：2023-02-22

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  李相政 ,  辛在原 ,  曹玹玗 ,  朴钟源

IPC: H01Q1/36 ,  H01Q1/48 ,  H01Q1/22 ,  H01Q1/12

Abstract: 一种天线构件包括彼此旋转对称的第一线圈和第二线圈，其中，第一线圈包括被施加电流的第一电源端子、连接到地的第一接地端子以及在第一电源端子和第一接地端子之间分路的第一分路电容器，第二线圈包括被施加电流的第二电源端子、连接到地的第二接地端子以及在第二电源端子和第二接地端子之间分路的第二分路电容器，第一线圈包括弧形的第一部分和弧形的第二部分，并且第一部分和第二部分整体形成单匝绕组，第二线圈包括弧形的第一部分和弧形的第二部分，并且第一部分和第二部分整体形成单匝绕组，第二部分的高度低于第一部分的高度，第二线圈的第二部分设置在第一线圈的第一部分的下方，以及第一线圈的第二部分设置在第二线圈的第一部分的下方。

公开(公告)号：CN117238794A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202310490685.1

申请日：2023-05-04

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔伦硕 ,  姜汉林 ,  曹玹玗 ,  李相政

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01P1/203 ,  H01P5/12

Abstract: 本发明微波提供装置、包括微波提供装置的系统和制造半导体设备的方法。具体地，提供了一种系统，该系统包括：微波源，该微波源配置成生成微波；分支装置，该分支装置包括连接到微波源的输入端口；第一腔室和第二腔室，该第一腔室和第二腔室配置成通过使用微波来处理晶圆；第一过滤器，该第一过滤器配置成将微波传输到第一腔室或截止来自第一腔室的微波，并且连接到分支装置的第一输出端口；以及第二过滤器，该第二过滤器配置成将微波传输到第二腔室或截止来自第二腔室的微波，并且连接到分支装置的第二输出端口。