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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101584019B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200780050053.2
申请日：2007-12-03
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 约瑟·P·迪宰桔雷斯契 , 摩根·D·艾文斯 , 杰·汤玛斯·舒尔 , 亚瑟温·谢帝 , 肯尼士·史温森
IPC: H01J37/244 , H01J37/317 , G01R19/00
CPC classification number: G01R33/07 , B82Y25/00 , G01R19/0061 , G01R33/093 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24405 , H01J2237/24535 , H01J2237/24564 , H01J2237/304 , H01J2237/31703
Abstract: 本发明提供一种用于对离子注入机的法拉第杯进行磁性监控的方法。本发明包括：真空室及位于真空室内的法拉第杯，此法拉第杯用以在进入真空室的离子束路径内移动；磁性监控器放置于真空室周围，用以区分与法拉第杯相关联的磁场与杂散磁场。
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公开(公告)号：CN101584018A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200780049119.6
申请日：2007-11-08
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 乔纳森·吉罗德·英格兰 , 克里斯多夫·R·汉特曼 , 杰·汤玛斯·舒尔 , 约瑟·C·欧尔森
IPC: H01J37/08 , H01J37/302 , H01J37/317 , H01J27/02
CPC classification number: Y02E60/324
Abstract: 本发明揭示一种用于产生原子或分子离子束的具有双抽吸模式的离子植入装置及其方法。在一个特定示范性实施例中，提供一种离子植入设备，其用于控制对应于所产生的离子束种类的离子束源外壳内的压力。离子植入设备可包含离子束源外壳，其包括用于离子束产生的多个种类。还可包含抽吸区段，用于从离子束源外壳排放气体。可进一步包含控制器，用于根据对应于用于离子束产生的多个种类中的一种类的抽吸参数来控制抽吸区段。
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公开(公告)号：CN101578680A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200780049272.9
申请日：2007-11-08
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 克里斯多夫·R·汉特曼 , 杰·汤玛斯·舒尔 , 拉塞尔·J·罗 , 摩根·D·艾文斯 , 乔纳森·吉罗德·英格兰
IPC: H01J7/18 , H01J27/02 , H01J37/317 , C01B3/00
CPC classification number: Y02E60/324
Abstract: 一种从离子注入机移除分子裂片的技术。在一实施例中，此技术可以是用于从离子注入机移除分子裂片的装置。该装置包括供应机构，其配置为耦接离子源室并向该离子源室供应进料材质。该装置还包括一种或多种氢吸收材质，其放置在进料材质的引流路径内，用以防止进料材质中的至少一部分含氢分子裂片进入离子源室。
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公开(公告)号：CN101584018B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200780049119.6
申请日：2007-11-08
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 乔纳森·吉罗德·英格兰 , 克里斯多夫·R·汉特曼 , 杰·汤玛斯·舒尔 , 约瑟·C·欧尔森
IPC: H01J37/08 , H01J37/302 , H01J37/317 , H01J27/02
CPC classification number: Y02E60/324
Abstract: 本发明揭示一种用于产生原子或分子离子束的具有双抽吸模式的离子植入装置及其方法。在一个特定示范性实施例中，提供一种离子植入设备，其用于控制对应于所产生的离子束种类的离子束源外壳内的压力。离子植入设备可包含离子束源外壳，其包括用于离子束产生的多个种类。还可包含抽吸区段，用于从离子束源外壳排放气体。可进一步包含控制器，用于根据对应于用于离子束产生的多个种类中的一种类的抽吸参数来控制抽吸区段。
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公开(公告)号：CN101584019A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200780050053.2
申请日：2007-12-03
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 约瑟·P·迪宰桔雷斯契 , 摩根·D·艾文斯 , 杰·汤玛斯·舒尔 , 亚瑟温·谢帝 , 肯尼士·史温森
IPC: H01J37/244 , H01J37/317 , G01R19/00
CPC classification number: G01R33/07 , B82Y25/00 , G01R19/0061 , G01R33/093 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24405 , H01J2237/24535 , H01J2237/24564 , H01J2237/304 , H01J2237/31703
Abstract: 本发明提供一种用于对离子注入机的法拉第杯进行磁性监控的方法。本发明包括：真空室及位于真空室内的法拉第杯，此法拉第杯用以在进入真空室的离子束路径内移动；磁性监控器放置于真空室周围，用以区分与法拉第杯相关联的磁场与杂散磁场。
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