一种沟槽栅半导体器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN116646399A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310531126.0

    申请日:2023-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种沟槽栅半导体器件及其制备方法,所述沟槽栅半导体器件包括:P+衬底;位于所述P+衬底上的N‑漂移区;位于所述N‑漂移区一侧的多阶介质层和P阱区,位于所述N‑漂移区另一侧的N+漏区;其中,所述多阶介质层内设有多晶硅栅,所述P阱区内设有N+阱区和P+区。在N‑漂移区引入多阶介质层,并利用台阶侧壁形成极薄的栅极氧化物,进而构成沟槽型的MOS结构,多晶硅下方和靠近漏极侧具有较厚的介质层;降低了LDMOS器件电场峰值和饱和电流密度,同时保持了器件优异的正向导通特性。

    一种SoPC芯片自主重构软配置方法

    公开(公告)号:CN104461620A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410708138.7

    申请日:2014-11-27

    Abstract: 一种SoPC芯片自主重构软配置方法,对SoPC芯片的自重构软配置电路技术进行研究,提出了一种SoPC芯片自主重构软配置方法,本发明方法充分利用配置接口可控性的特征,将处理器的GPIO接口与FPGA芯片的配置接口相连,构建物理数据通路和配置链路,通过控制GPIO接口的信号输出、采集和通过接口电平变化实现配置时序和配置数据,完成自重构操作。本发明方法与传统的重构配置方法相比无需在SoPC芯片添加FPGA专用的配置芯片即可实现系统的自主重构操作,有效的减小了SoPC芯片的体积,同时SoPC芯片内部用于控制实现自主重构操作的信号少,降低了设计复杂度。

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